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ZnO材料的电子输运特性 总被引:4,自引:0,他引:4
用全带Monte Carlo方法模拟了纤锌矿Zn O材料电子的稳态和瞬态输运特性.稳态输运特性包括稳态平均漂移速度-电场特性、电子平均能量-电场特性和在不同电场下电子按能量的分布.在平均漂移速度-电场特性中发现了微分负阻效应.Zn O的瞬态输运特性包括平均漂移速度-位移关系曲线、渡越时间-位移关系曲线等.在平均漂移速度-位移关系曲线中发现了过冲现象,这种现象是电子从低能谷到高能谷跃迁过程中的弛豫时间产生的. 相似文献
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采用可调节点径向基函数神经网络实现视觉伺服机器人摄像机标定.首先将基于leave-one-out准则的orthogonal forward selection算法扩展到多入多出的RBF网络,建立摄像机标定的RBF网络模型.通过应用卡内基-梅隆大学标定图像实验室提供的标定数据进行仿真试验,验证此方法的有效性.由于OFS-LOO算法可构造出具有稀疏隐层节点的RBF网络,使网络具有较好的泛化推广能力,同时RBF网络为局部逼近网络,因此,此标定方法具有较高的标定精度和较强的标定实时性,适用于视觉伺服的摄像机标定. 相似文献
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介绍了一种利用模湖控制器实现无线温度控制系统的设计方案.此方案以上业川电阻炉为控制对象,下位机将PT100测量温度反馈量无线传送给上位机,上位机采用模糊控制算法,将控制输出量以无线通信的方式传送给下位机,构成闭环控制系统.其中执行机构以PwM输出方式对电阻炉温度进行控制. 相似文献
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针对一类特殊的混杂系统——切换系统的最优控制问题.利用控制函数参数化方法和时间尺度转化法,将切换系统最优控制问题转化为最优参数选择问题,可利用Miser3.2来求解该问题,这样能有效地简化求解切换系统最优控制的难度,而且算法易于理解,编程易于实现。 相似文献
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在Corning 1737玻璃衬底上射频磁控溅射沉积了铝掺杂ZnO薄膜(ZnO∶Al).薄膜沉积在衬底温度250℃、溅射功率100W和纯氩气氛中进行.通过在0.2~3.2Pa范围改变溅射氩气氛压力pAr,研究了不同pAr对样品的晶体结构、电学特性、光学特性和表观形貌的影响.利用X射线衍射(XRD)、透射和反射谱测量、扫描电子显微镜(SEM),发现不同pAr下ZnO∶Al薄膜都具有垂直于衬底C轴择优取向.在可见光谱范围,pAr对透过率的影响非常小,薄膜的平均透过率大于83%,但红外透过率与薄膜的电阻率成正比.在较低的溅射气压下(pAr=0.2Pa)获得的薄膜电阻率最小,对应有大的光学带隙(3.61eV).随着pAr的降低,晶粒尺寸增大.pAr对ZnO∶Al薄膜的表观形貌有显著的影响. 相似文献
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Ar气压对射频磁控溅射铝掺杂ZnO薄膜特性的影响 总被引:9,自引:6,他引:9
在Corning 1737玻璃衬底上射频磁控溅射沉积了铝掺杂ZnO薄膜(ZnO∶Al).薄膜沉积在衬底温度250℃、溅射功率100W和纯氩气氛中进行.通过在0.2~3.2Pa范围改变溅射氩气氛压力pAr,研究了不同pAr对样品的晶体结构、电学特性、光学特性和表观形貌的影响.利用X射线衍射(XRD)、透射和反射谱测量、扫描电子显微镜(SEM),发现不同pAr下ZnO∶Al薄膜都具有垂直于衬底C轴择优取向.在可见光谱范围,pAr对透过率的影响非常小,薄膜的平均透过率大于83%,但红外透过率与薄膜的电阻率成正比.在较低的溅射气压下(pAr=0.2Pa)获得的薄膜电阻率最小,对应有大的光学带隙(3.61eV).随着pAr的降低,晶粒尺寸增大.pAr对ZnO∶Al薄膜的表观形貌有显著的影响. 相似文献
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介绍一种利用C8051f系列单片机和电流控制型PWM控制器SG3525.设计并研制的一种中频感应加热电源控制线路.分析采用C8051f330单片机控制SG3525实现高压脉冲加热启停和频率测量,加热时间设定以及设计主回路过温过压等保护功能。 相似文献