排序方式: 共有76条查询结果,搜索用时 31 毫秒
11.
12.
针对超声波雾化施液化学机械抛光过程中磨料的机械作用和化学特性从化学动力学及分子动力学两方面研究了抛光液磨料粒度对材料去除速率的影响和机理.采用不同粒度的磨料及组合进行了雾化施液CMP抛光实验.实验结果表明:磨料粒径在15 nm至30 nm范围内,粒度比较大的磨料能够传递更多的机械能,较小的磨料比较大的磨料具有更强的化学活性,对硅片表面材料的去除影响更为显著.向当前抛光液中加入5wt;的15 nmSiO2时,材料去除率增加至196.822 nm/min,而加入相同质量的30 nm SiO2时,材料去除率增加至191.828 nm/min.说明小尺寸的磨料在雾化施液CMP过程中不仅起着机械作用,还起着增强化学活性的作用. 相似文献
13.
采用精细雾化施液CMP这一抛光工艺对氧化锆陶瓷进行抛光,实验研究了抛光液中具有代表性的酸碱调节剂对抛光氧化锆陶瓷材料去除率、表面形貌和表面粗糙度的影响及酸碱性对精细雾化施液分散稳定性的影响.结果表明:针对精细雾化液抛光工艺配制的二氧化硅抛光液在碱性环境中分散稳定性更好,虽然酸性抛光液对材料去除率更高,但酸对氧化锆陶瓷表面腐蚀性过大,不宜抛光氧化锆陶瓷;有机碱作为调节剂抛光后的表面质量明显优于无机碱及无机酸、有机酸;乙二胺配置的碱性抛光液精细雾化后抛光氧化锆陶瓷可获得优质超光滑低损伤表面及较高加工效率,表面粗糙度Rq为1.67 nm,材料去除率达182.23 nm/min. 相似文献
14.
采用激光位移干涉测试技术测量了AD95 陶瓷在一维应变冲击压缩下的自由面或样品/窗口界面粒子速度剖面, 确定了层裂强度及其与加载应力的变化关系, 在此基础上讨论了冲击压缩损伤程度与加载应力的关系. 研究结果表明: AD95陶瓷发生冲击压缩损伤的阈值应力约为3.7 GPa, 小于其雨贡纽弹性极限(HEL, 约5.47 GPa); 小于阈值应力不发生冲击压缩损伤, 层裂强度随加载应力的增加逐渐增大; 大于阈值应力冲击压缩损伤快速发展, 层裂强度迅速降低; 在HEL附近层裂强度降低到零, 丧失了抗拉能力, 表明材料发生了严重的冲击压缩损伤. 相似文献
15.
16.
17.
L3t[1]istherealsecondclassicaldomains.ThemapdefinedbyW~(I T)--'(I--T)carriesRillontotheunboundeddomainWhichisinvariantfinderthelineartransformationW=ATA',whereAisannxnupertrianglarmatrixwithpositivediagonalelements.SuchtransformationsformaLiegroupRill(n),whichisequivalenttoRillunderthemapdefinedbyW=AA'.TheAiscalledthehoro-hypercirclecoordinateofRRII.Itiswell-knownthatinRillthereisanillvariantmetricdsZ=tr[(I--KW)--'dW]'.InRHI,,whichisequaltothemetricdsZ=fir[(W--'dW)'].Inthehoro-h… 相似文献
18.
有机合成实验是化学专业学生重要单列实验课程,目前选用的有机合成实验项目多为单步骤合成操作,对学生多步合成的衔接、化合物的检测和鉴定等方面的训练存在不足。7-硝基苯并噻吩-2-甲酸乙酯的合成是本校应用化学专业学生有机合成实验课程中的一个综合训练项目,但存在耗时较长、产率不稳定,后处理难度较大及使用有毒试剂等问题。本项目旨在改进苯并噻吩环系的合成方法和步骤,降低试剂用量,提高产率,优化后处理过程,减少有毒物使用和三废排放,使之更符合教学实验和绿色化学要求;同时,改进后的实验增加了有机波谱分析内容,训练学生通过红外光谱、核磁共振氢谱及质谱等方式对目标化合物进行表征,更有利于学生综合素质的培养。 相似文献
19.
Busemann函数在对完备Riemann流形上的拓扑与几何问题的研究中起作十分重要的作用。而显式求出一个域上的Busemann函数将有助于一些问题的解决。在本文中,我们显式求出了对称空间SU~*(2n)/sp(n)上的Busemann函数。 相似文献
20.