双光束激励制备纳米氮化硅粉体

介绍了激光诱导化学气相沉积法制备纳米氮化硅的工艺原理。通过增加正交紫外光束激励NH3分解,提高气相中n(N)／n(Si)比,从而减少产物中游离硅的浓度,制备出粒径7～15nm的无团聚、理想化学剂量[n(N)／n(Si)=1．314]的非晶纳米氮化硅粉体。用透射电子显微镜观察了粉体形貌,并指出表面效应和量子尺寸效应导致粉体红外吸收光谱的蓝移和宽化以及Raman光谱的蓝移现象。     

铝基复合材料的性能、应用及制造工艺

较为详细的介绍了铝基复合材料的性能、应用及其制造工艺。     

激光诱导化学气相沉积法制备纳米氮化硅及粉体光谱特性研究

研究了激光诱导化学气相沉积法制备纳米氮化硅的工作原理,提出了减少游离硅的措施,利用双光束激发制备得到了超微的、非晶纳米氮化硅粉体。实验证明,纳米氮化硅粉体具有很多奇异物理性能和光谱特性。     

直接注入天然气与空气混合气的渗碳

以推进式连续作业炉为例,考察了直接注入天然气/空气混合气的直生式气氛渗碳的技术可行性。并与传统的外部发生的吸热式气氛发生器系统在经济上作了比较。     

激光法制备纳米氮化硅及其光谱特性研究

介绍了激光诱导化学气相沉积法制备纳米氮化硅的工艺原理,通过增加正交紫外光束激励NH3分解,提高气相中n(N)/n(Si)比,从而减少产物中游离硅的浓度,制备出粒径7～15 nm的无团聚、理想化学剂量(n(N)/n(Si)=1.314)的非晶纳米氮化硅粉体.采用透射电子显微镜观察粉体形貌,并指出表面效应和量子尺寸效应导致粉体红外吸收光谱和拉曼光谱的"蓝移"和"宽化"现象.采用双光束激励的光诱导化学气相沉积法是制备高纯度纳米氮化硅粉体的理想方法.     

扫描探针显微术及其在纳米科技中的应用

综述了近二十年来以扫描隧道显微镜为代表的、基于探针的成像显微装置基本原理及应用领域。     

氮化硅及其微粉的制备

介绍了氮化硅的性能、应用范围以及其微粉的制备方法。     

激光焊接条件下20%SiCw/6061铝基复合材料焊缝特性分析

在激光焊接条件下，分析丁20％SiCw／6061铝基复合材料焊缝表面及内部特性，指出在激光焊接条件下，铝基复合材料的焊缝较窄、深宽比大；焊缝可分为焊缝中心焊接区、熔化区及来变化区三部分；在中心焊接区内有大量Al4C3生成，造成焊缝较脆，窖易断裂。     

LIVCD法制备纳米氮化硅粉末工艺参数对粉体特征影响的研究

激光诱导气相沉积法是制备纳米氮化硅粉末的主要方法之一。在制备纳米粉体过程中,各工艺参数的变化对粉体特征有很大的影响。在激光制Si3N4纳米粉中基本的运行参数有:激光强度(I),反应池压力(P),反应火焰温度(T),反应气体配比(ΦSiH4／ΦNH3),反应气体流速(V)等。通过实验研究了各个工艺参数对粉体特征的影响并分析了其影响的原因。     

LIVCD法制备纳米氮化硅粉末工艺参数对粉体特征影响的研究

激光诱导气相沉积法是制备纳米氮化硅粉末的主要方法之一。在制备纳米粉体过程中，各工艺参数的变化对粉体特征有很大的影响。在激光制Si3N4纳米粉中基本的运行参数有：激光强度(I)，反应池压力(P)，反应火焰温度(T)，反应气体配比(ΦSiH4/ΦNH3)，反应气体流速(V)等。通过实验研究了各个工艺参数对粉体特征的影响并分析了其影响的原因。