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991.
非线性系统非平稳随机响应矩计算的Newmark递推算法 总被引:2,自引:2,他引:0
利用Newmark离散化格式,结合时变等价线性化步骤,导出了计算非线性系统受白噪声和非白噪声随机激励作用下非平稳响应协方差矩阵的递推算法。该算法计算步骤简单,易于在计算机上实现,计算效率高。算例表明,其所得计算结果和MonteCarlo模拟结果符合较好。 相似文献
992.
993.
分辨率及多解性问题是地球物理勘探中长期存在的难题。针对这些问题,文中提出地球物理数据的综合参数法及对策,为解决这些问题进行了有效探索。 相似文献
994.
通过对不伸顶通气的排水立管的各种自循环通气模式进行通水能力的测试,总结了排水立管自循环通气的设计要点及基本特征.并针对在《建筑给水排水设计规范》(GB 50015-2003)建议提出有关条文修订设想,将测试成果纳入规范. 相似文献
995.
One-mask process for silicon accelerometers on Pyrex glass utilising notching effect in inductively coupled plasma DRIE 总被引:1,自引:0,他引:1
A one-mask process technology is proposed to fabricate silicon capacitive accelerometers using comb drive structures. A doped silicon wafer is anodically bonded on Pyrex glass substrate. High aspect ratio silicon accelerometer structures are micromachined using deep reactive ion etching (DRIE) and released from the glass substrate by further DRIE due to its notching effect. 相似文献
996.
人类X染色体短臂21.3—11.3区是含有视网膜色素变性等数种遗传病基因位点的区域。我们对这个具有重要医学生物学意义的区段进行了YAC重叠群构建。用这一区域已知的探针(OTC、DXS166、DMDcDNA)及STS位标,以YAC菌落原位杂交法及PCR法进行了YAC的筛选;也采用了法国CEPH和英国ICRF的部分YAC;总共得到了55个阳性YAC。对上述YAC进行了长度测定,26对微卫星STS图谱分析,单拷贝探针的杂交定位,Alu-PCR指纹图谱分析。综合上述信息,对这些YAC进行了排序,在Xp21.3-11.3区得到了6个0YAC重叠群,覆盖了约15Mb的范围。这些YAC重叠群的构建为开展该区域疾病基因的定位克隆(Positionalcloning)及DNA顺序测定奠定了基础。 相似文献
997.
Zengfeng Di Miao Zhang Weili Liu Chenglu Lin Paul K. Chu 《Materials Science in Semiconductor Processing》2004,7(4-6):393
Fabrication of a thick strained SiGe layer on bulk silicon is hampered by the lattice mismatch and difference in the thermal expansion coefficients between Si and SiGe, and a high Ge content leads to severe strain in the SiGe film. When the thickness of the SiGe film is above a critical value (90 nm for 18% Ge), drastic deterioration of the film properties as well as dislocations will result. In comparison, a silicon-on-insulator (SOI) substrate with a thin top Si layer can mitigate the problems and so a thick SiGe layer with high Ge concentration can conceivably be synthesized. In the work reported here, a 110 nm thick high-quality strained Si0.82Ge0.18 layer was fabricated on an ultra-thin SOI substrate with a 30 nm top silicon layer using ultra-high vacuum chemical vapor deposition (UHVCVD). The thickness of the SiGe layer is larger than the critical thickness on bulk Si. Cross-sectional transmission electron microscopy (XTEM) reveals that the SiGe layer is dislocation-free and the atoms at the SiGe/Si interface are well aligned, even though X-ray diffraction (XRD) data indicate that the SiGe film is highly strained. The strain factors determined from the XRD and Raman results agree well. 相似文献
998.
小型水电站水轮机转轮及叶片的汽蚀直接影响到水轮机的使用寿命和效率,正确地确定水轮机吸出高度是避免或减少汽蚀的主要途径之一。传统的方法由于采用统一的计算公式,而没有全面考虑具体电站的特点,导致转轮及叶片在运行中仍然发生不同程度的汽蚀。本文通过总结河南省小水电站设计中的应用情况,介绍确定水轮机吸出高度另一种方法即水头比例法,可供小水电站设计中参考。 相似文献
999.
1000.