化学刻蚀过程中熔石英表面沉积物的形成及其对激光损伤的影响

化学刻蚀是提升熔石英光学元件抗激光损伤性能的重要后处理技术之一,但刻蚀后熔石英表面附着的沉积物对其表面质量、透射性能和抗激光损伤性能有很大影响。使用光学显微镜和原子力显微镜表征了化学刻蚀后附着于熔石英表面的沉积物的微观形貌,并分析了其形成机理;X射线能谱分析表明化学刻蚀后熔石英表面沉积物主要由Fe,Ni,Al等元素的金属盐组成。损伤阈值测试结果表明熔石英表面高密度沉积物区域的损伤阈值明显低于非沉积物区域,沉积物对熔石英光学元件的抗激光损伤性能产生严重影响,它们是诱导熔石英激光损伤的前驱体。     

超高效液相色谱-串联质谱法快速测定鸡蛋中氟虫腈及其代谢物残留

建立了超高效液相色谱-串联质谱（UPLC-MS/MS）快速测定鸡蛋中氟虫腈及其代谢物的方法。在2 g鸡蛋中加入2 mL水后,用4 mL乙腈提取,然后加入1 g NaCl,于4℃以9000 r/min离心10 min,稀释后过有机膜。采用C18色谱柱（100 mm×2.1 mm,1.7 μm）分离,在电喷雾电离源、负离子模式下进行多反应监测（MRM）采集。结果表明,氟虫腈及其代谢物在3个添加水平下的回收率为77.4%~112.1%,相对标准偏差为4.0%~13.6%,检出限为0.10~0.43 μg/kg。该法简单、高效,可用于实际样品检测。     

用功、能增量方法研究压杆跳跃性屈曲

在微弯杆件平衡位置作准静态位移时，以任一点处的状态为参考态，建立的平衡位置有微位移时，用功、能增量平衡关系，可以直接导得相应突变模型的平衡方程来对杆跳跃式屈曲行为进行分析，该研究途径也可用于其他弹性体跳跃式屈曲问题。     

蓝光材料2-叔丁基-9,10-二(9,9-二正丙基芴基)蒽的合成与性能表征

本文设计并合成了一种新型蒽衍生物蓝光材料2-叔丁基-9,10-二(9,9-二正丙基芴基)蒽.化合物中引入的柔性烷基链有效抑制了分子间的相互作用,使该化合物不易结晶,同时提高了化合物在有机溶剂中的溶解度.通过量子力学方法计算发现,化合物具有顺反两种稳定构型,分子的平面性差,能减弱分子间相互作用.化合物在二氯甲烷溶液中的最大荧光发射峰在443 nm,在环己烷溶液中测得荧光量子效率为0.78,固态薄膜的最大发射峰波长相对溶液有少量红移(450 nm).热失重和差热分析结果表明,该化合物具有较高的热稳定性,分解温度和玻璃化转变温度分别为365℃和126℃.     

SBA-15固载硅钨酸催化合成柠檬酸三丁酯

以硅钨酸(H4SiW12O40)为催化剂、介孔分子筛SBA-15为载体,将浸渍法与焙烧法相结合制备了一系列介孔分子筛固载硅钨酸复合催化剂SiW12/SBA-15;并利用红外光谱(FTIR)、粉末X-射线衍射(XRD)、N2吸附-脱附、扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)等对其组成、结构及形貌进行表征.将此...     

低噪声水平混沌时序的预测技术及其应用研究

研究含有噪声的混沌时序的除噪及其重构技术,基于除噪混沌数据的预测技术及其应用．应用混沌时序的奇异值分解技术对混沌时序的噪声进行了剥离,将混沌时序的相空间分解成为值域空间和虚拟的噪声空间,在值域空间内重构了原混沌时序,并在此基础上,确立了非线性模型的阶,利用所提出的非线性模型对时序进行了预测研究工作,研究结果表明,该非线性模型具有很强的函数逼近能力,所采用的混沌预测方法对相应的实际问题有着一定的指导意义．     

用计算机整数规划法配平化学反应方程式

化学反应方程的配平是中学化学教学的一项重要内容。我们可以将化　学反应方程式的配平方法分为人工法与计算机法两类。在人工法领域,研究、探讨十分活跃　,众多报刊杂志上时有文献发表。运用现代计算机技术与数学模型的研究则相对较少。笔者　在教学实践中找到一种应用计算机配平化学反应方程式的简便方法。只用一台普通的家用计　算机及常用软件即可很方便地实现。用解线性方程组的方法可以配平化学反应方程式：将各物质系数分别设为ｘ１＼,ｘ２…ｘｎ　（其中ｎ为反应体系中反应物与生成物总数）,根据质量守恒定律,每种元素的原子总…     

Eu(DBM)3qp和Eu(DBM)3pp的晶体结构及荧光性质对比研究

两种新型铕配合物Eu(DBM)₃qp(DBM=二苯甲酰甲烷,qp=喹喔啉并[2,3-i]-1,10-邻二氮杂菲)和Eu(DBM)_3pp(DBM=二苯甲酰甲烷,pp=吡嗪并[2,3-i]-1,10-邻二氮杂菲)的晶体结构均属单斜晶系,P2(1)/c空间群.中心铕离子分别与DBM配体的六个氧原子及第二配体的两个鳌合氮原子配位,形成八配位的扭曲四方反棱柱构型.两种配合物晶体中,每四个配合物分子的第二配体共轭平面相互平行,形成一种特殊的"块"状π-π堆积单元.在紫外光激发下两种配合物均表现为Eu³⁺的特征发射,由于第二配体能级的不同,Eu(DBM)_3pp的发射强度比Eu(DBM)_3qp高十几倍.     

平面幂律塑性Ⅰ型裂纹尖端应力场全解

在航空航天、船舶、石油管道和核电等领域,服役结构或部件在长期极端条件下运行,不可避免地会产生裂纹,因此,为研究含裂纹结构的准静态断裂行为,必须了解裂纹尖端附近区域的应力应变场特点.对于幂律材料裂纹构元,研究平面应变和平面应力条件下Ⅰ型裂纹尖端应力场的解析分布.基于能量密度等效和量纲分析,推导了能量密度中值点代表性体积单元(representative volume element, RVE)的等效应力解析方程,并定义其为应力因子,进而针对有限平面应变和平面应力紧凑拉伸(compact tension, CT)试样和单边裂纹弯曲(single edge bend, SEB)试样,以应力因子作为应力特征量,并构造用于表征裂尖等效应力等值线的蝶翅轮廓式和扇贝轮廓式三角特殊函数,提出描述幂律塑性条件下平面I型裂纹尖端应力场的半解析模型.该半解析模型形式简单,对CT和SEB试样的裂尖应力场的预测结果与有限元分析的结果比较表明,两者之间均密切吻合,模型公式可直接用于预测Ⅰ型裂纹尖端应力分布,方便于断裂安全评价和理论发展.     

阿奇霉素和茜素在甲醇中的荷移反应

研究了阿奇霉素和茜素在甲醇中的电荷转移反应,两者在甲醇中生成摩尔比为2∶1的荷移络合物,此络合物的λmax=536 nm,表观摩尔吸光系数为1.50×103L.mol-1.cm-1,药物浓度在25~250 mg.L-1范围内符合比耳定律。据此提出阿奇霉素的简单,快速而准确的测定方法。