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聚二甲基硅烷高温高压合成聚碳硅烷工艺研究 总被引:2,自引:1,他引:2
以聚二甲基硅烷(PDMS)为原料,在高压釜内高温高压反应制备了聚碳硅烷(PCS)先驱体,研究了合成条件对反应终压、Si-H键含量、产物产率、软化点、分子量及其分布及可纺性的影响.研究表明,随着反应温度的提高,反应时间的延长,反应终压逐渐增大,产物的分子量与软化点增高,但同时分子量的分散性增大使可纺性变差.当PDMS在高压釜内460℃下反应4~6h,或450℃下反应6~7h时,可以制得软化点约为200~220℃的PCS,其高分子部分含量约 5%~10 %(质量分数),Si-H键含量大于0.9,可纺性较好,适合于制备SiC纤维. 相似文献
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以常压合成的低分子量聚碳硅烷(PCS)为原料,分别在470℃高压及常压下反应一定时间,制备了高分子量PCS先驱体。研究了反应时间对:PCS分子量及其分布、软化点、Si—H键含量及可纺性的影响。研究表明,随着反应时间的延长,PCS低分子量部分逐渐减少,高分子量部分逐渐增加,分子量分布逐渐变宽,从而PCS分子量逐渐增大,软化点逐渐升高,Si—H键含量逐渐降低,可纺性逐渐变差。在相同的反应时间下,高压比常压对PCS分子量的增长更有利。在470℃高压或常压下反应时间2~3h时,可获得分子量高、可纺性良好的PCS先驱体。 相似文献
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1 INTRODUCTIONManufacturingofceramicmaterialsfromprece ramicorganosiliconpolymershasrecentlyattainedin creasinginterestbecauseofhighlyattractiveshapingpropertiesandlowfabricationtemperatures .Polycar bosilane (PCS) ,polysilazane (PSZ)andpolysiloxanecanbeuse… 相似文献
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活性填料铬在聚碳硅烷裂解陶瓷中的应用 总被引:3,自引:0,他引:3
研究了活性填料铬 (Cr)在聚碳硅烷 (PCS)先驱体裂解陶瓷中的应用。研究表明 ,活性填料 Cr能有效降低陶瓷素坯的气孔率。 Cr可与 PCS气态裂解产物和 N2 气氛反应生成新的化合物 ,可明显提高 PCS的陶瓷产率。当 Cr/ PCS为 3 5% vol时 ,坯体的陶瓷产率为 1 0 0 %。在先驱体中引入 Cr能有效地抑制坯体在裂解过程中的收缩。Cr含量越高 ,素坯裂解后的收缩越小。当 Cr/PCS为 4 6% vol时 ,素坯在裂解前后线收缩率为 0 ;由于生成产物的体积效应较大 ,以及与 Si C热膨胀系数的不匹配性 ,导致陶瓷烧成体强度有所下降。用 X-衍射法 (XRD)分析了烧成产物的物相组成 ,扫描电子显微镜 (SEM)观察了陶瓷烧成体的断口形貌。 相似文献
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活性填料钼在聚碳硅熔转化陶瓷中的应用 总被引:1,自引:0,他引:1
研究了活性填料钼(Mo)在聚碳硅烷(PCS)先驱体转化陶瓷中的应用。研究表明,活性填料Mo能有效降低陶瓷素坯的气孔率。Mo可与PCS气态裂解碳氢产物、游离碳和N2气氛反应生成新的化合物,可明显提高PCS的陶瓷产率。当Mo/PCS为25%(vol)时,坯体的陶瓷产率为100%。Mo还有能效地提高烧成体的强度。 相似文献
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