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采用水热法合成了纯MoS2及MoS2/有序介孔碳复合材料(MoS2/OMC)。X射线衍射(XRD)、透射电子显微镜(TEM)、扫描电子显微镜(SEM)及循环伏安曲线(CV)等分别用来表征样品的结构、形貌及电化学性能。实验结果表明,以钼酸钠和硫脲分别为钼、硫源合成的MoS2/OMC复合材料的性能较纯MoS2有明显提升。MoS2/OMC复合材料的首次放电容量达到1247mAh/g,第二、三次的放电容量分别为948mAh/g、894mAh/g,容量保持率为94%。二、三次充、放电曲线的近乎重合及高倍率下的高放电容量,亦表明该复合电极有极佳的循环稳定性及良好的可逆性。 相似文献
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使用射频磁控溅射法在石英衬底上制备quartz/ZnO/TiNi及quartz/TiNi/ZnO复合薄膜结构,利用XRD、SEM划痕仪等测试方法研究了复合薄膜的相结构、微观组织、力学性能。利用DMA分别研究了quartz/TiNi与quartz/ZnO/TiNi复合结构的阻尼性能随振动频率及振幅的变化规律。结果表明,前者频率响应范围在10 Hz以内,后者响应范围达到20 Hz;前者的临界外加激振电压仅为0.6 V,后者的临界外加激振电压达到1.0 V。阻尼性能测试表明,quartz/ZnO/TiNi复合结构的阻尼性能优于quartz/TiNi复合结构。由划痕仪测得两种复合薄膜结构与基体的临界结合力分别为45.75和40.15 N 相似文献
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衬底温度对射频磁控溅射制备Ti-Ni合金薄膜的影响 总被引:1,自引:0,他引:1
采用射频磁控溅射技术在石英玻璃上沉积TiNi薄膜,利用XRD、SEM、EDS、台阶仪和纳米压痕仪、划痕仪等测试方法研究了溅射态原位加热对TiNi薄膜的组织结构、化学成分及力学性能的影响。结果表明,溅射态原位加热至500℃可直接获得具有晶化织构的TiNi薄膜,其弹性模量为64.9GPa,变形能效率η为36.7%,薄膜与基体的临界结合力为35.26N。 相似文献
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The aging characteristics of as-quenched microstructures of ZA-27 alloy and SiCp/ZA-27 composite(ZMCp) were investigated using SEM, EDS and TEM. The structure, morphology and size of sub-grains in primary dendrite in ZMCp continuously change during aging process. Little tiny spherical Zn-rich η phase distributes in the dendrite. Amount of transitional a' phase, well coherent with equilibrium αf phase, in SiCp-neighboring dendrite edge zone is less than that in dendrite center zone. Both eutectic and peritectic β phase transform into lamellar a and η phases, obeying [2113] η//[ 110]α, and (002)α//(1 1 01)η In the like-eutecticum of ZMCp, less amount of β phase and decomposition products are found. The size of α phase decomposed from peritectic β phase in ZMCp is obviously larger than that in the monolithic alloy. The lamella decomposition of β phase beside SiCp is evidently more rapid than that in the alloy. SiC particulates strongly accelerate neighboring β phase decomposition in aging process. 相似文献
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激光织构化表面MoS_2薄膜的减摩抗磨性能 总被引:2,自引:0,他引:2
采用多弧离子镀结合低温离子渗硫技术制备了织构化Mo S2薄膜,借助扫描电镜及X射线能量色散谱仪对其形貌及组成进行了表征,利用往复摩擦磨损试验机研究了其与激光表面织构的摩擦学协同效应,并基于磨损表面的形貌及组成分析,探讨了其润滑抗磨机理。结果表明:Mo S2薄膜主要由球形或近球形颗粒组成,结构较为均匀致密,与激光织构具有良好的协同减摩抗磨作用。相对单一的Mo S2薄膜而言,织构化Mo S2薄膜能使摩擦系数及上下试样磨损率分别进一步降低约27.5%、21.2%和52.6%。表面织构因其"微观动压"及"机械捕捉"效应,能够促进Mo S2颗粒的二次释放和重新转移并铺展形成低剪切强度的保护层,进一步降低摩擦磨损。 相似文献
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退火对溅射ZnO薄膜的形貌和内应力的影响 总被引:3,自引:0,他引:3
用超高真空射频磁控溅射技术制备了高C轴取向的ZnO薄膜,用扫描电镜和X射线衍射仪分别研究了退火对ZnO薄膜形貌和内应力的影响.结果表明:适当温度退火后薄膜的形貌和内应力得到改善,通过增氧、缺陷原子的热激活和晶粒融合等可以有效地降低薄膜中由热效应、缺陷效应和粒子注入效应等引起的张应力,薄膜组织致密化并且柱状晶粒取向趋于一致.450℃退火的ZnO薄膜具有最低的张应力和最佳的结晶质量. 相似文献
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