微弧氧化+电解液修饰法制备TiO2薄膜的光催化性能

在微弧氧化法制备TiO2光催化薄膜的过程中,采用向电解液中添加氧化物的方法对薄膜进行改性.实验结果表明,过渡金属、重金属及稀土元素掺杂可在不同程度上影响薄膜的光催化性能,其中,V,Ag,Ce元素掺杂可使光催化120min的降解率提高10%以上.采用半导体掺杂也能很好地提高TiO2薄膜的光催化性能,其中以SnO2效果最好.实验表明,V2O5添加量在0.5mmol/L或SnO2添加量在1.0 mmol/L时,生成的TiO2薄膜光催化效果最好.XRD及SEM分析表明,掺杂不改变TiO2晶型,改性后的TiO2光催化薄膜增厚,微弧放电形成的孔道变小,表面积增加.     

阴极共电沉积制备ZnO/α-FeOOH复合膜及其光催化活性(英文)

利用阴极共电沉积法,在铟锡氧化物涂层玻璃基体上成功制备了ZnO/α-FeOOH复合膜。用X射线衍射和X射线能量散射谱分别对其晶相和化学组成进行了表征,以Cr(VI)的光催化还原作为探针反应评价了其光催化活性。结果表明:与单一的ZnO膜相比,不论是在紫外光还是紫外-可见光照射下,ZnO/α-FeOOH复合膜均呈现出更高的光催化活性。紫外光照射下,ZnO/α-FeOOH复合膜催化活性的提高主要应归因于异质结界面上光生电荷的有效分离,而掺杂到ZnO中的Fe(III)的电子捕获效应在紫外-可见光条件下也发挥着重要作用。     

动态下高速镀锌工艺的研究

对高速镀锌工艺进行了优化,并通过SEM及X射线衍射等方法分别研究了动态条件下镀锌的工艺参数对镀层微观形貌、结晶取向度以及耐黑变性能的影响,确定最佳工艺条件为:Zn2+ 120 g/L,流速3.2 m/s,pH值2.2,50 A/dm2,40℃.     

化学镀黑色Ni-Cu-P合金镀层

采用化学镀法在钢铁件表面制备了黑色镍-铜-磷合金层.研究了发黑剂对化学镀层表面颜色的影响,及影响化学镀层性能的各个因素.最佳工艺为:28g/L硫酸镍,30g/L次磷酸钠,15g/L柠檬酸钠,1g/L硫酸铜,8g/L硫氰酸钾,15g/L醋酸钠,2mg/L硫脲,pH为7.0,θ为80℃,得到耐磨耐蚀、结合力较好的黑色Ni-...     

偏铝酸钠对铝基复合材料表面微弧氧化膜性能的影响

在含偏铝酸钠的电解液体系中,通过微弧氧化技术在铝基复合材料表面制备了微弧氧化膜。研究了偏铝酸钠的质量浓度对微弧氧化膜的表面形貌、成分、晶体结构、结合力及耐蚀性的影响,同时研究了电解液的利用效率。结果表明:当偏铝酸钠的质量浓度为1.8 g/L时,电弧大小适中,微弧氧化膜的结合力和耐蚀性均较好,并且电解液中不易形成氢氧化铝胶体沉淀。     

液相沉淀法工艺条件对羟基磷灰石粉体的影响

采用液相沉淀法成功制备纳米羟基磷灰石陶瓷粉体,使用X-射线衍射、扫描电子显微镜等检测手段分析了粉体的组织结构,研究了反应温度、pH值、陈化时间对粉末粒径和物相组成等的影响。结果表明,反应温度为90℃、溶液pH值为10、陈化12 h,在700℃煅烧2 h可制备出高纯度、晶体完整的球形羟基磷灰石粉体,平均尺寸为60 nm。     

LF4合金次磷酸钠体系微弧氧化

通过对次磷酸钠、硅酸钾、六偏磷酸钠三种电解液的质量浓度及膜层制备中的各种影响因素进行分析,确定了以NaH2PO2为主成膜剂的最佳电解液配方。详细研究了各种工艺参数(包括电流密度、微弧氧化时间、电解液温度)的改变对微弧氧化膜性能的影响。     

钨酸钠对化学镀Ni-W-P合金镀层性能的影响

在不锈钢基体上化学镀Ni-W-P合金镀层,并研究了钨酸钠的质量浓度对镀速、Ni-W-P合金镀层的耐蚀性及其表面形貌的影响。结果表明:当钨酸钠的质量浓度为10~20g/L时,制备的Ni-W-P合金镀层的性能最好。     

热浸锌钢板无铬钝化工艺的研究进展

目前热浸锌无铬钝化工艺大致分为无机盐类、有机物类、无机盐/有机物复合类三种。对这三种无铬钝化工艺的研究进展进行了综合阐述,并对热浸锌钢板无铬钝化工艺的发展趋势作了展望。     

光沉积银微弧氧化TiO2膜光催化杀菌研究

以磷酸钠为电解液,采用微弧氧化技术在钛片上直接制备TiO2膜,利用硝酸银光沉积法对该膜表面进行修饰,以酵母菌为目标物来评价TiO2膜光催化杀菌的能力.利用XRD、SEM、EDX对微弧氧化膜晶型、表面形貌和成分进行观察.研究结果表明:微弧氧化TiO2膜主要由锐钛矿TiO2组成,电解时间增长锐钛矿TiO2增多,TiO2膜光催化杀菌效果明显好于单独紫外光的杀菌效果;光沉积银修饰可以改变微弧氧化TiO2膜的表面成分,改善膜的光催化性能.光沉积银微弧氧化TiO2膜和微弧氧化TiO2膜以及单独紫外光30min的杀菌效率分别为98.5%、75.4%和42.5%.并简介微孤氧化TiO2催化剂可以重复使用.