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周建坤 《电脑编程技巧与维护》2016,(22):52-54
随着我国互联网技术的高速发展,逐渐涌现了物联网、云计算以及大数据等一系列计算机技术,教育对信息化的需求不断扩大,社会广泛关注高职院校的智慧校园建设.云计算技术作为计算机的核心技术之一,对于智慧校园的建设起到至关重要的作用,在高职院校智慧校园建设中应用云计算技术,能够促进智慧校园海量信息资源之间的共享,提升智慧校园计算机云服务和计算速度,是实现智慧校园建设的必要途径.基于此,对高职院校智慧校园的特征和信息化建设情况进行了深入分析,并且综合分析了高职院校智慧校园中云计算技术的应用现状,以当前的云计算技术作为基础,对智慧校园建设提供了理论建议. 相似文献
2.
周建坤 《计算机光盘软件与应用》2011,(14)
为化解LINUX操作系统在学习过程中的枯燥、难学的问题。本文在分析项目教学与任务驱动式教学的基础上,提出了基于项目的任务驱动式教学法,并给出了在LINUX操作系统教学应用实例。 相似文献
3.
利用Forefront TMG提高高校校园网网络安全的研究 总被引:1,自引:0,他引:1
首先分析了当前高校校园网中普遍存在的安全问题,以及现行防火墙的不足;其次,分析了Forefront TMG的新特性;再次,结合高校校园网的现存问题及TMG的新特性提出了部署方案;最后在测试运行后,对本方案作出了评价,并作出了展望。 相似文献
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5.
TiN薄膜的合成及其性能研究 总被引:1,自引:0,他引:1
用电子束蒸发沉积钛和40keV氮离子束轰击交替进行的办法合成了TiN薄膜。用RBS,AES,TEM,XPS,和X射线衍射研究TiN薄膜的组分和结构表明:用离子束增强沉积制备的TiN薄膜主要由TiN相构成;晶粒大小为30—40um,无择优取向;而非离子束轰击沉积的薄膜则是无定形的;用离子束增强沉积制备的TiN薄膜,其氧含量明显小于无离子束轰击薄膜的值;在TiN薄膜和衬底之间存在一个界面混合区,厚度为40um左右。机械性能测试表明,TiN薄膜具有高的显微硬度,低的摩擦系数。 相似文献
6.
研究了在循环过热过程中不同组分玻璃净化剂对Fe81Ga19和Fe72.5Ga27.5合金熔体获得的过冷度及其稳定性的影响。结果表明,通过物理-化学复合净化作用,90%Na-Si-Ca+10%B2O3(记作Na-Si-Ca-B玻璃)可使Fe81Ga19合金熔体在循环过热过程中获得250K的稳定深过冷。但是,由于高温(1273K)下Na-Si-Ca-B玻璃粘度过大,在循环过热过程中会大量吸附液态Ga,会使Fe72.5Ga27.5合金发生严重的Ga元素损耗。9.4%SiO2+84.6%Na2B4O7+6%CaO(记作Na-B-Si玻璃)的净化机理与Na-Si-Ca-B玻璃相似,它能使Fe72.5Ga27.5合金获得高达325K的深过冷,且由于其适中的高温粘性可有效避免Ga元素损失的发生。 相似文献
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周建坤 《电脑编程技巧与维护》2018,(1):119-120,132
大数据时代的到来,社会各行业和各领域都受到了很大的影响,为了适应大数据时代的需要,各领域、各行业不得不做出相应的调整,以满足大数据时代的要求.在大数据时代的背景下,"云"概念也随之出现,云计算越来越多地被人们关注,云计算与大数据的融合发展逐渐成为其发展的一大趋势.阐述了云计算和大数据的相关内容,包括基本概念和主要特点,分析了大数据与云计算的联系和区别,并对云计算与大数据的融合发展进行了详细地探讨,从而形成了对云计算与大数据的全面认识与了解,希望能够为今后相关内容的研究提供一定的参考依据. 相似文献
9.
周建坤 《电脑编程技巧与维护》2017,(13)
国家提出的"互联网+"战略,加快了各行各业的互联网应用进程,其中"互联网+职业教育"模式也得到了快速的发展,数字资源库建设是研究支撑该模式的重要组成部分.在分析高职院校数字资源库建设现状的基础上,针对性地提出了基于"互联网+"的数字资源库建设方案,该方案主要是将"互联网+"跨界、变革、开放、融合的特性融入到数字资源库的建设过程中,提出了"四化"及共建共享的设计,并给出了基于该设计的建设内容及方法. 相似文献
10.
本文建立了一个适用于描述离子束增强沉积(Ion Beam Enhanced Deposition,即IBED)过程的Monte-Carlo计算机模拟程序。程序由离子注入计算和蒸发沉积计算两大部分组成。离子注入计算以二体碰撞近似为基础,以随机固体为靶模型,对入射离子和所有反冲原子的力学运动进行跟踪。程序中考虑了沉积原子对靶室中某些残余气体分子的吸附;还表达了靶的组份及密度在IBED过程中的不断变化,从而实现了靶的动态化。该程序可以提供IBED薄膜组份的深度分布、界面混合以及能量沉积等信息。计算结果表明,在IBED氮化钛薄膜中,Ti沉积速率对薄膜组份有很大影响。当沉积速率较低时,薄膜组份基本与注入离子和沉积原子的到达率比(N/Ti)无关。膜与基体间的混合层厚度随离子原子到达率比(N/Ti)增加而增加。计算结果与实验测试结果符合很好。 相似文献