CoCu合金颗粒膜的室温磁电阻效应

利用射频磁控溅射方法制备ＣｏＣｕ合金不同成分的亚稳态薄膜。研究了ＣｏＣｕ合金颗粒膜的磁电阻随真空退火温度，外磁场以及组元成分而变化的规律，经真空退火后，ＣｏＣｕ颗粒膜中析出了Ｃｏ颗粒呈面心立方结构。这种在非磁性Ｃｕ的基体上和具有磁性Ｃｕ偏聚态的纳米级颗粒膜具有巨磁阻（ＧＭＲ）效应，ＣｏＣｕ颗粒膜的ＧＭＲ效应及磁性能均取决于Ｃｏ颗粒的尺寸及数量。     

CoCu合金颗粒膜的室温磁电阻效应

利用射频磁控溅射方法制备ＣｏＣｕ合金不同成分的亚稳态薄膜。研究了ＣｏＣｕ合金颗粒膜的磁电阻随真空退火温度、外磁场以及组元成分而变化的规律。经真空退火后，ＣｏＣｕ颗粒膜中析出的Ｃｏ颗粒呈面心立方结构。这种在非磁性Ｃｕ的基体上和具有磁性Ｃｏ偏聚态的纳米级颗粒膜具有巨磁阻（ＧＭＲ）效应。ＣｏＣｕ颗粒膜的ＧＭＲ效应及磁性能均取决于Ｃｏ颗粒的尺寸及数量。     

Fe－Cu和Fe－Ag颗粒膜的巨磁电阻

报道了ＦｅｘＣｕ１－ｘ和ＦｅｘＡｇ１－ｘ颗粒膜的磁电阻随成分和温度的变化。在１．５Ｋ和７Ｔ磁场下测量的磁电阻值可达５０％，并发现磁化强度的饱和场小于２Ｔ，而磁电阻在７Ｔ时仍未饱和。样品从低温到室温具有较大的温度系数。对上述情况进行了初步探讨。     

Fe—Cu和Fe—Ag颗粒膜的巨磁电阻

报道了ＦｅｘＣｕ１－ｘ和ＦｅｘＡｇ１－ｘ颗粒膜的磁电阻随成分和温度的变化，在１．５Ｋ和７Ｔ磁场下测量的磁电阻值可达５０％，并发现磁化强度的饱和场小于２Ｔ，而磁电阻在７Ｔ时仍未饱和，样品从低温到室温具有较大的温度系数，对上述情况进行了初步探讨。     

磁场下电沉积制备CuCo颗粒膜的巨磁电阻效应

在磁场下电沉积制备CuCo功能膜材料,研究膜层的巨磁电阻效应及磁性能.应用X射线衍射仪(XRD)对镀层微观结构随热处理温度的变化进行分析,采用四引线法及振动样品磁强计(VSM)测量膜层的磁性能.磁阻测试发现:磁感应强度为0.6 T下制备的CuCo颗粒膜经500 ℃真空退火处理1 h后,其巨磁电阻值较无磁场下制备的提高约25%,这是由于0.6 T下制备的颗粒膜晶粒较致密,同时磁场减少了膜层内部缺陷,如杂质、夹杂等.样品磁滞回线表明:500 ℃真空退火处理1 h后膜层具有最佳的磁性能,此时膜层中的单磁畴磁性粒子有助于提高巨磁电阻值.CuCo颗粒膜电沉积制备过程中施加磁场可以改善膜层的微观结构,使其具有更高的巨磁电阻效应.     

