阴极弧离子镀磁过滤器

在真空阴极弧离子镀的过程中,在阴极材料表面阴极斑点处的电流密度很大、斑点温度很高,发射出来的物质中包含有很多宏观粒子团（ＭＰ＇ｓ：ｍａｃｒｏｐａｒｔｉｃｌｅｓ）,构成对成膜表面的污染,人们采用了磁过滤器对ＭＰ＇ｓ进行过滤。采用的型式一般有直线结构,曲线型结构两种。本文介绍了ＭＰ＇ｓ的形成机理,各种磁过滤器的基本结构和工作原理,并着重介绍９０°弯曲弧磁过滤器的特点及离子分布规律。最后,概括介绍了阴极弧离子镀磁过滤器适用范围。     

电子式真空阴极弧离子镀引弧器的研制

研制具空阴极弧离子镀引弧器,分析了其工作原理及工作时序,给出了」它的关键部分的电路,介绍了它的离子镀引弧器的性能及特点。     

铝合金等离子体基离子注入形成AIN/TiN层及其耐磨性能

用X射线光电子能谱(XPS)和小掠射角X射线衍射(GAXRD)研究了铝合金LY12等离子体基离子注入形成AIN/TiN改性层的成分分布及相结构．在此基础上测量了改性层的纳米硬度,并进行了摩擦磨损试验．结果表明,氮和钛都能有效地注入到铝合金里,后注入的元素对先注元素的含量和分布有重要影响．钛、氮同时注入在试样表面形成一层稳定的钛、氮化合层．和未改性试样相比,所形成的AIN/TiN改性层纳米硬度及承载能力都提高5倍以上．在低滑动载荷下,摩擦系数减小70％以上,耐磨性提高近10倍,耐磨寿命提高了近6倍,粘着磨损程度显著减轻．随着载荷的增加,相应的耐磨性能有所降低．适当的改性层结构及其中分布的TiO2、TiN、TiAl3、Al2O3、AIN等相是性能改善的主要原因．,The disfribution of composition and microstructure of the AIN/TiN layer of aluminum alloy 2024 im-planted by Plasma Based Ion Implantation(PBⅡ) were characterized using X -ray Photoelectron Spectroscopy(XPS) and Glancing Angle X -ray Diffraction (GAXRD). XPS results show that N and Ti can be implantedinto 2024 effectively, the content of N presents a Gaussian - like distribution, and that of Ti decreases gradu-ally along the implanted direction from the surface. The post -implanted elements have great influence on thecontent and depth profile of the pre - implanted ones. The simultaneously implanted Ti and N can form asteady layer of Ti and N on the surface. In comparison with 2024, the AIN/TiN layer has remarkably improvedthe mechanical properties, of which both the nano - hardness and the load bearing capacity have in most cases increased over 5 times, the friction coefficient has been decreased more than 70% , wear life has been im-proved near to 6 times, and the wear resistance has enhanced approximately 10 times and the degree of adhe-sive wear has lightened markedly at low sliding loads. Nevertheless, the wear-resistant properties are reducedgradually with increasing the sliding load. The great improvement of the mechanical properties is mainly owingto the proper structure of the layer and the presence of TiO2, TiN, TiAl3, Al2O3, and AIN phases in it.     

铝合金等离子体淹没离子注入氮层组织及其耐磨性

用等离子体淹没离子注入技术向硬铝ＬＹ１２和锻铝ＬＤ１０注入氮离子，剂量范围为２×１０＾１７～１×１０＾１８Ｎ＾＋－ｃｍ＾－２，并用Ａｕｇｅｒｙ谱（ＡＥＳ）及透射电镜（ＴＥＭ）分析注入层的浓度分析及组织结构，利用机械性能显微探针测量注入层的纳米硬度，进行了磨损试验，氮离子注入到铝合金中能形成细小弥散的ＡｌＮ析出相，显著提高合金表层纳米硬度，耐磨随着注入剂量的增加而提高。     

