PCVD-TiN,TiAlN及TiSiN涂层的抗高温氧化性能

研究了用PCVD法所制备的TiN,TiAlN和TiSiN硬质涂层的抗高温氧化性能及TiN涂层在双氧水介质中的抗氧化性能。结果表明,TiAlN,TiSiN涂层在空气中的抗高温氧化温度达700℃以上,TiN涂层可达600℃。在双氧水介质中,PCVD－TiN涂层仍具有较强的抗氧化能力,且优于PVD－TiN涂层。     

等离子体化学气相沉积TiN涂层的后热处理技术研究

为了提高等离子体化学气相沉积 (PCVD)涂层的质量 ,改善基体材料的机械性能 ,更好地发挥PCVD硬质涂层的使用效果 ,采用了先沉积后热处理的新工艺。结果表明 ,热处理温度对PCVD TiN涂层的化学成分、显微结构和性能有较大的影响。随着处理温度的提高 ,涂层的结晶度得到大幅度的改善 ,涂层内的杂质氯含量降低 ,涂层的 (2 0 0 )晶面距减小 ,但在 90 0℃时 ,PCVD TiN涂层的显微硬度有一个最低值     

纳米Mg/PP复合材料的制备及结构研究

分别采用高能球磨法和电阻加热蒸发法制备了纳米Mg，并对其物相及结构进行了表征。再将经活化处理的纳米Mg与PP熔融共混制得复合材料，并测试其力学性能。结果表明：在一定用量范围内，蒸发法制备的纳米Mg能大大提高复合材料的韧性，由脆性断裂转变为韧性断裂；同时能保持复合材料原有的强度。     

用PCVD法制备(TiAl)N膜的研究

本文介绍了在PCVD设备中用固态AlCl_3制备(TiAl)N膜。结果表明,(TiAl)N膜的含Al量与AlCl_3的蒸发温度成正比,但膜内Cl含量却无明显变化。(TiAl)N膜保持了TiN膜的面心立方晶体结构,但其晶格常数变小,织构变弱,组织略有细化。(TiAl)N膜的显微硬度略高于或等于TiN膜的硬度,但抗高温氧化性有较大幅度提高。     

直流PCVDTi（CxN1—X）硬质膜及其应用

对不同成分的PCVD－Ti（CXN1－X）膜的组织结构及性能进行了研究。结果表明，Ti（CN）膜的高硬度、高致密组织和膜表面因吸附氧而形成的与TiN不同的表面结构是Ti（CN）膜性能优于TiN膜的重要因素。在冷挤压模上应用结果也表明，用PCVD法制备的Ti（CN）膜和TiC膜的使用效果要比TiN膜好得多。     

SnSe2纳米片的制备及结构表征

用溶剂热法制备了SnSe2纳米片,用XRD、EDS、SEM等手段对SnSe2纳米片的结构进行了表征。结果表明,采用亚硒酸钠为硒源,以乙二醇为溶剂,乙二胺为辅助溶剂,在180℃反应3 h制得花瓣状的厚度约为30 nm的SnSe2纳米片。随着反应时间的延长,纳米片的厚度增加;而采用硒粉为硒源,在180℃反应5 h制得厚度达60 nm的SnSe2纳米片;反应温度对合成晶体的形貌有重要影响,在180℃反应有利于形成结晶良好的纳米片。     

纳米碳管的性质及应用技术

从纳米碳管的分子结构、性质以及潜在的应用 ,对这种新型纳米材料作了简要描述 ;对纳米碳管分子结构与性质之间的联系及纳米碳管在半导体、场电子发射器、复合材料增强等方面的应用研究情况进行了介绍。     

多弧离子镀装饰膜层的色泽研究

运用多弧离子镀的方法，在1Cr13不锈钢及黄铜镀铬基体的表面上制备了氮化钛仿金装饰膜层。对氮化钛装饰膜层的色泽进行了研究，发现膜层具有装饰效果的黄金色彩，并讨论了镀膜工艺对膜层色泽的影响。     

微过滤及超过滤技术在化学镀镍工艺中的应用研究

实验表明在以工业级药品为原料的化学镀镍工艺中应用微过滤或超过滤技术,可显著地改善镀层的耐蚀性,其效果可与以试剂级药品为原料的化学镀镍层媲美。     

HIPS/nano-TiO2复合材料的吸光及光老化性能研究

研究了高抗冲聚苯乙烯／纳米TiO2（HIPS／nano—TiO2）复合材料的吸光及光老化性能,以紫外-可见光（UV—Vis）吸收光谱表征吸光性能,以傅里叶红外（FT—IR）及熔体流动速率（FMI）表征老化样品的结构．结果表明,与钛白粉相比,锐钛矿nano—TiO2对紫外光的吸收加强,但对可见光的反射率咯低．复合材料对250-400nm区域的紫外光有较强吸收,且随纳米质量含量的提高而增强．钛白粉也可提高复合材料的紫外吸收性能,且能大幅度提高对可见光的反射能力．锐钛矿nano—TiO2在老化样品中发挥了刚性粒子增韧作用．光老化后复合材料的力学性能明显优于HIPS老化样品,冲击强度可提高30％以上．光老化集中于HIPS的聚1,4-丁二烯（PB）相,老化以断链方式为主．