排序方式: 共有51条查询结果,搜索用时 15 毫秒
1.
2.
3.
形状记忆材料是一种重要的智能材料,主要作为执行器件材料,被广泛的用在建筑、航空航天、军事和医学等领域.近年来形状记忆材料的研究和应用受到研究人员的重视.本文综述了近几年形状记忆合金、形状记忆陶瓷和形状记忆聚合物的新的研究成果和研究方向,展望了形状记忆材料未来的发展趋势. 相似文献
4.
5.
6.
7.
8.
日本基于MEMS传感器的研究进展 总被引:2,自引:0,他引:2
本文综述了近年来日本基于MEMS的传感器在企业和高校的研究进展,简述了各类MEMS传感器的结构特点与微机械加工技术,对我国MEMS传感器的研究与发展将有很大的借鉴作用. 相似文献
9.
为了探讨辐照对芳基乙炔预聚体及聚芳基乙炔(PAA)性能的影响,采用^60Co对芳基乙炔预聚体及PAA进行辐照,并运用DSC和TGA对芳基乙炔预聚体热聚合过程和PAA的性能进行了研究。研究结果表明:(1)辐照的芳基乙炔预聚体聚合热减小;(2)经预辐照热聚合的PAA比未经预辐照直接热聚合的PAA的耐热性好;(3)PAA经辐照后处理,耐热性能提高。这些结果表明辐照能有效改善PAA的耐热性能。 相似文献
10.
探究HfO2薄膜的激光损伤特性以进一步提高激光损伤阈值(Laser Induced Damage Threshold, 简称LIDT), 对其在高功率激光系统中的广泛应用具有重要的意义。在不同的离子源偏压下, 采用等离子体辅助电子束蒸发金属铪(Hf)并充氧(O2)进行反应沉积法制备了中心波长为1064 nm, 光学厚度为4H的HfO2薄膜样品。测试了薄膜组分和残余应力; 根据透射谱拟合了薄膜的折射率; 通过XRD谱图和SEM表面形貌图分析了薄膜的微观结构; 对激光损伤阈值、损伤特性和机理进行了论述。结果表明: 偏压100 V时制备的薄膜具有最佳O/Hf配比; 薄膜压应力和折射率均随偏压降低而减小。薄膜内存在结晶, 激光能量在晶界缺陷处被强烈聚集和吸收, 加速了膜层的破坏, 形成由几百纳米的烧灼坑聚集而成的海绵状损伤结构。随着偏压降低, 膜结晶取向由( )晶面向(002)晶面转变, 界面能降低; 晶粒减小, 结构更均匀, 缓解了激光能量在晶界处的局部聚集与吸收, 表现出较大的激光损伤阈值。 相似文献