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21.
采用多弧离子镀的方法在TiNi形状记忆合金表面镀覆了厚度为3μm的钽镀层,并对其进行了不同温度的真空退火处理.通过X射线衍射(XRD)研究发现,未经退火的镀层是由不稳定的β-Ta组成,分别经过700, 800, 900℃,1h退火后转变为α-Ta.透射电子显微镜(TEM)的观察发现,采用多弧离子镀的方法可以在TiNi合金表面得到纳米尺寸的β-Ta镀层.在700℃退火时可以得到由40 nm左右的微晶和150 nm左右的较大晶粒混合而成的α-Ta.当退火温度为900℃时,镀层主要由尺寸较大而且均匀的α-Ta组成. 相似文献
22.
镀钽TiNi形状记忆合金表面的XPS分析 总被引:2,自引:0,他引:2
采用多弧离子镀的方法在Ti 50.6%(原子分数)Ni形状记忆合金表面沉积了钽镀层。通过X射线光电子能谱(XPS)剖面分析发现TiNi合金表面钽镀层厚度均匀,并且在镀层与基体之间形成一薄层过渡层。将镀钽TiNi合金曝露于空气中后,通过XPS的全谱和高分辨谱图对其表面的成分和价态分析发现,镀钽层表面由于钽在空气中自然氧化形成了一层很薄的钽的氧化膜,最表面为高价钽的氧化物(Ta2O5),次表面为低价钽氧化物的混合物TaO2、TaO和TaOx(x<1)。 相似文献
23.
采用原子力显微镜(AFM)和X射线衍射分析(XRD)研究了退火处理对TiNi合金钽镀层微观组织结构的影响,研究表明采用多弧离子镀在TiNi合金表面沉积得到了β-Ta镀层,经退火处理后,钽镀层的表面粗糙度增加,亚稳定的β-Ta相完全转变为稳定的α-Ta相.采用血小板粘附试验研究了退火对镀钽TiNi合金血液相容性的影响.发现经过退火处理后血小板粘附数量明显降低,血小板没有发生聚集和变形,只有少数长出了伪足,即血小板基本未被激活,说明退火改善了镀钽TiNi合金的血液相容性. 相似文献
24.
26.
27.
基于多因子的机电设备测试性验证样本分配方案 总被引:2,自引:0,他引:2
针对目前机电设备测试性验证试验中,因样本分配不合理导致试验结论置信度低的问题,通过分析影响试验结论置信度的4个关键因素即故障模式数、故障率、故障扩散强度总和与危害度,提出了基于多因子的样本分配方案。方案依据多因子综合相对比值,得出各UUT所分配的样本量,达到优化样本结构,提高样本集代表性的目的。对单步故障扩散算法进行了改进,改进后的算法可以更有效地计算故障扩散强度,并以某机电设备稳定跟踪平台为例进行了样本分配,比较分析抽样结果证明,应用该方案得到的样本结构更加合理,可以使试验结论有较好的置信度。 相似文献
28.
随着经济的飞速发展,我国的特高压输变电工程进入了一个快速建设的阶段。由于监造工作量的快速增长,在特高压SF6封闭式组合电器(GIS)设备监造中普遍采用了集中监造的方式,一方面整合了多个业主单位的优秀监造资源,另一方面提高了监造的效率。2015年江苏电网建成3座特高压变电站,江苏省电力公司电力科学研究院承担了其中特高压GIS的设备监造工作,并采用了集中监造的方式开展工作。在集中监造期间,发现了设备工装放电、零部件入厂把控不严、零部件管理混乱等典型问题,体现了集中监造的意义,并对今后的集中监造工作提出了建议。 相似文献
29.
极间距对6061铝合金微弧氧化的影响 总被引:1,自引:1,他引:0
目的通过改变极间距来控制膜层在试样表面的局部生长。方法通过改变阴极面积来营造均匀与非均匀的电场环境。分别进行微弧氧化试验,根据时间-电压曲线、弧光放电现象、膜层厚度分布等,分析了非均匀电场环境下,极间距对6061铝合金微弧诱发和生长过程的影响。结果非均匀场强下,极间距从2 mm增大到50 mm时,终止电压先从550 V降低到450 V,随后又逐渐上升到650 V;微弧诱发时间从10 s增加到310 s后,又减小到90 s;中心区域膜层厚度从7.5μm减小到1.5μm,后又增加到4μm,边缘区域的厚度则从0μm缓慢增加到4μm。微弧氧化在较小极间距的情况下,极间距的增大会降低反应速率和提高膜层的均匀性。结论极间距的变化会对膜层的生长速率、膜层厚度以及膜层的形貌特征产生很大影响。通过调整合适的极间距可以控制膜层的生长区域,实现膜层的局部优先生长。 相似文献
30.
采用遗传算法对GM(1,1)预测模型进行优化以期提高铁路客运量预测模型精度。首先运用传统最小二乘算法对GM(1,1)预测模型的发展系数和内生灰作用量进行求解并对高铁客运量进行预测,结果预测平均误差为0. 259;之后采用遗传算法对GM(1,1)预测模型的发展系数和内生灰作用量进行优化,使模型的预测准确性得到了明显的提升,且当交叉默认概率P_c=0. 8,变异概率为P_m=0. 01,所得预测结果最优,平均误差率为0. 073。结果表明:利用遗传算法对GM(1,1)预测模型进行优化能够提高铁路客运量预测模型精度。 相似文献