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SiGe/Si异质结双极晶体管 总被引:2,自引:1,他引:1
介绍了SiGe/Si异质结双极晶体管的特点,自对准HBT、非自对准HBT的结构以及通过低温热循环、SPOTEL、重硼掺杂等工艺使fT从20GHz增至110GHz的方法。 相似文献
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分析了硅双极晶体管电流增益在低温下减少的原因,通过优化设计,研制出在液氮温度睛具有高增益的SiGe/SiHBT,并分析了工作的机理。 相似文献
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SiGe/Si HBT作为单片微波集成电路中的有源元件,在截止频率,增益,噪声等方面相对于GaAs器件有很大的优势。本文结合本单位在SiGe材料和器件、电路等方面做过的工作,对实现SiGe单片微波集成电路的一些理论和技术要点作了阐述。 相似文献
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我们对Si/SiGe/Si HBT及其Si兼容工艺进行了研究,在研究了一些关键的单项工艺的基础上,提出了五个高速Si/SiGe/Si HBT结构和一个低噪声Si/SiGe/Si HBT结构,并已研制成功台面结构Si/SiGe/Si HBT和低噪声Si/SiGe/Si HBT,为进一步高指标的Si/SiGe/Si HBT的研究建立了基础。 相似文献
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微波大功率SiGe HBT的研究进展及其应用 总被引:5,自引:5,他引:0
文章论述了SiGe异质结双极晶体管(HBT)在微波功率领域应用的优势,详细介绍了微波功率SiGe HBT的结构设计方法,以及主要影响器件性能的材料和结构因素,评述了其最新进展及今后发展方向. 相似文献
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Si/Si1—xGex应变层异质结双极晶体管(HBT)交直流特性的仿真研究 总被引:4,自引:1,他引:3
本报道了Si/Si1-xGex应变异质结双极晶体管(HBT)交直流特性的仿真结果,通过用叠代法求解漂移-扩散方程的数值解,确定器件的直流特性,再利用瞬态激励法,求解器件的交流特性参数,将基区Ge摩尔含量x为0.2,0.31的HBT的模拟结果分别与有关献报道的实验结果进行了比较,两的结果符合良好。 相似文献
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用解析的方法模拟了T=300K和77K时,fT和fmax与集电极电流密度Jc的关系,在大电流下考虑了异质结势垒效应的影响。模拟结果和用数值方法以及实验所得到的结果一致。同时,还建立了与之相应的Si/SiGeeb异质结和SiGe/Sibc异质结电容模型。 相似文献
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测量了Si/SiGe HBT在23~260℃温度范围内的Gummel图、理想因子n、不同基极电流下的发射结电压VBE、电流增益β、共发射极输出特性,以及Early电压VA的变化情况。结果表明,随电流和温度的增加,β减少,VBE随温度的变化率dVBE/dT小于同质结Si BJT。在高集电极-发射极电压和大电流下,在输出特性曲线上观察到了负微分电阻(NDR)特性。结果还显示,电流增益-Early电压积与温度的倒数(1/T)呈线性关系,这对模拟电路应用是很重要和有用的。 相似文献
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Si/SiGe power heterojunction bipolar transistors (HBTs) grown by MBE were dynamically characterised in the common-base configuration. At an emitter current density of 1.1×105 A/cm2, a maximum frequency of oscillation of 49 GHz was observed. At 10 GHz a maximum unilateral gain of 14 dB is available, and a CW output power of 1.3 W/mm for a device with 10 parallel emitter-fingers of 1×10 μm2 each was predicted, from CW measurements 相似文献
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UHV/CVD生长SiGe/Si异质结构材料 总被引:6,自引:5,他引:6
以 Si2 H6 和 Ge H4 作为源气体 ,用 UHV/CVD方法在 Si( 1 0 0 )衬底上生长了 Si1- x Gex 合金材料和 Si1- x Gex/Si多量子阱结构 .用原子力显微镜、X光双晶衍射和透射电子显微镜对样品的表面形貌、均匀性、晶格质量、界面质量等进行了研究 .结果表明样品的表面平整光滑 ,平均粗糙度为 1 .2 nm;整个外延片各处的晶体质量都比较好 ,各处生长速率平均偏差为 3.31 % ,合金组分 x值的平均偏差为 2 .0 1 % ;Si1- x Gex/Si多量子阱材料的 X光双晶衍射曲线中不仅存在多级卫星峰 ,而且在卫星峰之间观察到了 Pendellosung条纹 ,表明晶格质量和界面质量都很好 ;Si 相似文献
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Bary L. Borgarino M. Plana R. Parra T. Kovacic S.J. Lafontaine H. Graffeuil J. 《Electron Devices, IEEE Transactions on》2001,48(4):767-773
An experimental setup, based on current/voltage conversion through transimpedance amplifiers (TAs), has been implemented for the direct full low-frequency noise (LFN) characterization of Si/SiGe heterojunction bipolar transistors (HBTs) in terms of base and collector short-circuit current noise sources. This setup performs a full characterization, as it measures simultaneously the two noise current sources and their correlation, thanks to an original technique based on the specific properties of a specially designed buffer amplifier using a low-noise common-base bipolar transistor (CB BJT). By means of translation formulae, the obtained measurements are compared with those carried out with a multi-impedance technique. They show a good agreement both for the noise sources spectral densities and for their correlation. The TA-based setup provides enhanced capabilities in terms of measurement speed and remote control potentialities 相似文献
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