Ni扩散LiNbO3脊形波导MZ调制器制作技术

比较了制作LiNbO3脊形波导的两种制作工艺-DE工艺和ED工艺,并介绍了一种新型自对准技术.在未来应用的集成光学器件制作中,这种自对准制作技术具有很大的应用潜力.     

LiNbO3电光调制器研制现状与进展

LiNbO3电光调制器是高速光传输系统必不可少的器件，已成为国内外研制开发的热点，目前已取得很大进展，已开发了多种类型的LiNbO3电光调制器，器件性能也有较大提高。     

LiNbO3电光调制器制作技术

光调制器是光通信的关键器件之一。国内外已对LiNbO3电光调制器开展了基础理论、结构设计、工艺制作和性能测试等方面的研究。介绍了LiNbO3电光调制器的关键制作技术与工艺。     

LiNbO3电光调制器制作技术

光凋制器是光通信关键器件之一。国内外已对LiNbO3电光凋制器开展了基础理论，结构设计、工艺制作、性能测试等方面的研究和开发。本文介绍了LiNbO3调制器关键制作技术与工艺。     

LiNbO3电光调制器的优化设计与制作

铌酸锂晶体有良好的光声和电光性质,因而基于铌酸锂的集成光学器件已引起人们广泛关注。利用LiNbO3作为介质材料,设计M-Z干涉型强度调制器。选用低损耗的质子交换光工艺技术制备光波导。对质子交换铌酸锂光波导的制作工艺、波导特性及其应用进行了研究。对电极结构进行了优化设计。     

新型LiNbO3电光调制器

LiNbO3电光调制器是用于高速光通信系统最有希望的器件，已成为国内外研发的热门器件。目前已开发了多种类型的LiNbO3电光调制器，章介绍了几种新型LiNbO3电光调制器。     

新型LiNbO3电光调制器

LiNbO3电光调制器是用于高速光通信系统最有希望的器件,已成为国内外研发的热门器件.目前已开发了多种类型的LiNbO3电光调制器,本文介绍了几种新型LiNbO3电光调制器.     

高速LiNbO3电光调制器的最新研究进展

综述了高速LiNbO3电光调制器的最新研究进展。重点介绍了近年来国外对调制器结构和工艺的改进,并报道了两种新结构形式的LiNbO3调制器。对高速LiNbO3调制器的商用化状况进行了概述,并对其在国内的研究方向提出了建议。     

LiNbO3电光调制器及其设计

电光调制器是高速光通信的关键器件，受到国内外极大关注。本叙述了LiNbO3电光调制器的基本原理与参数，并介绍了LiNbO3调制器设计与结构性能。     

LiNbO3强度调制器的光脉冲整形应用

光脉冲产生系统(前端系统)需要输出初步整形的光脉冲,电光调制器可以较好地满足该需求.根据LiNbO3强度调制器特性,设计出一种整形方法,采用一级LiNbO3强度调制器进行输出光脉冲整形,可使输出直流消光比优于36dB,可生成纳秒级方波、凹型等整形光脉冲,凹型脉冲对比度优于100:1.     

脊波导结构LiNbO3电光调制器研究与改进

采用有限元软件Ansys、运用有限元法,对脊波导结构铌酸锂电光调制器进行了优化设计。通过将传统结构与脊波导的比较分析,提出采用聚四氟乙烯部分取代缓冲层中的二氧化硅的结构,能更好的实现微波等效折射率的降低以达到与光波折射率的匹配,同时能保持更大的特性阻抗以实现阻抗匹配,从而更好的提高器件性能。     

LiNbO3电光调制器的小信号功率测试法研究

阐述了小信号功率测试法测量LiNbO3电光调制器频率响应的原理,对传统的小信号功率测试法加以改进,在以网络分析仪（VNA）为主的常用扫频测试系统基础上建立起一套简单可靠的新型测试系统,实现了计算机控制自动测量。改进的测试方法考虑了测试系统中微波器件固有频响对测试结果的影响,并通过对器件进行校准加以消除。通过实验表明该方法的准确性。     

基于LiNbO3调制器的40GHz宽带调制光源的设计

介绍了基于LiNbO3电光强度调制器的40GHz宽带调制光源的设计.对其中的关键技术,如直流激光器稳态工作、调制器输出功率稳定性、频率响应预失真补偿以及整体设计等逐一加以分析,并提出解决方案.成功实现了基于LiNbO3电光强度调制器的宽带调制光源,并对该高速光源进行了一系列性能和指标测试.光源的频率响应3dB带宽达到40GHz,可用于40GHz频率范围内光电子器件频率响应特性测试,同时也满足SDH/SONET传输实验要求.     

LiNbO3电光调制器行波电极微波等效折射率的测量

LiNbO3电光调制器的设计中,行波电极的微波等效折射率是一个重要的参数。该文通过自行设计的微波探针架及探针,采用差值的方法,在微波网络分析仪上对样品CPW电极的微波等效折射率进行了测量,分析了实测值与理论计算值的偏差,给出了修正因子,研究了微波等效折射率随频率变化的色散现象,并对这种测量方法进行了误差分析,提出了减小误差的方法。     

一种LiNbO3 MZM调制器正交偏置点锁定技术研究

在传统LiNbO3马赫-曾德尔调制器(MZM)偏置控制理论的基础上,提出了一种基于低频信号扰动与模拟电路处理技术的反馈控制方法。通过该方法设计的偏置控制电路模块可以在-55~+80℃温度范围内实现LiNbO3MZM调制器正交偏置点锁定,并且具有偏置控制电路体积小、控制精度高等特点。该偏置控制电路模块已经批量应用于某高速光通信传输系统中。     

双二进制调制在高速LiNbO3光调制器上的实验实现

通过实验方式在LiNbO3光调制器上实现了比特率为11.3 Gb/s的光信号的双二进制调制格式,测试并分析了相关的实验参数,包括调制前后的电眼图、光眼图,以及经过长距离光纤传输后的性能编号及比较等.实验证明,经过双二进制调制后的光信号经过长距离传输后较未调制的光信号眼图具有明显的改善.     

LiNbO3电光强度调制器的进展

介绍了以LiNbO3为基质制作的电光强度调制器的优化电极结构，对电极的几何形状的优化，以及通过对比分析，选择合适的电极厚度和缓冲层厚度进行优化。同时列举了近几年研究LiNbO3电光强度调制器的进展情况。     

用于光纤陀螺的LiNbO3集成光学器件

本文报道用于光纤陀螺(FOG)的LiNbO_3集成光学(IO)器件及其技术。介绍制作LiNbO_3波导的扩散和质子交换两种技术,叙述了国内外近年研制和生产的FOG用多功能集成光学芯片及LiNbO_3相位调制器,给出了它们的结构、性能和封装(光纤耦合)技术。对国内外发展状况的综述表明,在这个技术领域,国内研制的器件的性能,已接近国外80年代末的水平。     

X切LiNbO3脊形结构集成电光M-Z型调制器

采用X切LiNbO3 基片 ,设计并研制了脊形结构集成电光Mach Zehnder(M Z)波导调制器 ,实验研制过程包含关键的LiNbO3 基片湿腐蚀刻槽技术和大厚度电极制作技术。研究结果表明 ,脊形结构调制器与传统的平面结构调制器相比 ,在大幅度提高调制带宽方面 ,有着明显的优越性