磁性颗粒膜研究概况

本文概括地介绍了颗粒膜的制备，磁性，光学性质，以及巨磁阻效应。     

相位相干与巨磁电阻极大值

用双流模型研究磁性金属－金属型颗粒膜（Ｆｅ－Ａｇ,Ｃｏ－Ａｇ）中巨磁电阻（ＧＭＲ）极大值特性,结果表明,磁性颗粒内杂质原子之间的相位相干,对磁电阻极大值的产生有重要影响,这种相位相干与外场磁化的综合作用使颗粒膜巨磁电阻的尺寸关系表现出非单调的特征,并用该模型计算和讨论了巨磁电阻的其它性质,结果与实验符合较好。     

磁性颗粒膜研究概况

本文概括地介绍了颗粒膜的制备、磁性、光学性质，以及巨磁阻效应。     

退火温度对Co-Ag颗粒膜结构及巨磁电阻效应的影响

采用磁控溅射方法在室温衬底上制备了Co30Ag70(原子百分比)颗粒膜。利用X射线衍射谱(XRD)和四探针方法研究了Co30Ag70颗粒膜沉积态及真空退火后的室温结构和室温巨磁电阻效应。结果表明：沉积态颗粒膜织构较明显，巨磁电阻效应呈现各向异性；随着退火温度的升高，Co30Ag70颗粒膜的微结构发生了演变，导致Co30Ag70颗粒膜的巨磁电阻效应呈现先降后升再降的现象，在473K达到最大值，其值约为-5．7％。     

Fe-Cu颗粒膜结构及巨磁电阻效应研究

通过磁控溅射方法在室温衬底上制备了Fe23Cu77(at．％)颗粒膜，利用XRD、TEM、VSM及四探针方法对Fe23Cu77颗粒膜的结构、性能进行了研究。结果表明：室温时，尺寸约为1nm～10nm的Fe颗粒非均匀分布在Cu基体中，颗粒膜中存在着明显的织构。VSM测量表明室温颗粒膜呈超顺磁性，其磁化曲线符合朗之万函数。随退火温度提高，颗粒膜的巨磁电阻(GMR)值单调下降，在室温最大，其值约为-1.2％。其原因可归结于颗粒膜在室温下就达到了最佳的表面积与体积比，从而增强了自旋相关散射和GMR效应。通过最小非线性二乘方法拟合GMR-(M／Ms)曲线表明，低场时GMR与(M／Ms)呈平方率关系，而在高场时则偏离平方率关系。     

Fex（In2O3）1—x磁性颗粒膜的微结构与磁性

用射频溅射法制备了金属／半导体Ｆｅｘ（Ｉｎ２Ｏ３）１－ｘ颗粒膜,用ＸＲＤ,ＴＥＭ辅以磁性测量研究了该系列颗粒膜的微结构,实验结果表明,纳米尺度的Ｆｅ颗粒均匀地分散在非晶态Ｉｎ２Ｏ３中,退火史Ｉｎ２Ｏ３晶化,其晶格常数与Ｆｅ的体积分数有关;退火可使Ｆｅ颗粒长大,由超顺磁性变为铁磁性。     

蒸发—气体—聚集制备的Co—Ag颗粒膜微观结构与巨磁电阻特性

基于溅射－气体－聚焦（ＳＧＡ）形成纳米金属颗粒的原理,提出了蒸发－气体－聚集（ＥＧＡ）共沉积制备Ｃｏ－Ａｇ颗粒膜的新方法,并利用该方法制备了系列Ｃｏ－Ａｇ颗粒膜样品,ＴＥＭ／ＥＤ分析表明;制备态样品Ｃｏ颗粒被Ａｇ原子所包裹,能有效地阻止颗粒的表面氧化与团聚,薄膜无需经过热处理即可形成Ｃｏ与Ａｇ的相分离,其结构为ｆｃｃ－Ｃｏ和ｆｃｃ－Ａｇ非均匀相多晶共存形态;与Ｃｏ大块材料相比,薄膜中Ｃｏ颗粒晶格常     

退火、稀土Pr对Prx(Co40Ag60)100-x颗粒膜的结构与巨磁电阻效应的影响

采用磁控溅射法制备Prx(Co40Ag60)100-x颗粒膜。X射线衍射实验结果表明:稀土元素Pr有促进薄膜中溶于Ag中的Co发生相分离的作用,并且在退火过程Ag颗粒的聚集生长具有(111)轴择优取向的颗粒膜;巨磁电阻(GMR)效应测量结果表明:当退火温度小于或等于250℃时,随着Pr含量的增加,薄膜的GMR值先升后降,其峰值出现在x=0.5～1.0处。适量的Pr元素能够增强GMR效应以及提高GMR效应对磁场的灵敏度,GMR效应以及灵敏度的最大值分别为:-14.34%和0.67×10-3(A/m)-1。     

