化学镀钴磷合金的高温耐磨性

对化学镀钴磷合金层的高温耐磨性作了研究，结果表明，在３００℃以上的磨损试验中，由于氧化作用随试验温度升高而加强，镀层磨损量随之降低，经６００℃，１ｈ热处理后，镀层磨损量有大幅度的增加。     

化学镀厚层Ni—p合金镀层中磷的测定

化学镀Ni-P合金,由于镀层的优良特性及工艺的适应性,其应用范围日趋扩大,工艺技术也发展较快,本室针对生产需要,进行了化学镀厚层Ni-P合金工艺的研究。为配合该项研究,本文对镀层中磷含量的测定方法进行了探讨。磷的现有分析方法较多。本文从准确,简便、易于推广几个方面,根据试样含镍高、含磷低的特点,经分析比较,选择了间接络合滴定法作为研究方向,并对操作控制条件等进行了试验。根据试验结果,本文拟出:硝酸溶解,硝酸铋沉淀、分离,EDTA络合滴定过量硝酸铋,间接计算磷含量的测定方     

化学镀镍钴磷合金

对化学镀三元合金Ｎｉ－Ｃｏ－Ｐ镀层的材料性进行了研究，特别对Ｎｉ－Ｃｏ－Ｐ在元合金化学镀层的初期沉积行为及金相结构等进行了探讨，并讨论了磷含量对镀层的影响。     

氮化硅超细粉的钴磷合金镀

用超声波低温化学镀法在纳米Si3N4粉末表面沉积了均匀的钴磷合金镀层，在平行对比实验的基础上，提出了获得良好钴磷合金镀层的最佳镀液组成和操作条件，并对复合粉末进行了能谱成分、XRD相、TEM形貌以及衍射分析。     

锌对化学镀钴—镍—磷合金性能的影响

研究了在镀液中加入少量的硫酸锌后对钴－镍－磷合金镀速、镀膜成分和性能的影响。结果表明：镀液中的锌离子一方面使得镀层的晶粒细小，起到了细化晶粒的作用。而另一方面又使得镀速减慢，磁性能和耐蚀性下降。其原理还需进一步的探讨。     

化学镀Ni-Fe-P合金的组成、结构和耐蚀性

在铝合金基体上化学镀Ni-Fe-P合金，研究了合金的成分、结构及其耐腐蚀性，并研究了NaH2PO2浓度、金属盐的比例及pH值对镀速和镀层组成的影响。在NaH2PO2浓度为35g/L，金属盐的比例为0．4，pH=9.0-10.0时，合金中铁和磷含量均达到最大值（分别为37．42％和3．34％）。镀层主要为非晶态结构。其耐腐蚀性随铁含量的增大而增强，且在10％NaOH溶液中的耐腐蚀性能优于在1mol/L HCl和3．5％NaCl溶液中的耐腐蚀性能。     

镍—磷合金化学镀在标准砝码表面防护中的应用

镍－磷合金镀层具有很好的化学稳定性和优良的抗腐蚀性能，用于力标准机的标准砝表防护效果良好，其经济效益也十分显著。     

碳纳米管化学镀Ni-Co-P三元合金

为得到电磁性能优良的碳纳米管,采用化学镀的方法在碳纳米管表面镀镍-钴-磷三元合金.利用透射电镜(TEM)、能谱分析(EDS)、振动样品磁强计(VSM)对施镀后的碳纳米管进行表征,发现所得镀层完整、均匀,为软磁材料.碳纳米管化学镀Ni-Co-P三元合金的电磁参数研究表明,其吸波机理主要为磁损耗.     

化学镀镍在压铸铝合金上的应用

1　概　述重庆华纬集团用压铸机压铸的ＺＬ10 2铝合金零件每年有2 0 0～ 4 0 0套要求化学镀镍。每套零件中 ,最大的表面积为 14ｄｍ2 ,最小的仅 0 .5ｄｍ2 ,每套零件总计约 12 0ｄｍ2 ;有的零件形状复杂 ,且有Ｍ 2ｍｍ盲孔多达 13个。为了保证镀后外观色泽一致 ,在镀前均进行了喷砂处理 ,喷砂处理后的铝合金表面具有很强的粘附力 ;如用手直接触摸镀前或镀后的工件 ,就会留下非常明显的指纹印 ,使工件成为不合格品。因此对镀液的纯度要求较高 ,对镀后工件的清洗要求很严格。2　化学镀镍液配方及工艺流程( 1)化学镀镍液配方　硫酸镍 2 0～ 2 5…     

低磷GH169和常规GH169合金力学性能的对比研究

对国内生产的低磷GH169[s（P）＜0．001％]及常规GH169[w（P）0.008％～0．013％]变形合金锻件的力学性能进行了对比研究。结果表明，室温拉伸和高温拉伸强度未显现很大差异，然而低磷GH169合金反而显示出高温塑性特别是650℃／686MPa持久塑性的明显降低，且低磷合金在蠕变和疲劳／蠕变交互作用下的裂纹扩展速率皆高于常规合金，低磷合金的595℃／895MPa缺口周期持久寿命亦有降低的趋势。俄歇能谱分析表明，磷在晶界发生偏聚，透射电镜观察，发现低磷合金中的σ相的片状形式沿晶界析出，而磷含量提高使σ相的胞状形式沿晶界析出。     

玻璃纤维化学镀Co-P合金工艺研究

为了提高导电玻璃纤维的电、磁性能,拓宽其应用领域,采用化学镀的方法,研究了在玻璃纤维表面镀Co-P合金的工艺,探讨了化学镀液的主盐、温度、pH值及施镀时间等工艺参数对化学镀Co-P合金成分及镀速的影响.本工艺的最佳配方为:18 g/L CoSO4,18 g/L NaH2PO2*H2O,45 g/L柠檬酸钠,29 g/L (NH4)2SO4;最佳参数:温度为90 ℃,pH值为9,施镀时间为50 min.在此工艺条件下镀液的稳定性较好,镀层沉积速度快、光亮、致密,所得镀层为非晶结构.     

Ni-P底层对化学镀Co-P薄膜性能的影响

采用化学镀工艺制备了Co-P磁记录薄膜,研究了非晶无磁Ni-P底层对Co-P薄膜的生长及性能的影响.研究结果表明:非晶无磁Ni-P底层对Co-P薄膜的晶体结构及取向无明显影响,镀态的Co-P薄膜均为密排六方结构, (100)、(002)、(101)的择优取向无明显变化;但非晶无磁的Ni-P底层可以提高薄膜的均匀性和一致性,表面无明显缺陷;细化晶粒,平均晶粒尺寸为100～150nm;提高Co-P薄膜的磁性能,矫顽力可达4.54×104A/m.当记录信号脉冲时,与铝基体上直接施镀相比,在Ni-P底层上的Co-P磁记录薄膜输出信号幅值均匀稳定,信噪比良好.     

空心微珠表面化学沉积Co-P合金研究

利用化学镀工艺在粉煤灰空心微珠表面均匀、完整地包覆磁性Co-P合金层,成功制备出新型轻质的复合导电粉体.使用XRD、EDS、SEM和镶嵌金相的方法对样品进行形貌观察和分析表征,并讨论了镀液温度、pH值和稳定剂浓度对沉积效率的影响.结果表明,空心微珠经过敏化-活化的表面预处理后,利用化学镀方法可以得到均匀、包覆完整的Co-P合金层,并且出现了新的晶化相α-Co单质.T=90℃、pH=10.2和加入适量的硫脲是使反应良好进行的最佳工艺参数.