纳米成核剂在聚丙烯中的应用研究

综述了纳米成核剂在聚丙烯中的应用研究进展,重点讨论了无机纳米成核剂对聚丙烯力学性能和结晶行为的影响。纳米成核剂的加入对聚丙烯的β晶结晶过程有明显的诱导作用,提高了β晶的含量,可使聚丙烯的刚性和韧性同时得到增强。     

碳化硅纳米线的形貌和微结构TEM表征

由于SiC纳米线优越的力学、热学及电学性能和高的物理、化学稳定性、热导率、临界击穿电场、电子饱和迁移率等特性，一维SiC纳米线在高温、高频、大功率和高密度集成电子器件等方面具有巨大的应用潜力；也可作为塑料、金属和陶瓷等复合材料的增强相，同时也是人们研究低维材料的物理、力学性能与尺寸效应的典型材料。     

射频等离子体自偏压及其对聚合成膜的影响

通过实验分析了射频等离子体自偏压的产生及与电子密度、电子温度的关系和对聚合成膜质量的影响并探讨了其机制，指出产生自偏压可明显改善等离子体聚合成膜质量，这是由于自偏压提高了等离子体中电子温度和电子密度的结果。在直接利用等离子体进行聚合反应制备薄膜时，应根据装置条件选择合适的自偏压值。     

成核剂二-(3,4-二甲基苄叉)山梨醇在聚丙烯中的成核效应

研究成核剂二-(3,4-二甲基苄叉)山梨醇(DMDBS)对等规聚丙烯力学性能、光学性能和结晶行为的影响.结果表明:DMDBS可以大幅度提高聚丙烯的力学性能、光学性能和结晶峰温度,具有很好的成核性能.当成核剂DMDBS添加浓度为0.2%时,与空白聚丙烯相比,成核聚丙烯的拉伸强度和弯曲模量可分别提高7.46%和11.96%,雾度可降低52.32%,结晶峰温度T_c可从119℃左右提高到130℃左右.同时,DMDBS的加入可大幅度降低聚丙烯的球晶尺寸.     

钛合金表面加弧辉光离子无氢渗碳工艺的研究

提出了一种新的钛合金表面强化方法,利用加弧辉光离子无氢渗碳技术在钛合金表面形成渗碳层,从减摩和抗磨两个方面提高钛合金表面的摩擦学性能.该方法是在加弧辉光离子渗镀技术中引入由高纯石墨制成冷阴极电弧石墨靶,按冷阴极场致发射机制,源源不断地从电弧石墨靶上发射出高能量、高密度、高离化率、高速度的离子流,成功的在工业用Ti6A14V合金基材表面形成25～30 μm厚的无氢且无结合强度问题的含有TiC的扩散层.在改善了Ti6A14V合金表面摩擦学性能的同时,又避免了氢元素对钛合金造成的氢脆问题.研究了钛合金无氢渗碳的工艺特点,从阴极偏压、靶距、弧流、时间和温度几个方面探讨了不同工艺参数对渗碳层厚度的影响.     

组成无公害低熔玻璃的发展现状

低熔玻璃广泛用作封接玻璃和电子浆料中的粘接相.现有低熔玻璃绝大部分为高铅含量玻璃.提出组成中不合PBb、Hg、Cd、As、Tl、Cr和放射性元素的玻璃称为组成无公害玻璃,综述了低熔玻璃的发展现状,指出电子产品目前所用含铅玻璃的取代物可能是磷酸盐、矾酸盐、铋酸盐玻璃.建立磷酸盐、矾酸盐、铋酸盐玻璃相关基础理论,发展玻璃形成新理论以及新的材料制备技术是组成无公害低熔玻璃研究与开发的重点.     

Ti-6Al-4V合金表面超声振动滚压强化研究

采用超声振动滚压加工技术对Ti-6Al-4V合金表面进行处理,探究该项技术对Ti-6Al-4V合金表面质量的影响。通过对该工艺加工前后的Ti-6Al-4V合金进行表面粗糙度参数、XRD图谱、截面微观形貌、表层残余应力及显微硬度的对比分析,结果表明:经该工艺处理后的合金表面各项粗糙度参数皆有明显降低;加工后的合金表面XRD图谱的衍射峰减弱且宽化,衍射角向高角度方向偏移;加工后的合金表层β相组织相较加工前明显细化,且随着深度增加β相组织逐渐增大;在距离表面约50μm位置的残余应力值最大可达到-967 MPa;加工后的合金表面显微硬度可达到421HV,且在0~140μm的深度范围内,显微硬度随着深度的增加逐渐减小至与基体硬度一致。经超声振动滚压加工后的Ti-6Al-4V合金表面质量显著提高,有利于提高其零部件的使用性能。     

基于知识的注塑模概念设计系统研究

提出了应用“需求特征”、“功能”、“结构”概念设计三要素构建设计规则的知识表达方法,建立了注塑模概念设计知识库。模架概念设计采用数值计算方法,其它结构系统采用基于需求—功能—结构三层映射的概念设计方法,系统的设计思想符合设计方法学理论和工程实际。系统基于PDM技术实现了与注塑模设计平台其它子系统的良好集成。     

二氧化硅高阻隔薄膜制备的质谱诊断及性能研究

采用40kHz中频脉冲电源,利用电容耦合等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术,以六甲基二硅氧烷(HMDSO)为单体、氧气为反应气体,氩气为辅助气体,在PET薄膜表面沉积应用于透明高阻隔包装的氧化硅薄膜,并对其进行研究.为了了解氧化硅的形成机理,通过四极杆质谱仪对等离子体放电的气相中间产物及活性粒子进行了原位检测;而通过傅立叶变换红外光谱仪(FTIR)及原子力显微镜(AFM)对沉积薄膜进行化学组成及表面形貌分析表征,探讨了沉积过程中等离子体气相粒子的产生和反应对薄膜特性的影响.