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超声波对化学镀Ni—Cr—P非晶态薄膜的金刚石性能的影响 总被引:1,自引:0,他引:1
研究了超声波对化学镀Ni-Cr-P非昌态薄膜的金刚石性能的影响,结果表明,超声波可使金刚石非晶态薄膜更加均匀和致密,从而提高了抗压强度,氧化温度和晶化后的强度,随超声波频率的影响,金刚石性能有增加的趋势。 相似文献
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研究了金刚石表面超声波重复化学镀Cu-Ni合金工艺及其对金刚石性能的影响。结果表明:超声波重复化学镀是一种有效增加镀层厚度的化学镀覆新工艺。每次镀1h,镀覆4次,金刚石增重120%,采用这些新工艺,金刚石的单颗粒抗压强度可提高近1倍,氧化可提高100℃左在。 相似文献
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为了研究基体负的低偏压Vb对氟化非晶态碳膜的结构、纳米硬度和疏水性能的影响,采用等离子体浸没与离子注入装置,CF4和CH4作为气源,在不同的基体偏压下制备了一系列氟化非晶态碳膜.使用XPS、ATR-FTIR和Raman谱对其成份和结构进行了表征.薄膜硬度通过纳米压痕仪进行测量,采用躺滴法测量薄膜与双蒸水之间的接触角来评价其疏水性能.XPS和FTIR结果表明薄膜中存在C-CF、C-Fx基团.Raman谱结果表明:随着基体偏压的增加,薄膜从类聚合物状结构逐渐转变为类金刚石结构,薄膜的硬度逐渐增加.接触角测量结果表明:在低偏压范围内,单纯地依靠调节偏压并不能显著地提高薄膜的疏水性能. 相似文献
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SiNx作为GaN和金刚石异质结构的中间层,不仅是下层GaN材料的保护层,也是上层金刚石的形核生长层,因此SiNx介质薄膜对于GaN表面合成高质量金刚石具有重要的意义。研究分别采用低压化学气相沉积(LPCVD)和磁控溅射(MS)方法在GaN-Si衬底上制备SiNx介质薄膜。利用扫描电镜、傅立叶红光光谱、X射线衍射、激光拉曼等技术对SiNx薄膜的表面形貌、晶体结构和表面官能团等进行分析。结果表明,采用LPCVD镀制的非晶态SiNx介质薄膜经籽晶播种、形核生长金刚石后,金刚石/SiNx/GaN界面完整致密;采用MS制备的SiNx介质薄膜呈晶态特征,对应的界面出现明显的刻蚀坑。沉积方式会影响SiNx薄膜的晶体结构和微观形貌,高致密度的非晶态结构有利于金刚石层快速形核生长,对于构建金刚石基GaN结构更为有利。 相似文献
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周海 《材料科学与工程学报》1997,(2)
对用直流等离子体化学气相沉积(DC-PCVD)法得到的非晶态氮化硅薄膜结构与性能进行了研究。对氮化硅薄膜的表面显微硬度和剖面显微硬度进行了测试,并对非晶态氮化硅硬度高于晶态氮化硅硬度的原因进行了探讨 相似文献
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报导了 C_(60)-甲苯衍生物 /类金刚石复合膜的荧光光谱和光电导性能。与 C_(60)比较,室温下 观测到 C_(60)-甲苯衍生物峰值位于 460nm的光致发光现象。随掺杂剂碘的加入, C_(60)-甲苯衍生物 的荧光强度递减,但薄膜的光电导性能却增加一个数量级。实验结果还表明,类金刚石膜的复合 会使薄膜的光电导性能略微下降,但类金刚石膜可作为钝化膜使用。 相似文献
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采用射频-直流等离子增强化学气相沉积法制备出类金刚石薄膜,用弯曲法测定薄膜的内应力。类金刚石薄膜中存在1-4.7GPa的压应力,沉积工艺对薄膜的内应力有很大影响,薄膜的内应力随极板负偏压的升高而降低,随C2H2气体一的增加而增大。 相似文献
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W. P. Serena Saw M. Mariatti 《Journal of Materials Science: Materials in Electronics》2012,23(4):817-824
Epoxy thin film composites filled with particulate nanofillers; synthetic diamond and graphene nanoplatelets were prepared
and characterized based on tensile, thermal, and electrical properties. The influences of these two types of fillers, especially
in terms of their loading, sizes and shapes, were discussed. It was found that the epoxy thin film composites incorporating
synthetic diamond displayed optimum properties where the addition of synthetic diamond from 0 to 2 vol.% results in higher
elastic modulus, tensile strength, elongation at break, thermal conductivity and storage modulus if compared to those of graphene
nanoplatelets composites. Both thin film composites showed improvement in the glass transition temperature with increasing
