等离子体基离子注入氮对铝合金耐磨性的影响

利用等离子体基离子注入技术对硬铝ＬＹ１２和锻铝ＬＤ１０两种材料通过改变注入脉宽、频率、时间和电压等参数进行氮离子注入,注入剂量范围为２×１０１７～１×１０１８Ｎ＋／ｃｍ２。利用低角Ｘ射线衍射法（ＧＩＸＲＤ）分析氮离子注入层的相结构。在此基础上进行了显微硬度和摩擦磨损试验。由于氮离子注入铝合金能形成硬质的ＡｌＮ析出相,合金表面硬度及耐磨性都得到改善,随着注入脉宽、频率、时间和电压的增加,铝合金表层硬度及耐磨性也相应提高。     

真空阴极弧离子镀类金刚石碳膜Raman光谱研究

分别采用带有和不带有弯曲弧磁过滤器的真空阴极弧离子镀方法，在不同镀膜电流以及不同基片偏流下分别制备了类金刚石碳膜，对比了不同结构下类金刚石碳膜的Raman光谱特点对其Raman光谱的D峰和G峰采用Gaussian-Lorentzion的几率分布进行了分峰，并着重讨论了基片偏流、弯曲磁场等沉积参数对膜结构的影响结果表明，氩分压对膜结构影响不大，较大的偏流以及弯曲磁场的加入均有利于sp^3杂化碳键的形成。     

基材、添加元素及中间层对DLC膜结构与性能的影响

扼要地介绍了基体材料、在ＤＬＣ膜中添加元素及各种中间层对ＤＬＣ膜结构与性能影响的研究现状。     

新型TiAIN涂层材料工艺与应用研究

运用物理气相沉积工艺在M2高速钢表面沉积了TiAlN涂层材料,用SEM和XRD等方法对涂层组织结构进行分析,并对涂层的性能进行了测试。结果表明,涂层显微硬度和耐磨性随基体温度上升而提高;在一定范围内,涂层显微硬度和耐磨性随氮流量变化而有一最佳值。切削试验表明,涂镀TiAlN的钻头使用寿命显著提高。     

新型涂层在高速钢钻头上的应用

本文研究了高速钢表面（TiAI)N涂层的组织结构及硬度和耐磨性，并在φ8mm钻头上进行切削应用试验，其结果表明经涂层处理后，提高了高速钢表面硬度和耐磨性，使钻头寿命成倍提高。     

正方形钛试样表面等离子体基离子注入氮的保留剂量研究

为了研究靶形状对等离子体基离子注入均匀性的影响，应用Auger电子能谱(AES)剖面分析，测量并计算了正方形靶表面排布的Ti试样经氮等离子体基离子注入(PBⅡ)的保留剂量分布．由于N的Auger电子发射能量与Ti的完全重合，而且表面氧化层对Ti的Auger跃迁产生很大的影响，因此应用AES对于氮等离子体基离子注入钛基金属进行化学分析变得较为复杂．本文探讨了一种既解决峰位重叠问题又考虑氧化层影响的方法，从而能够根据，AES溅射剖面分析数据计算浓度深度曲线，并获得保留剂量．正方形靶表面不同位置处的剂量测算结果表明，靶的形状对于保留剂量有着很大的影响，造成剂量呈梯度分布．同时还发现，Ti氧化层随着保留剂量的增大而增厚。     

铝合金等离子体基离子注入形成A1N／TiN层及其耐磨性能

用X射线光电子能谱（XPS）和小掠射角X射线衍射（GAXRD）研究了铝合金LY12等离子基离子注入形成A1N/TiN改性层的成分分布及相结构，在此基础上测量了改性层的纳米硬度，并进行了摩擦磨损试验，结果表明，氮和钛都有效地注入到铝合金里，后注入的元素对先注元素的分布和重要影响，钛，氮同时注入在试样表面形成一层稳定的钛，氧化合层，和未改性试样相经,形成的A1N/TiN改性层纳米硬度及承载能力都提高5倍以上，在低滑动载荷的增加，相应的耐磨性能有所降低，适当的改性层结构及其中分布的TiO2,TiN,TiAl3,Al2O3,AIN等相是性能改善的主要原因。     

离子渗碳时碳渗入的表观过程

研究了20钢和 T12钢在离子轰击条件下的渗碳和脱碳过程。研究结果表明,渗碳气氛的组成将影响整个渗碳过程。离子轰击作用下,无论是渗碳还是脱碳都表现为微小区域进行的过程,渗碳层的形成是微区增多、长大及相互连接的结果。     

脉冲偏压对等离子体沉积DLC膜化学结构的影响

以乙炔为气源，用等离子体基脉冲偏压沉积（plasma based pulsd bias deposition缩写PBPBD）技术进行了不同负脉冲偏压条件下制备DLC膜的试验，通过X射线光电子谱（XPS）、激光喇曼光谱[Raman]以及电阻分析方法考察了负脉冲偏压幅值对DLC膜化学结构的影响，结果表明由-50kV到-10kV随负脉冲偏压降低，DLC膜中SP^3键分数单调增加，但当脉冲偏压为0时形成高电阻的类聚合物膜，说明荷能离子的轰击作用形成DLC化学结构的必要条件，键角混乱度和SP^2簇团尺寸与脉冲偏压之间不具有单调关系，在中等幅值负脉冲偏压条件下，键用混乱度较大且SP^2簇团尺寸细小。     

TiAlN/Ti多元复合涂层的截面透射电镜研究

成功制备了多弧离子镀 Ti Al N/Ti多元复合涂层的截面透射试样 ,并分别用 TEM和 EDS等手段研究了涂层的组织结构和界面结构。结果表明 ,多晶 (Ti,Al) N相是 Ti Al N的主要组成相 ,过渡 Ti层呈现多晶 α- Ti结构。研究发现 ,在 Ti Al N- Ti过渡层界面、Ti过渡层 - HSS基体界面分别存在一个薄的中间层 ,通过衍射和 EDS分析认为前者是 Ti2 Al N相 ,而后者则是 Fe Ti界面相 ,用 XTEM还观察到 Fe Ti相与基体 M'之间的位相关系