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101.
中国的主要水问题及水文学的机遇 总被引:13,自引:3,他引:10
芮孝芳 《水利水电科技进展》1999,19(3):18-21
从水资源开发利用与保护、水旱灾害防治等方面论述中国当前存在的主要水问题:水危机和水浪费同时存在、水污染日趋严重、防洪减灾任重道远、生态环境破坏严重、全球气候变暖产生不利影响;进而论述水文学研究面临的新课题:水文现象的不确定性、人类活动对水文的影响、水位频率计算、水资源开发利用的最佳效应、水资源供需分析、农业节水灌溉机理及水旱灾害的防治,并指出必须加强对这些新课题的研究 相似文献
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105.
106.
A common injector geometry upstream of a static mixer is the centerline injector. A flow instability can arise due to viscosity differences between the injected core‐flow and the outer co‐flow. This instability can adversely affect the effectiveness of the mixing operation. An experimental investigation of miscible viscosity‐stratified flow in a circular geometry was performed using Laser Induced Fluorescence (LIF) and Particle Image Velocimetry (PIV). The experimental results for the stable region agree with the analytical results. The unstable region exhibits different modes depending on the viscosity ratio, volume flux ratio, and Reynolds number. The modes include wavy core‐flow with fissures and wavy core‐flow with core breakup. The time‐averaged experiment velocity profiles for the unstable core indicate a broadening of the jet at the centerline, which is consistent with the LIF visualization. 相似文献
107.
108.
Rui Morimoto Chisato Yokomori Akiko Kikkawa Akira Izumi Hideki Matsumura 《Thin solid films》2003,430(1-2):230-235
In this paper, bulk-Si metal–oxide–semiconductor field effect transistors (MOSFETs) are fabricated using the catalytic chemical vapor deposition (Cat-CVD) method as an alternative technology to the conventional high-temperature thermal chemical vapor deposition. Particularly, formation of low-resistivity phosphorus (P)-doped poly-Si films is attempted by using Cat-CVD-deposited amorphous silicon (a-Si) films and successive rapid thermal annealing (RTA) of them. Even after RTA processes, neither peeling nor bubbling are observed, since hydrogen contents in Cat-CVD a-Si films can be as low as 1.1%. Both the crystallization and low resistivity of 0.004 Ω·cm are realized by RTA at 1000 °C for only 5 s. It is also revealed that Cat-CVD SiNx films prepared at 250 °C show excellent oxidation resistance, when the thickness of films is larger than approximately 10 nm for wet O2 oxidation at 1100 °C. It is found that the thickness required to stop oxygen penetration is equivalent to that for thermal CVD SiNx prepared at 750 °C. Finally, complementary MOSFETs (CMOSs) of single-crystalline Si were fabricated by using Cat-CVD poly-Si for gate electrodes and SiNx films for masks of local oxidation of silicon (LOCOS). At 3.3 V operation, less than 1.0 pA μm−1 of OFF leakage current and ON/OFF ratio of 107–108 are realized, i.e. the devices can operate similarly to conventional thermal CVD process. 相似文献
109.
The fluorescence spectra of ARE2I5(s) and AREI3(s) (A ≡ K, Rb, Cs, Tl; RE ≡ Sm1 Eu) have been studied systematically. The regular shift of the central wavelengths is discussed in a preliminary manner on the basis of crystal lattice field and covalence effects. 相似文献
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