13.9nm软X射线激光用大面积多层膜分束镜研制

 基于分束镜反射率和透射率的乘积为衡量标准的原则,设计了13.9nm软X射线激光干涉测量所需的多层膜分束镜，用磁控溅射法在有效面积达10mm×10mm，厚100nm的氮化硅窗口上镀制Mo/Si多层膜,实现了分束镜制作。用表面轮廓仪实测分束镜面形精度达到nm量级，同步辐射反射率计测试表明,分束镜的反射率和透射率乘积约4%。     

介质阻挡放电斑图中放电通道的相互作用研究

在近大气压介质阻挡放电中，研究了六边形斑图的空间波长随放电参数的变化，仔细观察了稳定的六边形中放电通道的产生及运动行为.结果表明空间波长随电压增加而减小，变化曲线与放电间隙和气压有关.电压升高，边界处生成新的放电丝，位于六边形最外层顶点处新生成的放电丝沿径向运动，而位于六边形边长上新生成的放电丝的运动方向平行于距其最近的C₂轴(过六边形顶点). 继续升高电压，放电丝变为条状进而形成螺旋波或靶波.在观察实验结果和分析放电丝受力的基础上，认为放电区域可能存在一种类似二维库仑晶体中存在的约束势. 关键词： 介质阻挡放电 斑图 放电通道 约束势     

非线性动力方程的增维精细积分法

对线性定常结构的动力系统提出的精细积分法，能得到在数值上逼近于精确解的结果。但是对于非齐次动力方程却涉及到矩阵求逆的困难，而且通常与时间有关的非齐次项不能进入精细积分的细化过程。采用增维的方法，将非齐次动力方程化为齐次方程，在实施精细积分的过程中不必进行矩阵求逆。这种处理方法对于程序实现和提高数值计算的稳定性十分有利，而且在大型问题中可明显提高计算效率，数值算例显示本文方法是有效的。     

基于二次电子发射的中性束剖面诊断系统设计

阐述了NBI系统长脉冲束中二次电子的发射原理,分析了束能量与靶表面温度对二次电子发射系数的影响,通过有限元分析模拟建立实际靶板模型进行初步模拟验证,并提出了基于二次电子数据反演的束功率密度剖面的处理方法,给出了束诊断系统的设计流程图,分析了系统各组成部分和系统整体运行方式,确定了基于二次电子发射束剖面诊断探针设计。     

电感耦合等离子体原子发射光谱法测定学生用品中8种可迁移元素

建立电感耦合等离子体原子发射光谱法测定学生用品中锑、砷、钡、镉、铬、铅、汞、硒8种可迁移元素。样品粉碎后过筛,以0.07 mol/L的盐酸为消解液,于(37±2)℃避光条件下连续振荡1 h,在选定的仪器工作条件下进行测定。各元素的质量浓度在0.0~6.0 mg/L范围内与光谱强度有良好的线性关系,相关系数均大于0.999,方法的检出限为0.002 7~0.075 mg/L。测定结果的相对标准偏差为0.7%~2.1%(n=6),样品的加标回收率为94.2%~102.4%。该方法操作简单、稳定性好,可用于测定学生用品中的可迁移元素。     

不同环境中X射线激光Yb靶表面氧化研究

 用电子束蒸发方法淀积制备X射线激光稀土元素Yb薄膜靶,将薄膜靶在不同的环境气氛中进行氧化。用X射线光电子谱(XPS)、俄歇电子谱(AES)和X射线衍射(XRD)方法研究了Yb薄膜靶表面氧化层的元素价态、组分和微观结构。发现薄膜表面氧化层中存在分层结构,干燥空气中储存的Yb薄膜表面氧化层由表及里的组分依次为化学吸附水、氢氧化物、氧化物及金属元素。表面氢氧化物和氧化物以非晶态形式存在。潮湿空气中水分是薄膜靶氧化速率增加的主要原因。     

X射线激光Nd薄膜靶表面氧化特性研究

 利用石英晶体振荡技术测量了不同环境中稀土元素Nd薄膜靶表面氧化速率,用俄歇电子能谱,扫描电镜,X射线衍射,X射线光电子能谱分析了Nd薄膜表面氧化过程,发现保存环境对靶的表面氧化行为有重要影响。空气中水分是引起Nd快速氧化的关键因素。表面氧化层为团聚状的非晶结构,氧化物与金属的体各比较小可能是引起Nd薄膜较易氧化的原因。Nd薄膜靶表面覆盖有一层氢氧化物,其厚度按保存在真空、干燥空气和潮湿空气环境而依次递增。     

石英晶体生长节能机理的研究

石英晶体生长功率的主要消耗在恒温阶段,其电功率变化是节能的主要参数.本文通过分析石英晶体的生长机理和过程保温模型,提出在解决溶解区的保温同时控制好温度和生长区与溶解区之间的温差以保证晶体低耗高质高效的方案.     

反铁电晶体PbZrO3序参量和对称性的研究

在反铁电晶体锆酸铅(PbZrO3)顺电反铁电相变中,伴随有对称性的变化.前人工作中选择反极化参量(P)或子晶格的极化矢量(PA、PB)作为反铁电相的序参量,根据居里原理得出了反铁电晶体锆酸铅反铁电相对称性所属空间群为Pbam(D2h)或Pba2(C2v).但是通过对中子衍射实验结果分析,该晶体反铁电相对称性所属空间群不是Pbam(D2h)或Pba2(C2v),而是P2/m(C2i).本文选取轴矢量R作为反铁电相的序参量,对锆酸铅晶体应用居里原理,恰能得到正确的对称性P2/m(C2i).     

Morphological study of the localized growth of materials in dielectric barrier discharge

The localized growth of materials has been realized in a dielectric barrier discharge reactor in the mixture of acetylene and argon in previous work. In this paper, the morphology of the materials synthesized in the process is studied. The results indicate that the polymer's structure consists of three layers. The layer near the substrate is homogeneous with thickness of several micrometres; the middle layer is composed of dense bulges with height of about more than 10μm in average. The distance between two neighbouring bulges is about 230μm; the top layer is made up of a few large columns with the height up to 2mm, and with the average distance of about 3.5mm. The growth of the three layers corresponds to three types of discharge. The discharge mechanism is analysed through studying the morphology of the polymer. It can be deduced from the morphology that the first and second discharge phases should belong to the Townsend breakdown, and the last discharge phase should be explained on the basis of the streamer mechanism.