镀锡马口铁表面污染的XPS分析

本文利用XPS方法对受海水浸泡的镀锡马口铁进行了表面分析。结果表明,经海水浸泡及在海水蒸气下放置的镀锡马口铁表面都会受到不同程度的污染。同时也表明,XPS作为一种重要的表面分析技术将会在商品检验和产品检验中得到有效地应用。     

现代X光电子能谱(XPS)分析技术

现代电子能谱仪有3个主要功能:单色XPS(Mono XPS)、小面积XPS(SAXPS)和成像XPS(iXPS),被认为是光电子能谱仪发展方向。本文介绍这3个功能突出的特点及在材料微分析方面的实际应用。     

高温不同气氛环境中的 CrNiMo 钢磨损表面 SEM 和 XPS 分析

在200 ℃温度条件下,分别在氧气和氮气气氛环境中,以 CrNiMo 钢销试样和 H96 黄铜盘配副,在QG-700型销盘摩擦试验机上进行了摩擦磨损试验.利用 SEM 和 XPS 对 CrNiMo 钢磨损表面进行了表征.结果表明,在2种气氛环境中,都发生了粘着磨损;在氧气气氛环境和较低载荷条件下,粘着较氮气气氛环境中的严重,且磨损表面有 CuO存在,而在氮气气氛环境中,表面粘着物主要为单质铜.     

用XPS研究Na_2S钝化的GaAs(100)表面

本文用Na_2S·9H_2O的水溶液及乙醇和异丙醇溶液对GaAs表面进行了钝化处理;用X射线光电子能谱仪(XPS)对钝化表面的化学组成和价态以及钝化层的厚度进行了研究。结果表明,经不同的Na_2S溶液处理后GaAs表面的自然氧化层会被除去,表面生成硫化镓和硫化砷;硫化物的含量与硫化层厚度与所用溶液的极性有关;并对钝化机理进行了探讨。     

论表面分析

表面分析不同于传统的体相分析,简述我国表面分析发展概况,说明表面分析技术的特点和应用。并对XIS和AES进行了综述。     

增进金属—弹性聚合物材料粘接的表面处理技术

本文从理论上简要分析影响金属－弹性聚合物材料胶粘剂粘接的主要因素及造成金属－弹性聚合物材料难粘的主要根源，详细介绍了不同的表面处理技术，处理后材料的表面特性，部分难掌握处理技术中应特别注意的问题及不同材料、不同粘接工艺对材料表面处理的要求与处理方法的选择。     

表面分析仪器及其技术进展之三：表面分析：XPS和AES

本述评综合了1997年10月到1999年10月期间国际上在表面分析领域的发展情况,着重强调这些技术在目前发展水平方面改进的思路和新趋势。本文将有助于分析工作者解决在使用XPS和AES时所遇到的问题。     

磁透镜对XPS分析测试的影响

在X射线光电子能谱(XPS)分析测试中使用不同的X射线源作为激发源时,磁透镜的使用对于XPS的光电子计数率和光电子接收面积会产生不同的影响。同时,除了光电子计数率和光电子接收面积外,磁透镜的使用对于导电样品的XPS分析测试没有明显影响。但在对绝缘样品进行XPS分析测试时,磁透镜的使用决定了绝缘样品表面荷电中和的方式。     

基于XPS硬质合金刀具氧化磨损的试验分析

采用多功能表面分析系统对车铣加工Ti6Al4V钛合金的硬质合金刀具进行X射线电子能谱分析(XPS)。通过对磨损区域进行全谱扫描和精细谱扫描,应用XPSPEAK4.1和Origin7.5对所得数据进行分峰拟合处理,最后分析了所生成的氧化物对刀具磨损和刀具寿命的影响。试验结果表明涂层材质为S30T的刀具磨损表面有Ti O_2、Al_2O_3、Co O和Ti N等物质生成;H13A非涂层材质刀具磨损表面有Ti O_2、WO3和Co_3O_4等氧化物生成。     

低辐射涂层玻璃的XPS剖析

利用X射线光电子能谱（XPS）剖析了低辐射涂层玻璃涂层表面到玻璃基面的元素浓度分布。结果表明,低辐射涂层具有多层结构,涂层表面由Ti和O组成,表面以下是Ag,Ag的下面又是Ti和O。低辐射涂层玻璃的结构可表述为：玻璃／TiO/Ag/TiO2,各层之间及底层与玻璃基体之间有互扩散现象。     

纳米硅-氧化硅薄膜的XPS测量

利用XPS能很好地分辨出硅基纳米硅-氧化硅膜层中的n-Si和n-SiO2。对Si2P峰进行的拟合处理，可计算出n-Si和n-SiO2的含量，其结果与RF-磁控溅射沉积薄膜中所用的复合靶Si和SiO2的面积比基本一致。     

用XPS方法测量导电高聚物的功函数

本文论述利用XPS方法中二次发射电子测量导电高聚物功函数的方法。其测量原理是,被测样品和标准样品二次发射电子分布曲线所对应的起始点的动能之差与它们之间的功函数之差相等。因此,只要已知标准样品的功函数,即可根据上述关系求得被测样品的功函数。用该方法所得到的掺杂聚吡咯的功函数为5·0eV,与文献值一致。用此法测量了由不同聚合方法得到的中性和掺杂聚苯胺的功函数,两者功函数的区别与其结构相吻合。     

粗糙表面小面积成象XPS变解分析法

提出了通过改变Ｘ射线入射角对粗糙样品表面作小面积成象Ｘ光电子能谱（ＸＰＳ）分析的方法，以识别、消除或减少表面粗糙引起的遮蔽效应，获得比较真实的样品表面元素分布图。以表面粗糙的Ｂａ－Ｋ－Ｂｉ－Ｏ超导膜为例，演示了变角分析法的应用。讨论了改变Ｘ光入射角对被分析面积的影响。     

XPS在测量薄膜样品中的应用：一种非破坏性XPS深度剖析测量

通过改变ＸＰＳ探测掠角，对硅表面氧化层和富锗氧化硅表层薄膜样品进行非破生深度剖析测量，得到了有意义的结果。本文详细介绍了这一原理，并对这一分析方法的深度分辨等进行了讨论，为进行其它类型的薄膜ＸＰＳ深度剖析测试提供了借鉴。     

XPS表征Ar~+刻蚀对PET表面结构的损伤

Ar+刻蚀应用于聚合物的深度剖析中时,通常会造成聚合物表面结构的损伤,从而无法得到真实的聚合物结构信息。本实验结合X射线光电子能谱(XPS)分析测试技术,以聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)为对象,研究Ar+刻蚀对其表面结构的损伤,以及Ar+刻蚀参数对其损伤作用的影响。