Ni－Ag颗粒膜的磁性和磁电阻效应

用真空蒸发工艺制备了ＮｉｘＡｇ１－ｘ颗粒膜，在不同温度下研究了磁性和磁电阻与热处理温度和成分的关系。发现，在Ａｇ基质中，制备态膜的Ｎｉ颗粒很小，电镜分析看不出Ｎｉ的ｆｃｃ结构，经２００℃×１０ｍｉｎ退火可以看到Ｎｉｆｃｃ衍射环。在１．５Ｋ磁电阻可达９％，饱和磁化强度约５２±３ｅｍｕ／ｇ．     

(FeCo)-Ag颗粒膜制备及GMR性能的研究

采用磁控溅射方法制备了一系列的(Fe83Co17)xAg100-x(x=40,45,50,55,60)颗粒膜样品,并利用X射线衍射(XRD)、四探针方法以及振动样品磁强计(VSM)研究了(Fe83Co17)55Ag45颗粒膜沉积态及真空退火后的结构、巨磁电阻效应(GMR)以及磁性能。磁电阻测量表明:当x=55时,厚度为400nm的制备态薄膜样品(Fe83Co17)55Ag45的GMR值最大,为–8.1%;XRD结果表明,随着退火温度的升高,(Fe83Co17)55Ag45颗粒膜的微结构发生了演变,导致(Fe83Co17)55Ag45颗粒膜的GMR值呈现先增后降的趋势,在150℃达到最大值,其值约为–8.3%;(Fe83Co17)55Ag45样品的磁滞回线显示随着退火温度的不断升高,矫顽力逐渐增大。     

具有高灵敏度磁阻效就的纳米颗粒膜

日本川崎钢铁公司利用离子化率优异的空心阴极放电 (ＨＣＤ)法制备了表面涂ＴｉＮ、ＴｉＣＮ和ＴｉＣ层的单取向硅钢板 ,研究了这种钢板的表面涂层的结晶结构和磁特性。研究用的硅钢板的化学成分含Ｃ 0 0 4 3,Ｓｉ 3 31,Ｍｎ 0 0 72 ,Ｓｅ 0 0 19,Ｓｂ 0 2 3,Ｍｏ 0 0 12 % (质量 )。首先将硅钢板试样浸入熔融氢氧化钠浴中除去钢板表面的绝缘膜 ,再经 10 %盐酸 (35 3Ｋ)中浸泡清除镁橄榄石底层。最后在 3%ＨＦ + 97%Ｈ2 Ｏ2 溶液中化学研磨 ,获得表面光滑的试样。试样在ＨＣＤ离子镀装置中对试样两面和一面进行表面涂镀ＴｉＮ、ＴｉＣ…     

巨磁电阻薄膜材料的研究进展

对巨磁电阻薄膜材料及其制备技术的发展现状进行了综述和评价,重点介绍了国内外在电沉积巨磁电阻薄膜材料方面的最新进展,并指出磁场对电沉积的影响是一个值得深入探讨的研究方向。     

羰基γ—（Fe,Ni）纳米颗粒的制备及性能

以五羰基铁和四羰基镍为前驱体，使它们在高温热解并通过自合金化过程制备出抗氧化性能强的粒度为５０ｎｍ的羰基γ－（Ｆｅ，Ｎｉ）超细微粒，Ｘ射线能量色散谱的定量分析表明，其Ｆｅ、Ｎｉ的原子含量约为Ｆｅ４０％、Ｎｉ６０％，透射电镜分析表明粒度为５０ｎｍ的颗粒是由粒度只有几个ｎｍ的更小的颗粒所组成，并测量了颗粒的磁性能。