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采用高氯酸?冰醋酸体系对镍钛合金管电解抛光.在温度25°C及抛光间隙15 mm的条件下研究了抛光时间(60~120 s)和电流密度(0.75~1.75 A/cm2)对抛光效果的影响.结果表明,随着抛光时间延长或电流密度增大,钛合金管的表面粗糙度先减小后增大,残余压应力先增大后减小,较佳的电流密度和抛光时间分别为1.15 A/cm2和90 s.在该条件下电解抛光后,镍钛合金管表面平整光亮,凹坑最少,表面粗糙度最小(为53.8 nm),表面残余压应力最大(为175.8 MPa). 相似文献
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以氨基磺酸?甲酰胺非水溶液作为电解液,对激光选区熔化钛合金TC4进行电解抛光。初步研究了电流密度和加工时间对不同构建角度的钛合金抛光后表面粗糙度和材料去除量的影响。在电流密度1 A/cm2和极间距14 mm的条件下抛光25 min时光整效果最佳,钛合金的耐蚀性得到增强,硬度无明显变化。 相似文献
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介绍了电化学抛光的基本原理和管件内表面电化学抛光的移动式阴极结构,对酸性和中性抛光电解液的优、缺点及其应用范围进行了分析、比较,给出了几种应用范围比较广泛的电化学抛光的电解液配方和相应的加工工艺参数。 相似文献
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电化学抛光对HR-1不锈钢表面的影响 总被引:1,自引:0,他引:1
以硫酸-磷酸混合液为电解液,考察了电化学抛光技术对HR-1不锈钢表面的影响。通过激光扫描共聚焦显微镜观察样品的表面形貌,并利用电子天平测量样品的质量变化。结果表明:当电流密度为80A/dm2,温度为90℃,抛光时间为60s时,样品表面的平整度最高,机械加工痕迹基本消失,无明显的尖峰与坑点,粗糙度小于0.18μm。为保证样品的尺寸精度,需要控制抛光时间。 相似文献
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目的:探讨3D打印不同打印参数对TC4钛合金(Ti-6Al-4V)耐腐蚀性的影响。方法:分别将打印功率、速度和层厚这三个参数作为变量分为A、B、C三组,A组按照功率渐增又分为A1、A2、A3组,B组按照速度渐增又分为B1、B2、B3组,C组按照层厚渐增又分为C1、C2、C3组。分别研究A、B、C三组试件的自腐蚀电位、自腐蚀电流密度和电化学阻抗谱,并分析对比其耐腐蚀性能。结果:A1到A3自腐蚀电位降低,而自腐蚀电流密度增高,电化学阻抗弧减小;从B1到B3自腐蚀电位降低,自腐蚀电流密度增高,电化学阻抗弧减小;从C1到C3自腐蚀电位降低,自腐蚀电流密度和电化学阻抗弧都减小。结论:在一定范围内,3D打印功率和速度越低,TC4钛合金耐腐蚀性越强,腐蚀溶解速率越小,层厚越小,TC4钛合金耐腐蚀性越强,但腐蚀溶解速率越快。 相似文献
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采用恒流和梯度电流两种方式对TC4钛合金进行微弧氧化,微弧氧化液组成和工艺参数为:Na2SiO3 16 g/L,(NaPO3)68 g/L,NaF 2 g/L,频率500 Hz,占空比10%。研究了不同电流模式下电压随微弧氧化时间的变化。对比研究了两种电流模式下所得微弧氧化膜的表面形貌、厚度、粗糙度、显微硬度等性能。结果表明,恒流模式下,随电流密度升高,氧化膜层的终止电压、厚度、粗糙度和表面微孔直径增大,显微硬度先增大后减小;与恒流模式膜层相比,梯度电流模式下所得氧化膜层较厚,粗糙度较低,硬度高,表面微孔直径较小。较适宜的恒流电流密度和梯度电流密度分别为10 A/dm2和15–5 A/dm2,而后者所得膜层的综合性能优于前者所得膜层。 相似文献
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0前言电化学抛光(简称电抛光)是金属工件表面进行精整加工的重要方法之一。它是以工件作为电解槽的阳极,用耐电解液腐蚀的金属材料铅或不锈钢作阴极,在直流电作用下,使工件表面粗糙度降低并产生光泽外观的一种特殊的阳极过程。电抛光可以作为金属镀前的准备工序,也可作为对金属件独立加工的工艺。例如:模具型腔电抛光后可以增加硬度, 相似文献
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不锈钢杯内壁的电化学抛光 总被引:1,自引:1,他引:0
介绍了双极性电化学抛光的基本原理,采用该方法对不锈钢杯内壁进行了抛光工艺研究,确定了抛光工艺.结果表明:用双极性电化学抛光法对不锈钢杯内壁进行抛光,可以得到理想的抛光效果,而且解决了采用传统的电化学抛光法抛光不锈钢杯内壁存在的阴极安装困难而且易短路等问题. 相似文献
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对比分析了脉冲阳极氧化和直流阳极氧化工艺对TC4钛合金表面形貌、拉伸性能、疲劳强度和耐磨性的影响。结果表明,脉冲阳极氧化和直流阳极氧化膜的粗糙度相较于TC4钛合金更大,而表面硬度从高至低为:脉冲阳极氧化膜>TC4钛合金>直流阳极氧化膜。虽然阳极氧化后试样的力学性能都相较于处理前有不同程度的减小,但是耐磨性有较大的提升。脉冲阳极氧化试样的疲劳强度接近TC4钛合金基材,且明显高于同样膜厚的直流阳极氧化试样,它的强度、断后伸长率和耐磨性也更优。 相似文献
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利用电化学方法采用线性伏安扫描、循环伏安和电化学阻抗测试研究了HR-1不锈钢在硫酸-磷酸溶液中的电化学抛光行为。实验结果表明,实验所得阳极极化曲线与理论阳极极化曲线吻合较好,证明了在抛光过程中钝化膜的存在,钝化膜形成的电压为0.75~1.25V,最佳的抛光电压区域为1.25~1.75V。通过分析研究,对优化电化学抛光参数,更好的将电化学抛光技术应用于实际生产具有指导意义。 相似文献
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