一种基于卷积核用于光刻模拟的计算稀疏空间点光强的方法

光学邻近校正 (OPC)系统要求一种精确、快速的方法来预测掩模图形转移到硅圆片的成像结果 .基于 Gabor的“降解为主波”方法 ,一个部分相干成像系统可以用相干成像系统的叠加来近似 ,并用高斯过滤器来模拟光刻胶横向扩散和一些掩模工艺效应 ,由此提出了一种基于卷积核的精确、快速地用于光刻模拟的稀疏空间点光强计算方法 .这种模型的简单性从本质上给计算和分析带来了好处 .仿真结果说明这种方法是有效的     

用于光刻模拟的快速计算稀疏空间点光强的方法

使用光刻仿真工具模拟掩模图形到硅圆片的转移成像结果,可以分析集成电路在工艺规则下产品的可靠性和部分电学特性．基于Gabor的“主波分解”方法,一个部分相干成像系统可以用相干成像系统的叠加来近似,再对空间图像进行高斯卷积来模拟光刻胶的实际扩散效应,从而获得一种精确、快速用于光刻模拟的稀疏空间点光强计算方法．根据光学系统的传输交叉系数的特性,提出和探讨了两种矩阵分解的方法．     

面向无缝拼接的并行反向光刻技术

Inverse lithography technology （ILT）, a promising resolution enhancement technology （RET） used in next generations of IC manufacture, has the capability to push lithography to its limit. However, the existing methods of ILT are either time-consuming due to the large layout in a single process, or not accurate enough due to simply block merging in the parallel process. The seamless-merging-oriented parallel ILT method proposed in this paper is fast because of the parallel process; and most importantly, convergence enhancement penalty terms （CEPT） introduced in the parallel ILT optimization process take the environment into consideration as well as environmental change through target updating. This method increases the similarity of the overlapped area between guard-bands and work units, makes the merging process approach seamless and hence reduces hot-spots. The experimental results show that seamless-merging-oriented parallel ILT not only accelerates the optimization process, but also significantly improves the quality of ILT.     

漯河市成功举办第八届房地产展示交易会

10月31日至11月2日,由漯河市人民政府主办,漯河市房产管理局和房地产业协会以及漯河日报社、漯河电视台共同承办的“2008年漯河市房地产展示交易会暨家装家居汽车博览会”在漯河市科教文化艺术中心广场成功举办。     

基于DLMS/COSEM与DL/T协议的SOC电能表设计

为了对协议的实现进行优化,本文从应用层的帧种类与功能、数据链路层帧结构和对象模型三个方面对DLMS/COSEM与DL/T协议进行了对比.在此基础上提出了一种以增加flash空间为代价来兼容DLMS/COSEM与DL/T协议的SOC(System On Chip)电能表设计方案.测试结果表明,电能表能基本满足DLMS/C...     

超深亚微米下快速电源网格节点电压求解器

提出了利用预处理器来提供强大的压缩节点功能,大大提高了电源网格节点电压求解器的求解能力和求解速度.实验证明,该求解器能处理大规模电路设计,速度快,精度高.     

第6代百日咳疫苗效力国家标准品的建立

目的建立第6代百日咳疫苗效力国家标准品。方法选用百日咳菌株(沪64-21),发酵罐培养,收获的百日咳菌液经脱毒灭活后,分装冻干,作为备选品,按《中国药典》三部(2010版)进行无菌试验、血清学试验、水分含量及百日咳特异性毒性检测。以WHO标准品PWIS和中国百日咳疫苗效力国家标准品3号、5号为标准,经5个实验室进行协作标定,并考察其效力稳定性。结果该备选标准品的各项检测指标均符合国家标准品的规定;经协作标定45次,分别以国家标准品3号、5号和WHO标准品为标准进行量值溯源,标定结果差异无统计学意义(P>0.05);最终合并效价为13 IU/ml(95%CI=12.23～13.26 IU/ml);保存期内标准品的效力稳定。结论该备选标准品各项指标均符合要求,可作为新的第6代百日咳疫苗效力国家标准品使用。     

集成电路光刻过程中的ECO技术

在现阶段深亚微米化的集成电路产业中,设计与制造已经出现日益严重的脱节,生产加工过程带来的重修正问题使得设计-生产周期大大加长,为了克服这个弊端,随之而来的反馈修正技术(ECO技术)应运而生.以光刻过程中光学临近矫正(OPC)技术所涉及到的反向修正技术为例,介绍了几种目前产业界所主要采用(或即将采用)的方法,并为此提出了几个目前所亟待解决的问题.     

一种用于标准单元版图交替移相掩模相位兼容性规则检查的工具

介绍了一套基于相位冲突图的生成和处理的新方法 ,可以准确、全面地对由传统方法设计的标准单元版图(暗场 )进行检查 .基于此方法的软件工具能够检查标准单元版图 ,找出不符合交替移相掩模设计要求的图形 ,并给出相关的修改建议 .实验结果证实了该工具的有效性     

基于光刻模型的动态自适应切分OPC

光学邻近校正(OPC)技术已经成为纳米级半导体工艺技术中的一个关键.目前在OPC中多边形的切分算法均基于配方(recipe),但随着特征线宽减小及版图越来越复杂,用于切分的配方难以覆盖所有的情况;不完备的配方引发或加剧了芯片上的纹波、断线和桥连等现象.论文提出了一种新的基于光刻模型的动态自适应切分算法,根据不同的光刻模型和几何环境可以给出不同的切分,并且可在校正循环中动态改变切分方式和采样点的放置位置.通过90nm工艺下版图设计的验证,这种切分不仅减少了被切分出的小线段(segment)数量的10%～15%,节省了调试切分规则的时间,而且提高了 OPC的质量,使PRV(post RET verification)错误率降低了35%.