空心玻璃微珠偶联化学镀银的研究

使用氨丙基三乙氧基硅烷偶联剂改性空心玻璃微珠表面,然后直接实施化学镀银,借助红外光谱、扫描电镜和X-射线衍射测试手段对偶联改性效果、镀层表面形貌和结构进行了表征.测试结果表明,与胶体钯活化法和硝酸银活化法化学镀银相比,空心玻璃微珠偶联表面改性直接化学镀银的镀层更为致密、均匀,银利用率高,导电性好,结合力强.     

化学镀空心玻璃微珠基吸波材料的研究进展

化学镀作为一种空心玻璃微珠的改性手段,其工艺设备简单、镀层厚度均匀且镀层包覆性能好,作为吸波材料被广泛使用。简述了化学镀的发展和原理,综述了利用化学镀银、化学镀镍、化学镀钴和化学镀铜表面改性后空心玻璃微珠基吸波材料的研究现状。指出化学镀铜法表面改性后的空心玻璃微珠因其成本低和吸波性能良好将成为发展趋势。     

粉煤灰空心微珠的特性与应用

粉煤灰空心微珠是从粉煤灰中分选出来的玻璃微珠。在国内,空心微珠是指粉煤灰中的微小空心环形颗粒,包括视比重小于1的漂珠,视比重大于1的沉珠。近年来,我们主要对视比重小于1的漂珠的形成机理,基本特性及其应用领域做了些工作,本文对此进行介绍,同时介绍了国内外的最新进展。     

空心玻璃微珠化学镀银研究进展

综述了应用于电磁屏蔽涂料、导电填料等领域的镀银空心玻璃微珠化学镀制备工艺.按空心玻璃微珠化学镀银操作工艺的3个主要步骤,分别介绍了空心玻璃微珠表面前处理、施镀及镀后处理的各类方法.总结了不同表面前处理方法、镀液配方、操作工艺参数及微珠基体自身性质等因素对空心玻璃微珠化学镀银过程的影响.探讨了空心玻璃微珠化学镀银存在的问...     

空心玻璃微珠无钯活化化学镀银的研究

基于银镜反应原理,不经过粗化和活化直接对空心玻璃微珠进行化学镀银。采用单因素分析法,研究了硝酸银、葡萄糖、装载量、氢氧化钠和无水乙醇对银的利用率以及镀层的增重率、导电性能和结合强度等的影响,并借助扫描电镜和X射线衍射仪对镀层的表面形貌和结构进行了分析。结果表明:与胶体钯活化工艺相比,无钯活化化学镀银工艺的银的利用率高,镀层均匀、致密,导电性好,结合强度高。     

空心微珠表面包覆TiO2的研究

在采用加碱法空心微珠表面包覆TiO2,适宜的工艺条件是反应温度70～80℃,体系pH值2.0～2.5,加料时间控制在4～5 h,搅拌速度400r/min,得到的样品经过950℃,2 h煅烧处理.指出提高空心微珠包覆率和保证包覆尽量均匀是影响涂层降温效果的关键.     

高性能空心玻璃微珠表面活化的研究

高性能空心玻璃微珠作为一种新型的无机硅酸盐材料。本文对高性能空心玻璃微珠的特性进行了详细介绍,并采用硅烷偶联剂Y-氨丙基三乙氧基硅烷（KH-550）、Y-缩水甘油醚氧丙基三甲氧拭硅烷（KH-560）及Y-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷（KH-570）分别对高性能空心玻璃微珠进行了表面活化处理,考察了微珠表面处理后吸油值的变化,最后通过高倍偏光显微镜、傅里叶红外光谱（FT-IR）对其结构进行了表征,分析了硅烷偶联剂对高性能空心玻璃微珠表面处理的影响因素和活化机理。结果表明：当硅烷偶联剂添力量为0．5-1．0％,处理时间为120min且温度为110℃时,微珠的表面活化处理效果最好。     

新型橡胶填料--空心玻璃微珠

空心玻璃微珠对我国橡胶工业而言，还是一种新填料。研究空心玻璃微珠的表面特性和表面处理效果，探讨了空心微珠在炭黑增强橡胶中的应用。结果表明：空心玻璃微珠表面的羟基含量很低，含水量很小，不利于进行改性程度高的表面处理。空心玻璃微珠的粒径有一定的分布。使用硅烷偶联剂进行表面处理后，能够使微珠的表面由亲水变为亲油，并在一定程度上提高其补强性能。空心微珠可以在完全不改变原有配方的基础上，进行较大量填充。单独使用不如与炭黑、白炭黑并用，复合材料的主要优势在于：成本较大幅度地下降，各项力学性能保持较好，随微珠用量的增加，加工性能和产品的外观进一步改善。     

磁控溅射镀膜技术的研究及发展趋势

综述了磁控溅射镀膜技术在非平衡磁场溅射、脉冲磁控溅射等方面的发展,利用新型的磁控溅射镀膜技术可以实现薄膜的高速沉积、高纯薄膜制备以及提高反应溅射沉积薄膜的质量等,并进一步取代电镀等传统表面处理技术。并阐述磁控溅射镀膜技术在电子、光学、表面功能薄膜等许多方面的应用。     

铝合金表面磁控溅射类石墨镀层组织与性能研究

采用非平衡磁控溅射离子镀技术在铝合金表面沉积类石墨镀层。采用原子力显微镜对镀层的微观形貌进行观察,采用划痕附着力测试仪对镀层的膜基临界载荷进行测试,利用维氏显微硬度计和销-盘摩擦磨损试验机对镀层的显微硬度及摩擦系数进行了测试。研究结果表明,基体偏压在-60 V~-120 V范围内,类石墨镀层以岛状方式生长,且随偏压值增大,镀层晶粒和粗糙度减小;随基体偏压值增大,镀层膜基临界载荷逐渐增大,摩擦系数逐渐减小,当基体偏压值为-120 V时,镀层临界载荷为42 N,硬度最高为235 HV0.025,摩擦系数为0.19。磨损机制由粘着磨损和磨粒磨损为主转变为以磨粒磨损为主。     

