衍射光栅

法国约宾·宜冯公司先后研制出全息光栅、象差校正光栅之后,又有了新产品:闪耀全息衍射光栅。这种光栅是用全息方法制成的,它既保留了全息光栅的主要优点(如寄生光非常小、线条多、波面质量好、象差校正等),又具有很高的效率。此外,该公司还用离子加工方法制造衍射光栅。这     

衍射光栅

<正> 若宾——伊冯公司在应用全息光栅之后,又制造了能校正象差的光栅(Ⅳ型)和两种新型的闪耀的全息衍射光栅。用全息制造的这种闪耀光栅,是用锯齿面代替了经典的正弦面。一方面,这种新型的光栅衍射效率很高,同时它具有用全息法制造光栅的优越性,如:微弱杂散光,无鬼线,能制造大量的线条,波面质量很好,能校正象差。另一方面,若宾——伊冯公司的这种衍射光栅是用离子法制造的。这利新型光栅的条纹直     

衍射光栅

大多数现代光栅是在刚性基片上的有金属镀层的胶膜复制品,胶膜复制品由母光栅复制得来。母光栅的制作方法有两种:一种是机械刻划,即用金刚石刀具在柔软的金属薄膜上划出一些间距均匀的刻槽;另一种是用涂有光致抗蚀剂的毛坯对大功率激光器产生的干涉条纹进行曝光。本文对平面和凹面光栅制作的主要方法做了叙述。性能测试主要是衍射效率和衍射波前的完善度。成象缺陷主要表现是降低了分辨率。刻槽间距缺陷则表现为鬼线、杂散光和伴线。这些都将予以评论。     

用拼接法获取大面积衍射光栅

近年来大面积衍射光栅已成为许多大型高技术工程项目的关键元件,它的获取方法也一直是光栅界探求的目标,本文简要回顾衍射光栅研制技术的发展历史,介绍了衍射光栅的发展趋势以及国内外研制大面积衍射光栅的技术现状,说明了拼接光栅的原理、方法以及利用这种方法来获取大面积衍射光栅的诸多优点.目前拼接光栅中各小光栅的衍射波阵面的位相还没有做到完全一致,要做到一致还需做很多工作,但用拼接手段来获取大面积光栅已是一种非常有效的方法.     

液晶衍射光栅

液晶是一种原子以与固体晶体相类似的规则结构排列的液体,尽管这种物质仍保持其液体状态。液晶具有许多特殊的光学特性。当把它们以薄膜的形式放置在两个导电玻璃板之间并施加一个特定的阈值电压时,某些向列型液晶(具有纤维状的这些液晶)便能形成一些所谓的具有不同光学特性的区域。西德慕尼黑 Siemens 公司的 W·Greubel 和U·Wolff 曾发现:在某些物质中,这样宽的区域是与所施加的电压成反比的。     

全息衍射光栅

§1.引言美国天文学家Rittenhouse约于1786年在费城第一次做了光栅实验。他用金属丝平行地排列在精密丝杠上,观(?)了光的衍射效应。第一块刻划的光学光栅是由Fraunhofer[1821/22]制造的,他也发现了衍射光栅的基本特性。Kayser[1900],STROKE[1963、1967]和Harrison[1973]曾对光栅的历史、理论和制造作了综合性评论。由于刻划光栅存在辣手的机械问题,     

国外衍射光栅动态

本文叙述国外衍射光栅的简史,光栅工业概况,光栅刻机的研究与改进,干涉控制机床情况,光栅刻划中的一些问题,光栅检定,全息光栅,平面衍射光栅的选择和国外部分光栅供应情况。     

光栅衍射效率测试仪

<正> 由上海光学仪器研究所自行设计研制的新产品光栅衍射效率测试仪系机电部技术发展基金项目,用于测试光栅的特性指标衍射效率。有关专家认为:(1)仪器由微机控制自动进行测试,整个过程直观、方便、自动、稳定性好,性能达国内先进水平。(2)仪器采用连     

