彩色显像管阴极套管氧化状态的微观分析

通过对彩色显像管阴极套管表面氧化膜的微观分析，探讨和分析了阴极套管的黑化工艺机理及阴极套管氧化状态对阴极启动特性的影响，为生产工艺的优化提供了重要参考。     

大屏幕彩色显像管电子枪电子束形成区及预聚焦透镜特点分析

束形成区及预聚焦透镜是大屏幕彩色显像管电子枪的设计重点之一。本通过计算机模拟的方法对几种大屏幕彩色显像管用电子枪束形成区及预聚焦透镜的特点进行了系统分析，比较了各电子枪在不同电流下最小交叉截面位置的波动、最大电流密度的变化、主透镜中束截面形貌。分析表明束形成区和预聚焦透镜均采用四极结构的电子枪更容易实现聚焦稳定性和附加理想的像散。     

封闭开关柜中熔断器过热烧坏分析

针对箱变封闭开关柜中熔断器过热烧坏的问题，从熔断器发热功率方面进行了分析，解决了夏季高峰负荷时熔断器过热爆炸的问题，达到了夏季高峰负荷时稳定供电的效果。     

含钪大电流密度氧化物阴极工作机理研究

通过试制含钪氧化物阴极得到了一些有意义的实验结果。基金属上支取电流区域与不支取电流区域的形貌及成分有很大差异，含钪氧化物阴极与普通氧化物阴极涂层蒸发物中Ｂａ与Ｓｒ的比值差别很大，在加速寿命实验中，支取大电流密度情况下，含钪氧化物阴极表现出明显优势。本在实验的基础上，讨论了含钪氧化物阴极可以提供大密度电流的工作原理，认为阴极涂层中较强的电场使涂层活性大套增强，导电率大大提高，阴极涂层Ｂａ的蒸发率低     

关于重组分引入现有火炬是否引起火雨的分析

火炬排放系统是石化和炼油装置不可或缺的,是保证装置系统运行安全、减少环境污染的重要配套设施。从几个方面介绍并分析了新建装置紧急泄放排入现有火炬的可行性,对工厂的资源合理有效利用具有重要的参考价值。     

协同企业及其发展思路探讨

协同企业是在经济全球化及信息网络技术高速发展的环境下,依据合作共赢原则而建立的一种新的企业组织形式,其发展受到了人们越来越多的关注。在分析协同企业内涵及特征的基础上,针对当前协同企业发展中存在的问题,提出了协同企业的发展思路,并进行了相关案例的分析。     

大屏幕彩色显像管光点像散分析

大屏幕彩色显像管电子枪通常采用非轴对称四极透镜，其目的是形成一定正像散的着屏光点以抵消偏转磁场产生的负像散。理想情况是着屏光点在任何工作电流下都具有一定正像散。对几种典型大屏幕彩色显像管电子枪聚焦性能进行模拟表明：理想情况只出现在一定电流范围内，电流变化时，着屏光点的像散量会有较大的变化。     

一种64cm彩色显像管电子枪的研制

为了改进聚焦和适应中屏幕CPT低成本的趋势，开发出一种用于64cm CPT的电子枪，这种电子枪是在现有大屏幕CPT电子枪的基础上开发出来的。由于大屏幕CPT电子枪的会聚帽采用横长孔，使该枪难以直接移植在中屏幕CPT中。通过重新设计会聚帽组件，增添磁场控制器和校正电权，使新电子枪可以与非消彗差偏转线圈配合，作到了低成本，同时获得良好的聚焦性能。     

改半黑生料为全黑生料煅烧

本文分析比较了半黑生料、全黑生料煅烧后的熟料成份与物理性能;简述了在实施半黑生料过程中所采取的措施及其实施后的效果。     

米级光栅全息曝光拼接系统像差分析

全息曝光系统像差对光栅拼接精度及其远场衍射光斑能量分布有直接影响。根据全息曝光拼接方案提出了一种拼接光栅像差分析方法。模拟了全息曝光波面随机初级像差,利用500个曝光波面进行了光栅拼接统计,得到了米量级三拼光栅记录波像差和拼接精度,通过统计分析得到理想拼接情况下拼接引入的像差成份不到整体波面像差的10％。考虑到光栅衍射波像差包括记录像差和光栅基片面形,计算了不同拼接精度情况下一级衍射波面及远场衍射光强分布,对衍射波面PV值、远场光能量比和斯特列而比进行了统计分析,得到了拼接误差与衍射波面及远场光斑之间的关系。在拼缝误差为0．1λ以内时,远场光斑能量集中度和斯特列尔比的变化量可分别控制在5％以内。本文为米量级全息拼接光栅制造提供了理论支撑。