全文获取类型
收费全文 | 643篇 |
免费 | 53篇 |
国内免费 | 11篇 |
学科分类
工业技术 | 707篇 |
出版年
2024年 | 5篇 |
2023年 | 18篇 |
2022年 | 24篇 |
2021年 | 25篇 |
2020年 | 22篇 |
2019年 | 25篇 |
2018年 | 33篇 |
2017年 | 14篇 |
2016年 | 32篇 |
2015年 | 23篇 |
2014年 | 52篇 |
2013年 | 31篇 |
2012年 | 37篇 |
2011年 | 40篇 |
2010年 | 28篇 |
2009年 | 37篇 |
2008年 | 28篇 |
2007年 | 35篇 |
2006年 | 37篇 |
2005年 | 32篇 |
2004年 | 33篇 |
2003年 | 13篇 |
2002年 | 8篇 |
2001年 | 9篇 |
2000年 | 10篇 |
1999年 | 10篇 |
1998年 | 6篇 |
1997年 | 3篇 |
1996年 | 2篇 |
1995年 | 3篇 |
1994年 | 2篇 |
1993年 | 2篇 |
1990年 | 4篇 |
1988年 | 2篇 |
1987年 | 1篇 |
1986年 | 2篇 |
1984年 | 3篇 |
1983年 | 6篇 |
1982年 | 5篇 |
1981年 | 2篇 |
1980年 | 1篇 |
1979年 | 2篇 |
排序方式: 共有707条查询结果,搜索用时 15 毫秒
691.
本文对两种常用的脱毛蛋白酶(2709碱性蛋白酶与A.S1398蛋白酶)在不同pH值、温度等条件下的活力变化情况进行了研究.结果表明:2709蛋白酶的活力最适pH值为9.5~10,A.S1398蛋白酶为7.5~8.0且2709酶的pH值适应范围更广,对pH值的敏感度更低;两种酶活力的温度变化曲线具有相似性,温度越高,它们的活力衰减得也越快;两种蛋白酶受Mn2+强激活,Cu2+、Cr3+、Fe2+、Zn2+等离子则对其有抑制作用;表面活性剂如洗衣粉、平平加和JFC等对两种酶具有一定的激活作用. 相似文献
692.
用光学显微镜、扫描电镜及组织切片法分别对酶脱毛不同时间段内的毛根组织结构及不同脱毛方法的灰皮进行组织结构观察,结果可以解释说明不同脱毛方法的作用机理. 相似文献
693.
多功能基共改性聚甲基三氟丙基硅氧烷的合成表征与膜形貌 总被引:2,自引:0,他引:2
通过聚甲基三氟丙基含氢硅氧烷与端烯丙基聚氧乙烯醚、丙烯酸十八醇酯、烯丙基缩水甘油醚的硅氢化加成反应,制备了一种十八酯基/聚醚/环氧基共改性聚甲基三氟丙基硅氧烷(PSA-PFMS)。用红外光谱(FT-IR)、核磁共振氢谱(1H-NMR)、场发射扫描电镜(FESEM)、原子力显微镜(AFM)等仪器分别对PSA-PFMS的结构、成膜形态及性能进行表征和研究。结果表明,在棉纤维和单晶硅表面,PSA-PFMS均可成膜。在单晶硅表面,可形成粗糙度大(2μm×2μm的扫描范围内,硅膜的均方粗糙度达1.197 nm)、呈微观相分离结构的疏水膜。该膜附着在纤维表面,能使处理后织物表面水的静态接触角达到129.2°。 相似文献
694.
695.
696.
本文探讨了沙发革的涂饰工艺,结果表明用此工艺生产的沙发革涂层粘着力强,耐干湿擦性能良好,其性能满足沙发使用要求;此外,还总结了提高沙发革涂层性能应注意的几点问题。 相似文献
697.
文中探讨了变电所运行现场中各种干扰对二次设备系统的影响和破坏,分析了干扰产生的原因和危害.从系统的软硬件设计上提出解决二次干扰的有效措施. 相似文献
698.
以四甲基氢氧化铵(THMA)为催化剂,八甲基环四硅氧烷(D4)、四甲基四乙烯基环四硅氧烷(D4Vi)和甲基三乙氧基硅烷(MTES)进行阴离子聚合制备羟基封端的乙烯侧基聚硅氧烷中间体;再使此中间体与含氢硅油进行硅氢化加成反应制备疏水性交联聚硅氧烷(JPDMS);然后,在复合乳化剂(AEO3/AEO9)作用下,聚氨丙基/甲基倍半硅氧烷纳米球(PAMSQ)与JPDMS反应,制得阳离子聚硅氧烷纳米杂化聚合物(PAMSQ-JPDMS)乳液。考察了引入的PAMSQ粒径和含量及PAMSQ-JPDMS乳液用量对处理后皮革(PAMSQ-JPDMS/Lea)性能的影响;并用XPS和FESEM分别研究了皮革表面化学组成和微观形貌。结果表明,产物具有预期的结构。当PAMSQ的平均粒径为128.7 nm,含量为15%,PAMSQ-JPDMS乳液固含量为1.2%时,处理后PAMSQ-JPDMS/Lea的疏水性最优,水静态接触角163.8°,水蒸气透过率达3074.01 g/(m2·day),耐干擦牢度优良。XPS和FESEM证实了皮革表面形成的一层致密硅膜和大量仿荷叶纳米凸起是超疏水表面构筑的内因。 相似文献
699.
目的研究离子源功率对a-C:H(Al)薄膜结构及性能的影响。方法采用阳极离子源离化CH_4气体,中频磁控溅射Al靶,通过改变离子源功率,在n(100)型单晶硅及16Mn Cr5钢基体上沉积a-C:H(Al)薄膜。利用扫描电镜、维氏显微硬度计、摩擦磨损试验机和表面轮廓仪等设备对a-C:H(Al)薄膜的结构及性能进行表征。结果薄膜的硬度均在1000HV以上。摩擦系数较低,为0.05~0.15。离子源功率为450 W时,薄膜摩擦系数和结合力均出现了最优值,分别为0.05和21.46 N。离子源功率在550 W时,磨损率达到最低值,为3.59×10~(-7) mm~3/(N·m)。结论离子源功率较低时,薄膜表面较疏松,随着离子源功率的增加,薄膜逐渐趋于平整致密。随离子源功率的增加,薄膜的硬度增大,薄膜的结合力先增大后减小,而薄膜的摩擦系数先减小后增大,磨损宽度减小,磨损深度降低,磨损率减小。 相似文献
700.
结合金圆大厦项目设计实例,分析探讨若干超高层总部大楼建筑电气设计要点:(1)夜景照明;(2)变配电室选址;(3)变压器的选择及设备通道设计;(4)谐波治理;(5)电线电缆选择;(6)智能配电。为超高层总部大楼电气设计提供一些参考。 相似文献