衍射光栅的复制技术

本文是根据1983年4月在瑞士日内瓦召开的国际光学工程学术会议上的论文报告,其中主要是美国鲍许·隆姆公司 E·G·劳文的报告——“反射镜和衍射光栅的复制”编写而成。主要介绍衍射光栅的复制工艺,基坯、粘结剂和分离层的选择及分离方法等。     

计量光栅衍射性能测试

本文介绍一种测定计量光栅衍射性能的装置和测定的数据,比较了理论值和实测值,并讨论了产生误差的原因。     

凹面衍射光栅刻划机

长春光机所于1979年研制了一台凹面光栅刻划机,可刻划光栅面积为70×90毫米²,每毫米可刻划600、1200、2400条线的凹面光栅。1980年末刻出半径为0.35米的Ⅰ型试用光栅,1981年刻出半径为1米的Ⅰ型试用光栅。     

平面衍射光栅刻划机

目前,绝大部分使用的平面衍射光栅,是在光栅刻划机刻出的光栅上复制出来的复制光栅.因此,由光栅刻划机刻出的光栅叫原刻光栅或母光栅.光栅刻划机是制造光栅的最主要设备.由于衍射光栅有精度要求高(一般在0.01微米数量级),刻划周期长(一般约五昼夜)的特点,光栅刻划机以及机器所处的条件必需与之相适应.我们已设计制造成功四台平面衍射光栅刻划机,机器所需恒温、隔振条件也已解决,现正着手设计第五台光栅刻划机,下面谈几点体会.     

平面衍射光栅的检验

本文指出了平面衍射光栅在制造过程中由于光栅刻槽的不平行、光栅刻槽的间距误差以及刻槽形状的不一致等各种疵病使光栅在光谱学的应用中所造成的不利后果。同时着重介绍了光栅的衍射波阵面象差、光栅的实际分辨率、罗兰鬼线的相对强度以及光栅的衍射效率的测量方法和检验仪器。     

光栅衍射法测量材料平面度和平行度

一、材料表面形状的测量方法材料表面形状轮廓的测定是光学干涉计量的一个基本应用。对于不同的料材和生产加工过程中的不同要求,测量方法也各不相同,基本上可以分成两大类,一类是利用传统的干涉仪;另一类是近期发展起来的,以全息技术为基础的全息干涉度量技术。我们要测量材料表面的形状,基本思想就是用一个已知形状的标准波面去和被测材料表面形状(形变后的波面)进行比较,从而获得材料表面形状的信息。如果被测表面是平面,那么标准波面通常选用平面波。两个波面的比较是通过干涉来进行的,得到的等厚干涉条纹就是物体表面和一组等间距的平面波相截得到的     

平面衍射光栅的能量分布

本文讨论了平面光栅的光栅方程式及其在单色仪情况下的变形,计算了多种光栅的能量分布,讨论了各种参数对光栅能量分布的影响以及参数的合理选择问题。     

变栅距光栅衍射特性分析

光纤式变栅距光栅位移传感器是一种新的位移传感器,变栅距光栅是该位移传感器的核心元件,传感器的位移分辨率决定于变栅距光栅的光谱分辨,分析和研究如何提高变栅距光栅的光谱分辨能力是位移传感器提高位移分辨的关键。基于夫琅和费衍射理论,推导了对于变栅距光栅,平行光入射后的衍射光强的角度分布。计算变栅距光栅参数相同,入射光斑宽度分别为5mm和10mm衍射光的分布特点;10mm入射光斑,光栅参数不同时衍射光的分布特点。实验验证了不同入射光斑宽度对光纤式变栅距光栅位移传感器分辨率的影响。由于变栅距光栅的衍射特点,入射光斑直径的大小是传感器分辨率的一个重要影响因素。     

国内衍射光栅刻划机概况

本文介绍了目前国内已制成的衍射光栅刻划机的概况,同时也介绍了它们所刻光栅的质量。国内刻机有机械型、光电型及间歇刻划、连续刻划方式。在正常刻划的刻机共有15台。所刻光栅最大面积到150×180mm²,刻线密度从50到2400线/mm。