低温沉积制造壳聚糖-纳米羟基磷灰石支架

为满足骨组织工程对支架孔隙可控及良好力学性能的要求, 基于低温沉积制造方法, 加工了壳聚糖-纳米羟基磷灰石多孔组织工程支架. 开发了载荷力挤出喷头, 实现了加工过程材料挤出的均匀性, 层与层粘接良好. 研究了支架分级结构的形成规律, 支架孔隙由大孔和微孔组成, 大孔完全联通, 且大小完全可控; 微孔由材料配比, 成型温度, 交联剂等参数影响, 较高的纳米羟基磷灰石含量获得较小的孔隙; 较低的成型温度获得更大的孔隙, 交联剂使微孔变小. 小鼠前成骨细胞系MC3T3-E1支架培养结果表明, 较高的纳米羟基磷灰石含量提高了支架的生物活性, 联通的大孔, 保证了细胞爬行至支架的中心位置.     

The Effect of Elastic Deformation in a New Style Elastic Squeeze Oil Film Damper on Its Vibration Absorption Characteristics

ＴｈｅＥｆｆｅｃｔｏｆＥｌａｓｔｉｃＤｅｆｏｒｍａｔｉｏｎｉｎａＮｅｗＳｔｙｌｅ　ＥｌａｓｔｉｃＳｑｕｅｅｚｅＯｉｌＦｉｌｍＤａｍｐｅｒｏｎＩｔｓＶｉｂｒａｔｉｏｎ　Ａｂｓｏｒｐｔｉｏｎ　ＣｈａｒａｃｔｅｒｉｓｔｉｃｓＲＵＡＮＪｉｎｇｂｉａｏ；ＬＩＵ...     

求解点接触弹流润滑问题的多重网格法

将近些年来发展完善起来的多重网格法引入点接触弹流润滑问题的数值求解，介绍了该方法的基本思想和应用于弹流问题求解的具体实施过程，与传统的固定网格上迭代求解结果相比，该方法求解速度快，精度高。     

一种含吡啶环的单阳离子表面活性剂的合成

在三氟化硼乙醚溶液催化下,正辛醛与环氧溴丙烷首先反应生成2-庚基-4-溴甲基-1,3-二氧杂环戊烷,然后再与吡啶反应,研究合成了一种新型的含吡啶环的单阳离子表面活性剂(2-庚基-1,3-二氧杂环-4)甲烷-1-吡啶盐。产物结构经红外光谱和1HNMR分析表征并测定其电导率,该表面活性剂的临界胶束浓度为4.0×10~(-3) mol/L,表面活性强于传统表面活性剂。     

变向恒速平动研磨机的研制

所研制的变向恒速平动研磨机,其工件平面相对于研磨盘的运动速度大小恒定,而方向沿圆周轨迹的切线方向循序渐变.分析与试验表明该实验机可获得高的研磨质量和高的生产率,并具有长寿命、对加工及安装精度要求低等特点.     

圆平动化学机械研抛过程的流体动力性能分析

根据圆平动化学机械研抛(C ircular-translational-moving Chem icalMechan ical Polishing,CTM-CMP)的运动关系,建立了极坐标下非稳态流体膜厚方程和非稳态下牛顿流体在CTM-CMP过程中的润滑方程。利用有限差分法数值求解获得了瞬时工件与研抛盘间的压力分布和膜厚分布,分析了压力积分载荷、倾覆力矩与研抛速率及姿态角的变化关系。结果表明CTM-CMP过程易于形成负压,有利于提高研磨效率。随着研抛速率的增加,承载能力和倾覆力矩线性增加;随着倾角的增加,承载能力和倾覆力矩非线性增大。分析结果有助于指导CTM-CMP的应用。     

碳化硅超声-电化学机械抛光试验研究

为探究超硬脆碳化硅(Si C)材料的高效研抛方法,分别应用铸铁抛光盘、聚氨酯抛光盘、半固结磨粒抛光盘在自来水、KOH溶液、芬顿反应液3种研抛液中通过控制变量法对Si C进行了超声-电化学机械研抛试验,得到以试件材料去除率和表面质量为评价指标的优化抛光工艺参数.试验结果表明:使用铸铁抛光盘时材料去除率高,但表面质量差;使用半固结磨粒抛光盘时表面质量最好,但材料去除率低;芬顿反应液对提高试件的材料去除率效果最好;在试件与抛光盘之间的电压为+10 V时,试件的材料去除率最高,比无电压时提高了55.1%;当试件保持环施加超声振动后,比无超声时材料去除率提高了91.7%,可见超声振动对Si C试件抛光起主要作用.     

考虑双电层作用的电化学边界摩擦模型

以外加电作用下的边界摩擦系统为对象 ,提出了考虑双电层作用的电化学边界摩擦理论模型 ,为涉及电加工等场合下的摩擦磨损研究提供了理论依据。     

硅化石墨的摩擦性能的试验研究

在 ＭＰＸ２００型环／环试验机上，对油和水介质润滑下的硅化石墨／硅化石墨、２０Ｃｒ钢／硅化石墨的摩 擦性能进行了实验评价。结果表明，水润滑下硅化石墨的摩擦系数为 ０．０１～０．０２左右，远小于油润滑下 的摩擦系数。对其摩擦化学作用机理进行了探讨。     

超声辅助抛光流场规律CFD仿真分析

为探究超声辅助抛光的作用机理,利用FLUENT非稳态动网格湍流和离散相模型并结合mixture的空化模块,仿真分析不同超声振动参数对流场绝对压强、流速和气含率分布的影响以及各参数间存在的相互作用规律.仿真结果表明:超声空化作用主要集中在试件正下方的小范围区域内,即试件的有效加工区域,进而可以确定流场所需最小膜厚;流场绝对压强、速度等参数一个周期内出现两次峰值,周期内气泡长大后受压溃灭过程分为两个阶段,表明超声振动下流场存在二次空化现象,二次空化在抛光过程中强化了空蚀效应;周期变化过程中,流场同一位置的不同参量、同一参量在不同位置与超声的周期性振动间均存在不同程度的滞后现象;超声振动使流体内产生超声纵波,遇到抛光盘发生反射并伴随半波损失;膜厚足够大时,则会形成驻波,试件表面处振幅最大,有利于提高超声辅助的抛光效果;利用有效加工区域和驻波现象可以使试件加工效果达到最优,二次空化和滞后现象有助于揭示超声辅助抛光过程的作用机制和规律.