NiO掺杂的纳米ZnO的制备及其红外光谱特性

为了寻求新的适用于飞行器隐形的吸波材料,针对Zn0的红外光谱特性,采用燃烧法制备氧化镍( Ni0)掺杂的纳米Zn0.通过XRD物相分析测试可以确定样品是由斜方（正交）六面体的Ni0和六方晶体结构的Zn0组成,并有部分镍替代了锌的位置,形成了有效掺杂;通过透射电镜测试可确定样品的颗粒尺寸在30 nm左右;通过红外光谱测试,可以确定样品在中远红外波段存在较宽的吸收带(6.89～16.7 μm),该吸收带完全覆盖军事上雷达的中远红外波段(8～14 μm)。     

车载抬头显示光学系统塑料元件反射膜的研制

为了提高抬头显示系统中投影镜和反射镜的耐环境性和光学性能,以聚碳酸酯(PC)作为基底,采用电子束蒸发技术,使用过渡层和连接层技术以及渐增式离子源工艺,解决了薄膜与基底的附着力问题;利用真空退火,改善了环境测试过程中薄膜的膜裂现象;通过调节最外层SiO₂的离子源工艺,改善了水煮测试过程中薄膜因水汽渗透而导致的反射率下降的问题。制备了耐环境性能强的平均反射率大于95%的金属-介质结构的高反射膜。实际样品满足抬头显示系统的要求,并通过了多项环境测试。     

摄像模块景深自动测试技术研究

景深范围是摄像模块CCM(CMOS Camera Module,简称CCM)的重要性能指标,代表CCM清晰成像的物方距离范围,目前国内尚无CCM的景深范围的自动测量设备,通常只能根据理论计算进行粗略估计.本文研制的设备可以用于CCM的景深自动测试,是在"虚拟实距"设备的基础上,添加专用CHART和专用的测试调节程序,通过虚像模拟的方式精确地测量CCM的景深范围,测量景深范围达到0.5m～无穷远.     

抗激光损伤薄膜的研究

针对工作波长为532nm和1064nm的Nd:YAG倍频激光器,以防护人眼为目的,设计并优化倍频膜系,选用Ta2O5和S iO2作为镀膜材料,采用等离子体辅助蒸发系统制备波长532nm和1064nm处同时高反射的抗激光损伤薄膜。从设计和制备两方面研究提高抗激光损伤阈值的方法,并给出最终设计曲线及实测曲线。     

光学相干断层扫描成像系统中消偏振分光膜的研制

消偏振分束镜能够将光学相干断层扫描干涉成像系统中的信号光进行分束,是光学相干断层扫描成像系统中重要的组成器件。为了减小45度角入射时P光和S光造成的偏振分离,针对成像系统中分光棱镜的参数要求,选择Ti3O5、Al2O3和Mg F2薄膜材料,借助Macleod膜系设计软件,结合Compact Design功能,运用Optimac和Needle Synthesis两种优化方法进行优化设计,选择电子束加热蒸发和离子源辅助沉积的方式镀制薄膜。根据实际镀膜结果,运用Independent Sensitivity功能对膜层敏感度进行分析,并采用Reverse Engineering模块进行逆向模拟分析,判断镀膜误差主要来源于不同监控波长的光控tooling值有细微的差距以及膜层的Final Swing值过大。通过改变不同监控波长的光控tooling值以及对敏感度较高的膜层进行重点监控,制备的消偏振分光膜经过测试,1310±50nm处P光平均透射比为51.47%,S光平均透射比为49.11%,偏振度为4.59%,满足成像系统的使用要求,并通过了环境测试。     

多波段红外增透与保护膜技术的研究

采用电子束真空镀膜和离子辅助沉积的方法,在口径Φ150 mm,厚度6 mm且具有较大曲率的多光谱ZnS导流罩上,镀制红外增透保护膜。所镀膜层在3～5 μm平均透过率高于90%,在8～10 μm平均透过率高于92%,并且能够承受恶劣的环境测试。     

PMMA镀减反射膜的研制

通过对PMMA光学塑料红、绿、蓝三种光减反射膜的设计和制备,研究了这种材料的真空镀膜技术,对制备的膜层进行了光谱、牢固性和防水性能的测试,并给出了其中一些实验结果.最后进行了简短的分析,对进一步提高薄膜质量提出了改进方法.     

ZF6重火石玻璃非球面数控加工技术的研究

由于重火石玻璃的密度很大,材料较软,在数控加工过程中难以控制材料的去除量。现主要针对Ф62mm ZF6非球面凸透镜,对铣磨成型工艺、抛光工艺、抛光设备及抛光液等相关工艺参数进行了研究,采用弹性模预抛光与小抛头修正抛光相结合的两步研抛法对零件表面快速抛光,给出了一套规范的ZF6玻璃非球面的数控加工工艺,同时保证了零件具有较高的面形精度,实现了该非球面元件的快速批量生产。Ф62mm口径非球面最终面形精度达到0．5μm以下,表面光洁度达到Ⅲ级,明显改善成像质量,减少系统中光学零件数目,满足了非球面的使用要求。     

太阳模拟器中光谱修正滤光片的研制

在太阳模拟器中,鉴于氙灯的优点及其光谱能量分布与太阳光谱的相近性,通常使用氙灯模拟太阳光谱,但由于氙灯光谱与太阳光谱分布存在差异,所以研制一种滤光片进行氙灯光谱分布的修正.考虑到滤光片工作在强光辐照务件下,所以选用的薄膜材料必须具有低的吸收和高的抗能量阈值.采用电子束和离子辅助沉积技术进行膜层的制备,选择合理的沉积方式并通过优化工艺参数使膜层表面光滑、牢固且通过抗能量测试,最终研制出的光谱修正滤光片满足使用要求.     

塑料眼镜片镀膜质量评价

根据增透膜的设计原理,从可见光颜色的本质人手,介绍目前常用眼镜片镀制增透膜的膜系结构,并重点分析几种常用眼镜片实测反射率光谱曲线和理想的曲线之间的区别,以及如何通过观察颜色判断膜层的增透效果,然后对膜层牢固性的几种测试方法进行介绍,最终给出镀膜质量评价结果。