单模光纤激光器耦合损耗分析

用函数逼近方法，将单模光纤中的光场分解为若干个高斯光束的迭加。在此基础上讨论了光纤端面相距反射镜为Ｌ时的耦合损耗。解释了实验中观测到的光纤耦合损耗行为。     

国外光盘存贮技术发展情况

1985年1~2月，作者参加了在美国洛杉矶由摄影光学仪器工程师学会主办的“国际第三届光学大容量数据存贮会议”,会后参观访问了一些单位，并和3Μ公司、ECD公司就光盘存贮有关事项进行了讨论，同时对美国激光电视和声唱片、唱机进行了一定的市场了解，同年6~7月考察了日本有关光盘存贮技术，参观访问了日本从事光盘存贮技术的十多家主要单位，总的印象是光盘存贮技术是光学、光电子学和计算机技术中十分重要和活跃的学术领域，是即将形成的新兴产业。     

光学信息工程中的材料问题

本文评述了光学信息工程中的材料问题,重点在光通讯、光存储和光计算中的材料。讨论和分析了各种红外光导纤维的制备和性质,为超长距离光通讯建议用氟化物玻璃纤维。为光学数据存储推荐了光盘存储技术,较详细地讨论了烧蚀、相变、态变和磁光型四类光存储介质材料。对于光计算,介绍了光学空间调制器、光学双稳态和集成光学元件和材料。     

法布里－珀罗干涉仪外腔半导体激光器的选模和锁模特性研究

报道了法布里－珀罗干涉仪用作半导体激光器外腔的选模原理和选模及锁模实验。通过压电陶瓷调节Ｆ－Ｐ干涉仪的间距，实现了半导体激光器本身的静态及动态单纵模运转，在调制频率为６５６ＭＨｚ的情况下，获得了近变换极限的外腔锁模高斯形超短脉冲，脉宽为１３ｐｓ，时间带宽乘积为０．４６。最后讨论了Ｆ－Ｐ干涉仪对半导体激光器的模式特性的影响。     

多组分氟化物玻璃光纤材料的红外吸收损耗研究

本文从氟化物玻璃组成化合物的基本性质出发,分析了氟化物玻璃中常见的39种氟化物对其红外多声子吸收损耗的影响,并建立了一整套相应的参数(α_(0i),ω_(0i),A_i)。运用这些参数不仅可定量地估算已知组成玻璃的红外吸收损耗值而且还能指导设计具有更低吸收损耗值的玻璃组成。通过对一些氟化物玻璃的红外多声子吸收损耗的实验研究,部分地证实了所建立参数的正确性。     

光子学材料及其发展

信息技术的基础正在经历从电子学、光电子学到光子学的发展，二十一世纪将是光子信息时代。由于信息技术要求高速度，因此光子学材料要求有短的时间响应，宏观上要求低维，易于光集成，微观上希望是纳米尺寸的复合。本文综述了几种光子学材料的发展，重点介绍了激光材料和光子存储材料。     

中国材料研究讨论会1990年国际会议(C-MRS 90′)

中国第一次举办的国际材料研究讨论会议(C—MRS 90′)于1990年6月18至22日在北京举行。这次材料科学的国际盛会,有700多位国内外代表参加,提出近600余篇论文,按专题分14个分会进行     

用离子结构模型计算卤化物玻璃的物理性质Ⅱ.氟-氧化物玻璃折射率和密度的计算

本文把氟-氧化物玻璃的结构归结为离子的无序堆积,进而运用离子结构模型探讨了玻璃的折射度和体积随玻璃组成变化的规律。定量地确定了氟-氧化物玻璃中常见的43种阳离子、F-阴离子和O~(2-)阴离子的折射度和体积值。大量的实验结果证实了所建立参数的正确性。平均计算误差为:△n=10×10~(-3),△d=5×10~(-2)。     

热致相变光记录介质进展

本文综述了近年来热致相变光记录介质的主要进展,分析指出:实用的相变光记录介质应选择高熔点、单相,具有低的熔点粘度的材料,这是当前相变光记录介质发展的趋势。     

2种不同激光对钛宝石辐照作用的研究

分别采用波长为193 nm的ArF准分子激光与波长为800 nm、脉冲宽度为120 fs的飞秒激光对温梯法生长的钛宝石进行辐照,并对辐照前后的吸收谱、荧光谱及电子顺磁共振(EPR)谱进行了检测。2种不同辐照的结果表明:218 nm及266 nm吸收峰并不是完全由同一种色心所引起的。通过对比不同品质因数(FOM)值的钛宝石样品在420 nm处的荧光谱,发现准分子激光辐照后420 nm处荧光强度降低,表明样品中Ti~(4 )离子浓度降低。而在飞秒激光辐照下荧光强度增大,即Ti~(4 )浓度增大。根据2种激光的波长,功率密度及辐照方式的差异对于2种辐照产生不同结果做出了解释。