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讨论了在电梯操控中点阵显示的特点及技术可行性,重点介绍了一种以8751系列单片计算机W78E51为主控芯片的点阵电路吸它的扩展性能并给出几种输入输出控制方案和编程的框架。 相似文献
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空间作为市场产品和生活品质的资源,具有双重角色。本文建立在作者另一篇文章的基础上:《地势的价值:东德的城市变革》,UDI(2005)10,115—136。该文以一含德国人的视角预设了欧洲的未来景象,首先假定那些由晚期工业情况产生的挑战没有对市场和社会力量的综合体发挥作用,那么最终的、有功能和空间区别的工业进程就会表现出非预期的现代化影响,并阻碍了促使城市可持续发展的结构变革。为了促进对生产空间的当代途径的现有认识,本文从两个论点展开论述:第一,空间被越来越多的人们看做是晚期工业经济的主要产品;第二,由于土地使用的工业模式不断退化,空间同样失去其价值。这篇论文根据对这种空间的有效贡献问题,检测了在他们的历史背景下的四个领域。这些领域被认为是对使用价值进行引导的相关部分,可以提供自欧洲现代运动之日起,对生产、维持和转化空间的文化的各种学科的理解。 相似文献
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网络大规模建设需投入大量软硬件和基础设施资源,无线网络作为终端接入网络的重要环节,在建网和维护升级阶段涉及大量的资源投入.当前,资源管理线条缺少集中化管理手段,导致烟囱化管理,数据质量参差不齐,无法客观了解全网资源分布等问题.本文从无线资源统一数据模型的制定入手,实现数据集中化管理,进而分析如何提升资源数据质量,达到有... 相似文献
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This paper describes a method using both reduced pressure chemical vapor deposition (RPCVD) and ultrahigh vacuum chemical vapor deposition (UHVCVD) to grow a thin compressively strained Ge film. As the first step, low temperature RPCVD was used to grow a fully relaxed SiGe virtual substrate layer at 500 ℃ with a thickness of 135 nm, surface roughness of 0.3 nm, and Ge content of 77%. Then, low temperature UHVCVD was used to grow a high quality strained pure Ge film on the SiGe virtual substrate at 300 ℃ with a thickness of 9 nm, surface roughness of 0.4 nm, and threading dislocation density of - 10^5 cm^-2. Finally, a very thin strained Si layer of 1.5-2 nm thickness was grown on the Ge layer at 550 ℃ for the purpose of passivation and protection. The whole epitaxial layer thickness is less than 150 nm. Due to the low growth temperature, the two-dimensional layer-by-layer growth mode dominates during the epitaxial process, which is a key factor for the growth of high quality strained Ge films. 相似文献
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本文研究了间苯二酚与硫酸二乙酯在碱性条件下,于四氯化碳-水两相体系中,选择性合成3-乙搓在苯酚的反应。 相似文献
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