浅析磁控溅射氧化锡镀膜工艺

通过对磁控溅射氧化锡镀膜工艺的研究,指出在不同溅射功率、不同工艺气体流量下,如何稳定、高效地控制氧化锡磁控溅射镀膜工艺。     

Decoration of MWNTs by CdS Nanoparticles Using Magnetron Sputtering Method

Carbon nanotubes (CNTs) modified with semiconductor nanocrystalline particles may find wide applications due to their unique properties. Here Cadmium Sulfide (CdS) nanoparticles were successfully grown on Multi-Walled Carbon Nanotubes (MWNTs) via a magnetron sputtering method for the first time. The CdS/MWNTs sample was characterized with X-ray diffraction (XRD), Field Emission Scanning and High Resolution Transmission Electron Microscopies (SEM/TEM) and four point probe. The obtained images show clearly the decoration of the MWNTs by the CdS nanoparticles, and the XRD measurements indicate the CdS structure as hexagonal type. Moreover, the physical properties of the CdS/MWNTs were compared with the physical properties of the CdS nanoparticles grown on the silicon. Electrical measurements of CdS and CdS/MWNTs reveal that CdS/MWNTs has lower resistivity than the CdS sample which may be due to the higher carrier concentrations.     

真空磁控溅射镀膜设备中罗茨泵的保养与维护

真空磁控溅射设备的真空度高低及稳定性直接决定了镀膜产品性能,真空条件控制是镀膜的关键技术之一。通过开发使用罗茨泵关键零部件的安装、拆卸装置,可以有效降低罗茨泵的日常自主保养成本和周期。     

Properties of Carbon Fibers after Applying Metal Coatings on them by Magnetron Sputtering Technology

Fibre Chemistry - Using magnetron sputtering technology, two types of metal coatings, stainless steel and titanium, are applied to the surface of unidirectional carbon tape. Prior to the deposition...     

基体偏压对磁控溅射类石墨镀层耐蚀性的影响

对铝合金表面非平衡磁控溅射沉积类石墨镀层,采用极化曲线测试和质量损失方法,分析了镀层的耐蚀性;利用扫描电子显微镜对镀层腐蚀前后的微观形貌进行了观察。结果表明,铝合金表面磁控溅射类石墨镀层由铬打底层和碳工作层组成。镀层组织细小,均匀致密,类石墨镀层可以提高铝合金的耐蚀性。随基体负偏压增大,铝合金试样的耐蚀性增加,当基体为-120 V偏压时,铝合金基体的自腐蚀电位由-0.452 V提高到-0.372 V,腐蚀电流由10.62 m A减小到3.67 m A。在Na Cl溶液中进行浸泡试验后,类石墨镀层仅发生了部分点蚀,可很好地保护铝合金基体。     

微颗粒表面磁控溅射镀金属膜

采用磁控溅射方法,开展了在微颗粒表面镀金属膜的实验研究.研究开发了一种在微颗粒表面真空镀金属膜的方法及设备,微颗粒包括空心微珠、不同粒度的碳化硅微粉等,所镀的金属包括铝、银、铜、钴、镍等.实验与分析结果表明,通过控制微颗粒的运动方式,采用磁控溅射镀金属膜,可以在微颗粒表面镀上均匀性好、附着力强和致密性好的金属膜.     

Bonelike Coatings onto Ceramics by Reactive Magnetron Sputtering

Bonelike coating of partially carbonated, calcium hydroxyapatite onto strong ceramics and metals is one of the current objectives in biomaterials science for the development of bioactive implant materials. We recently accomplished bonelike apatite coating onto ceramic alumina by the newly developed reactive rf-magnetron sputtering method, which was undertaken in a mixed CO₂/Ar gas. The key of this method is the use of calcium phosphate glass targets with much lower Ca/P ratios than the stoichiometric value of hydroxyapatite. Surface analyses by XRD, EDX, and FT-IR identified the formation of bonelike carbonated calcium hydroxyapatite, in which CO^2-₃ ions occupied the lattice positions of PO^3-₄. The bioactivity of the coated ceramic materials was confimed by in vitro experiments on the bonelike crystal growth on their surfaces in a simulated body fluid, and the growth rate on the coated layers was experimentally proved to be much faster than that on uncarbonated hydroxyapatite     

氧气流量和溅射功率对脉冲直流磁控溅射制备Nb2O5薄膜性能的影响

采用非对称双极性脉冲直流磁控溅射系统在玻璃衬底上制备了Nb_2O_5薄膜,重点研究了O_2流量和溅射功率对薄膜结构、成分、形貌和光学性能的影响。XRD结果表明:所有制备的薄膜均为非晶结构;XPS用于分析不同O_2流量下沉积的薄膜表面Nb的化学状态,O_2流量达到4.0 sccm以上才能得到满足化学计量比的Nb_2O_5薄膜;AFM结果显示:随着O_2流量的增加,薄膜表面更加平滑、均匀,而溅射功率为80 W时所制备的Nb_2O_5薄膜表现出最大的表面粗糙度大约为1.59 nm;光学结果表明,随着O_2流量增加,可见光区的平均光学透过率逐渐增大,但溅射功率超过40 W,溅射功率对薄膜可见光区的透过率影响很小;此外,通过改变O_2流量和溅射功率,可以很好地调节薄膜的折射率,从而更加便于消影玻璃中光学介质膜系的设计与生长。