光纤干涉法监测He-Ne激光器的频率漂移

本文介绍了液芯光纤干涉方法测量He-Ne激光器腔长的微小伸长,频率漂移的原理,实验条件,实验装置及实验结果。     

凝集沉淀控制系统的自动化

近几年在水处理中我们正面临着Cryptosporidium（一种水生微生物)等病原性原虫对策问题。在保证人体健康而需要减少投入铝铜凝结剂的量以及如何减少过滤池保养工时等问题中凝集沉淀过滤工艺中对凝结剂的投放率控制问题已被提升到一个重要位置。凝结剂的投放率控制是指把原水浊度作为相关系数从而来决定凝结剂的投入量：把沉淀池水的浊度控制作为目标数值的管理方法已经成为一个主流。     

气敏薄膜的光学机理研究

本文根据光传输理论导出介导消光系数，折射率与介质电磁参数，光波频率，电偶极子浓度及迁移率等的关系，分析了光激发与增加气敏介质的氧吸附的规律，结合实验说明气敏薄膜的光学变化机制。     

模糊数学及其在地基基础中的应用

本文论述了模糊数学在地基基础中应用的意义以及目前在这方面的应用现状，指出了今后的研究方向，为进一步开拓模糊数学的应用作了些抛砖引玉的工作。     

SmDyFeCo磁光薄膜的制备和性能研究

本文采用射频磁控溅射方法制备了ＳｍＤｙＦｅＣｏ非晶磁光薄膜。研究了氩气压、溅射功率对ＳｍＤｙＦｅＣｏ薄膜性能的影响。实验表明，反射率随氩气压升高而降低。矫顽力随氩气压升高而逐渐增大，达到一定值时克尔回线反向，随后矫顽力又逐渐减小。高气压下的矫顽力温度特性较低气压下的矫顽力温度特性要好，但氩气压进一步升高，磁光克尔回线矩形度变差。本征磁光克尔角随氩气压升高而增大，到达最大值后又逐渐减小。反射率随溅射     

利用EGR技术生成薄膜

半导体制造工艺中的薄膜生长,迄今广泛应用的是热CVD法(Chemical VaporDeposition)和等离子CVD法,而这些方法是在高温状态下进行的,因此,对那些衬底耐热性较差或者经高温处理其性能和可靠性要降低的器件来说,利用这些方法有一定的困难。为了提高大规模集成电路、超大规模集成电路的性能、集成度和成品率,迫切需要一种能在低温下形成高质量薄膜的薄膜生长新技术。     

黑钨矿的组成与其可浮性

黑钨矿含Fe、Mn比例不同时,可浮性存在差异,但原因一直不大清楚。本文研究Mn/Fe比不同的黑钨矿的浮选、吸附行为,动电现象以及受活化作用的情况。并用溶液化学平衡计算讨论Mn、Fe离子与药剂作用的差别。捕收剂在黑钨矿上的化学吸附与Mn离子有更为密切的关系,Mn/Fe比较高的黑钨矿吸附捕收剂的能力较大,可浮性较好;Mn~(2+)离子的活化作用比Fe~(2+)离子强。     

乳山硫铁矿破碎工艺的改进

原矿含泥量大造成设备的堵塞。根据现场生产实际改用粉碎后的矿粒直接给入扇形孔条筛，筛下可调刮板使细粒均匀分布在皮带下面，粗粒复盖其上。物料到达皮带首轮处，使其呈抛掷状态，然后利用分离挡板除去细粒。首轮的直径和转速是按粒度分离的决定因素。分离细粒级后使中碎机生产能力增大，降低能耗，减少磨损，提高了设备运转率。