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铸渗熔铝铁埚及其抗高温氧化机理研究 总被引:6,自引:1,他引:6
在对熔铝铸铁坩埚高温氧化生长失效分析的基础上,应用超重力场铸渗表面合金化技术研制开发了具有高铝、硅合金化表层的新型熔铝铸铁坩埚,探讨了铸渗铁埚的抗高温氧化生长机理。生产应用试验表明:铸渗铁埚的使用寿命是相同材质普通铸铁坩埚的3~4倍。 相似文献
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为了实时监测石化反应器内部高温、高压环境下压力和温度变化, 严格控制原料的反应过程, 采用法布里-珀罗(F-P)多腔干涉理论, 设计并制备了一种光纤F-P温度、压力复合传感器。该传感器由石英玻璃和蓝宝石玻璃构成, 石英与蓝宝石之间的空气腔为压力腔, 温度腔则为蓝宝石本身。通过理论计算和仿真验证, 分析了压力腔和温度腔不同参数对传感器性能的影响, 从而取得了最佳的传感器结构参数数据。结果表明, 该传感器制作工艺简单且性能可靠, 能够实现0MPa~5MPa和-20℃~300℃范围内压力和温度的同时测量; 该传感器在压力0.1MPa~5MPa和温度20℃~180℃环境下有良好压力温度线性响应关系, 压力灵敏度为796nm/MPa, 温度灵敏度为3.864nm/℃。该传感器适用于石化反应器内部高温高压环境下压力和温度的同时监测。 相似文献
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本课题研究了温度自补偿对FBG压力传感器的作用。在压缩和牵拉FBG或温度变化时,FBG周期与反射率会发生变化,从而使光纤光栅中心波长相应漂移。本课题设计的FBG传感器,可以用来分析中心波长漂移与水位的对应变化关系,同时消除环境温度与结构热膨胀的影响。与通常的FBG传感器相比,该传感器的结构用来消除温度对压力测量结果的影响,实现温度的自补偿,对于解决温度和压力交叉敏感的问题具有指导性意义。本课题分析了传感原理,进行了温度和压力测试,显示出传感器性能优良,在0-500厘米的水位压力内,精度达5‰FS,分辨率1.3cm,重复性误差0.863%,线性误差0.415%. 相似文献
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脉冲激光双光束沉积掺Mg的GaN薄膜的研究 总被引:4,自引:2,他引:4
采用脉冲激光双光束沉积系统在Si(111)衬底上生长了掺Mg的GaN薄膜和未掺杂GaN薄膜。利用X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)、室温范德堡霍尔测量及光致发光(PL)光谱对两类薄膜进行对比分析,结果显示,所生长的GaN薄膜均为六方纤锌矿晶体结构,掺Mg可细化所生长的GaN薄膜晶粒。随着掺Mg量的增加,GaN薄膜无需后处理即可由”型导电转化为p型导电,GaN薄膜的光学性能随p型载流子浓度增大而提高;然而掺Mg却导致GaN薄膜结晶质量下降,掺镁量过大的GaN薄膜中p型载流子浓度反而减少,光致发光中黄发射峰增强较大。研究表明通过优化脉冲激光双光束沉积参数无需任何后处理可直接获得高空穴载流子浓度的p型GaN薄膜。 相似文献
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砂型(芯)-金属界面气氛地钢铁铸铁气孔缺陷有很大影响。本文采用四种含氮呋喃树脂砂浇注铸钢液,对砂型(芯)_钢液界面的气体分解产物浓度进行了测定。 相似文献
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研究了单球金属型工艺生产多元低合金磨球变质前后组织与性能,论述了成分,变质,金属型对生产低合金磨球的作用。 相似文献
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锂离子电池因其高能量密度、环保性和长循环寿命等优点,近年来已广泛用于各种储能应用。然而,储能电池运行安全问题频繁发生,稳定性和可靠性等方面仍需改进。目前,检测锂离子电池温度和应变的方法主要包括热电偶温度传感器、电阻温度传感器和电阻应变计等。然而,这些方法存在一些限制,例如不能全面测量电池整体温度,以及传感器尺寸较大,难以嵌入电池内部。在此基础上介绍了几种基于FBG的储能锂离子电池温度与应变监测技术,同时比较了它们之间的优点和缺点,最后总结并展望了FBG在锂离子电池温度与应变监测中的发展前景。 相似文献
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为了解决因碳纤维/环氧树脂复合材料构件中树脂基体与碳纤维间的热膨胀系数存在差异, 热压成型后, 内部未释放的残余应力会使材料构件发生残余应变, 造成构件变形、影响制品质量的问题, 采用光纤布喇格光栅(FBG)传感器在线监测实验研究和有限元仿真分析相结合的研究方法, 进行了理论分析和实验验证, 采集了碳纤维/环氧树脂复合材料环形构件热压罐成型后表面残余应变变化实时数据。结果表明, 该构件下法兰根部应变释放情况复杂, 靠近支承位置处的残余应变释放受阻, 而其余监测点位的残余应变普遍在30με~90με的范围内, 与仿真结果相符; FBG传感器能对构件成型后残余应变释放历程进行多点位实时在线监测, 并实现对构件整体应变分布的分析和预警。该研究具有一定科学研究和工程应用意义。 相似文献
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直流放电辅助脉冲激光沉积Si基GaN薄膜的结构特征 总被引:6,自引:1,他引:6
采用直流放电辅助脉冲激光沉积技术,在Si(111)衬底上生长了Ga N薄膜.XRD、AFM、PL 和Hall测量的结果表明在2~2 0 Pa沉积气压范围内,提高沉积气压有利提高Ga N薄膜的结晶质量;在15 0~2 2 0 m J/ Pluse入射激光脉冲强度范围内,随着入射激光脉冲强度的提高,Ga N薄膜表面结构得到改善.研究发现,在70 0℃衬底温度、2 0 Pa的沉积气压和2 2 0 m J/ Pluse的入射激光脉冲强度的优化工艺条件下,所沉积生长的Ga N薄膜具有良好的结构质量和光电性能. 相似文献