铝合金等离子体基离子注入氮/钛改性层成分分布

用X射线光电子能谱（XPS）研究了工艺参数（注入电压或能量、注入时间或剂量、磁控靶溅射电流）对铝合金LY12（即2024）等离子体基离子注入氮 离子注入钛形成的改性层成分分布影响。结果表明，氮在注入层呈高斯分布，而钛沿注入方向逐渐减少。钛的注入使已注入的氮的分布有所拓宽。随着注入电压和时间的增加，钛的注入深度及含量有所增加；存在一个注入时间或/和磁控靶溅射电流阈值，在低于该值下注入钛主要表现为注入效应，没有钛沉积层出现，在高于该值下注入钛由注入效应逐渐表面为沉积效应，有明显的钛层出现。     

真空阴极弧离子镀类金刚石碳膜Raman光谱研究

分别采用带有和不带有弯曲弧磁过滤器的真空阴极弧离子镀方法,在不同镀膜电流以及不同基片偏流下分别制备了类金刚石碳膜,对比了不同结构下类金刚石碳膜的Raman光谱特点对其Raman光谱的D峰和G峰采用Gaussian-Lorentzion的几率分布进行了分峰,并着重讨论了基片偏流、弯曲磁场等沉积参数对膜结构的影响结果表明,氩分压对膜结构影响不大,较大的偏流以及弯曲磁场的加入均有利于sp^3杂化碳键的形成。     

Effect of target temperature on microstructure of aluminum surface layer modified by plasma based ion implantation

1　ＩＮＴＲＯＤＵＣＴＩＯＮＡｐａｒｔｆｒｏｍｔｈｅｃｏｎｖｅｎｔｉｏｎａｌｉｏｎｉｍｐｌａｎｔａｔｉｏｎｔｅｃｈｎｉｑｕｅ,ｔｈｅｓｐｅｃｉｍｅｎｓｗｉｔｈａｃｏｍｐｌｅｘｇｅｏｍｅｔｒｙｃａｎｂｅｉｍｐｌａｎｔｅｄｄｉｒｅｃｔｌｙａｔａｌｌｏｒｉｅｎｔａｔｉｏｎｓｂｙｔｈｅＰＢＩＩｍｅｔｈｏｄ ,ｓｏｔｈｅＰＢＩＩｍｅｔｈｏｄｏｗｎｓａｗｉｄｅｒｆｏｒｅ ｇｒｏｕｎｄｉｎｉｎｄｕｓｔｒｙａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎｓ[1].ＴｈｅＡｌＮ ｐｒｅｃｉｐｉｔａｔｅｓｍａｙｆｏｒｍｉｎｔｈｅｓｕｒｆａｃｅｌａｙｅ…     

AlN薄膜的成分,相结构和氧化性能

用Ｘ射线光电子能谱（ＸＰＳ）剥层分析方法，研究ＡｌＮ薄膜在大气中加热时的氧化性能，结果表明，常温时ＡｌＮ薄膜稳定；在７００℃加热时，Ａｌ２Ｏ３膜开发增厚，ＡｌＮ被氧化，加热温度愈高ＡｌＮ被氧化得愈剧烈。     

单晶硅非平衡磁控溅射等离子体基离子注入钼的XPS研究

采用非平衡磁控溅射及射频激励产生金属等离子体，在单晶基体Si上等离子体基离子注入钼。选择不同的靶基距，即不同的Mo沉积速率，研究了沉积速率对Si中Mo注入层的影响，用X光电子能谱(XPS)对注入层中Mo的深度分布和化学态进行了分析。结果表明注入过程由两部分组成，即反冲注入(包括级联碰撞引起注入原子的位移)和金属的纯注入。随靶基距增大，沉积速率减小，样品表面沉积层厚度减小，注入层增厚。靶基距为300mm时，纯注入层厚度与理论计算值接近。XPS多道分析判断有MoSi2相生成。     

陀螺飘移伺服平台离子渗氮渗层生长的控制模型

本文给出了38CrMoA1钢件在生产用50kW离子轰击多用炉上进行离子渗氮时渗层生长的控制模型。