filler loadings. Results on the electrical conductivity of both systems showed that higher conductivity is observed in graphene
nanoplatelets composites if compared to synthetic diamond composites. 相似文献
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In this paper, we report the investigation of the electrochemical properties of nano-structured diamond thin-film electrodes on porous silicon (PSi) synthesized by microwave plasma chemical vapor deposition (MPCVD). For the application, boron-doped and undoped diamond thin film has been performed and fabricated into an electrode device, and its microstructure, electrical and chemical properties have been studied. In order to enlarge the surface area of diamond electrodes, a negative bias was applied to the MPCVD process to deposit diamond thin film in a nano-structured form, so that its surface remained rough and nano-fine structured. Diamond thin films were analyzed by Raman spectroscopy and SEM. The morphology of boron-doped diamond thin films on PSi reveals nano-rods in the shape of diamond crystallites. Their electrochemical properties were evaluated by performing cyclic voltammetry (CV) measurement in inorganic K4[Fe(CN)6] in a K2HPO4 buffer solution. Boron-doped diamond thin film on PSi has demonstrated good electrochemical properties, with a larger redoxidation current of CV, due to its rough surface, which provides a more active electrochemical interface. 相似文献
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CVD金刚石薄膜的介电性能研究 总被引:2,自引:0,他引:2
对直流电弧等离子体CVD制备的金刚石薄膜的介电性能进行了研究,结果表明,金刚石薄膜的介电性能主要取决于样品的多昌性质以及表面和晶界处的非金刚石相和杂质成分。 相似文献
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微波等离子体刻蚀处理对金刚石薄膜涂层刀具附着力和切削性能的影响 总被引:1,自引:0,他引:1
用HFCVD法在硬质合金(YG6)刀具衬底上沉积金刚石薄膜,用氢微波等离子体刻蚀的方法对衬底进行表面预处理,研究了该预处理技术对WC硬质合金衬底表面成分的影响,进一步探讨了所沉积金刚石薄膜的表面形貌和附着力,并通过难加工材料实际切削试验。研究了所制备的金刚石薄膜涂层刀具的切削性能。试验结果表明,Ar-H2微波等离子体刻蚀脱碳处理是提高金刚石薄膜附着力和改善涂层刀具切削性能的有效预处理方法。 相似文献
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金刚石薄膜涂层硬质合金刀具的界面表征 总被引:3,自引:0,他引:3
采用SEM对金刚石薄膜涂层硬质合金刀具的金刚石薄膜表面、背面及金刚石薄膜剥落后的硬质合金刀片表面的典型形貌进行了观察,并采用TEM对金刚石薄膜/硬质合金刀片横截面的微观组织进行了研究,还采用FT—Raman光谱法对金刚石薄膜表面及金刚石薄膜剥落后的硬质合金刀片表面的微观结构进行了表征.结果表明:经适当的化学侵蚀脱钻和等离子体刻蚀脱碳预处理后,金刚石薄膜涂层硬质合金刀具的界面通常存在薄的(数十nm)石墨碳层;局部区域见到金刚石粒子直接生长在WC颗粒上,金刚石膜/基横截面的典型组织层次为:金刚石薄膜/薄的石墨碳层/细小的WC层/残留的脱碳层(η相+W相)/原始的硬质合金基体. 相似文献
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利用等离子体化学气相(MWPCVD)沉积法在Si(100)面上沉积了金刚石薄膜,采用SEM、AFM、XRD、Raman、XPS等方法对薄膜的结构及表面形貌进行了分析。为提高薄膜的场发射性能,在金刚石表面溅射了金属Ti,对比金刚石薄膜、金刚石/金属Ti复合薄膜的场发射性能,结果表明,金刚石/金属Ti薄膜的发射电流密度更大,且随着电场的增加电流密度急剧增加,开启电场低,约为3V/μm,当电场为25V/μm时发射电流密度可达到1400mA/cm2,并在机理上进行了一些探索,对金刚石/金属复合结构薄膜的场发射性能研究有重要意义。 相似文献
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报道了化学气相沉积金刚石薄膜生长的原位反射率测量,提出了监控金刚石薄膜生长的激光反射多光束干涉的数学模型。通过原位反射率的测量,精确监控了金刚石薄膜的生长厚度,成功地制备了红外增透增,这种方法的测量装置简单、紧凑而且可靠。 相似文献