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考虑机械刻划光栅刻线摆角对平面光栅衍射波前质量的影响,本文根据光栅机械刻划过程的特点,提出了一种单压电执行器调节方法。该方法可通过不断调节微定位工作台位移,实时修正工作台摆角导致的光栅刻线摆角误差。首先,推导出了微定位工作台位移实时修正公式。接着,采用三路干涉仪实现了微定位工作台摆角测量及其主要成分分析。最后,进行了光栅刻线摆角放大和校正实验。结果显示,摆角放大和摆角校正实验已基本达到了预期的效果,对光栅宽度为10.4mm且刻线密度为600line/mm的光栅进行修正后,光栅刻线摆角比校正前降低了64%以上。这些结果表明:采用单压电执行器方法对光栅刻线摆角进行实时修正可有效降低光栅刻线摆角,提高光栅质量;该方法可应用于大面积机械刻划光栅刻线摆角的修正。 相似文献
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冷冻鱼糜生产工艺技术研究 总被引:3,自引:0,他引:3
本文研究了冷冻鱼糜的加工工艺,重点研究了海水小杂鱼冷冻鱼糜的采肉、漂洗、脱水、添加冷冻变性防止剂和冻结贮藏等工艺流程和操作方法. 相似文献
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研究α-NaYF4∶Yb,Er上转换纳米粒子的W/O微乳液溶剂热制备,并用正硅酸乙酯为SiO2前驱体对NaYF4∶Yb,Er上转换纳米粒子进行SiO2包覆,分析SiO2包覆对Er3+发光增强作用来自于两方面。包覆弥补上转换纳米粒子表面的发光粹灭中心,提高上转换发光强度。同时由于Si—O—Si的对称振动能量1 106 cm-1与4F7/2能级到2H11/2能级弛豫能量1 177cm-1相当,(CH2)n的红外振动模能量为743 cm-1与2H11/2能级到4S3/2弛豫能量780 cm-1相当,4F7/2能级到4F9/2弛豫能量为5 023 cm-1,4I11/2能级到4I13/2弛豫能量接近4 500 cm-1,与Si—O—Si的对称伸缩振动能量1 106 cm-1不匹配,所以SiO2包覆能有效的增加表面发光中心2H11/2,4S3/2能级布居数,而使得产生红光发射的能级4F9/2能级布居数不变。 相似文献
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光栅刻划机工作台性能及其控制算法是直接影响大面积光栅刻划精度的重要原因。为了提高光栅刻划机运行精度,研制了采用压电陶瓷进行微定位控制的300mm行程宏微两级工作台,建立了微定位工作台数学模型,仿真分析了工作台参数对系统动态性能的影响。采用反向传播(BP)神经网络比例-积分-微分(PID)算法对微定位工作台进行闭环控制。仿真分析表明通过增大内外台连接刚度或内外台之间阻尼在总体趋势上均可改善与光栅质量密切相关的微定位工作台动态性能。工作台定位实验表明,在以双频激光干涉仪为纳米位移测量基准的情况下,进行刻线密度为35line/mm以上常用光栅空运刻划时,BP神经网络PID算法可实现宏微两级工作台定位误差3σ值不大于5.0nm。以上研究为大尺寸光栅刻划机宏微两级工作台结构设计及控制算法的选择提供了理论及技术指导。 相似文献
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在物理层发现电信产品的故障时需要使用一组激励源和测量仪器,当然,示波器是捕获和观察电信设备各种响应的通用工具,可以作为测量仪器,但采用什么样的信号源才最合适呢?射频信号发生器、数据发生器和脉冲发生器都有用处,但没有哪一种能包含包含现代电信测试所必需的全部模拟和数字功能,只有一种信号源即任意波形发生顺(AWG)才能满足当今电信设备的真实信号要求。AWG能进行波形形状定义,在存贮器中存贮数字化图像,通过数模转换器输出相应的模拟量。AWG的信号输出不用考虑周期性、二进制逻辑电平或操作周期,它仅仅简单地输出连续变化的电压电平(每一个电平对应存贮器中的一个点)以产生任意波形或测 相似文献
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在简要介绍面向生产实际的壳体号码自动识别系统的基础上,从硬件、软件两方面详细阐述此系统的重要组成模块之一———I/O控制系统的开发与应用。同时进一步提出,在Windows系统环境下利用微机与单片机间的串行口通讯来开发微机I/O接口卡的简便措施。 相似文献