700KeV高能离子注入机的靶室电源

一、前言700keV高能离子注入机,其靶室设计采用了旋转靶结构。如图1所示,在旋转靶盘上均布着8个靶位,分别称为1号靶位、2号靶位、……依此类推至8号靶位。其中1～7号靶用来对靶片注入,8号靶上装有铜网,以便在调束过程中,通过观察窗和微光电视系统,对离子束的束径大小、束对中情况、过扫程度进行定性分析。在换片过程中,步进电机的驱动轴,一端驱动靶盘,另一端驱动编码盘,位于编码盘两侧的光电定位装置,将靶位信息送入靶室电源进行处理,从而准确地控制靶位的变换。     

旋转批靶离子注入机靶室晶圆传送系统设计

为满足旋转批靶离子注入机的自动化需求,设计了旋转批靶离子注入机的靶室晶圆传送系统,介绍了靶室结构和晶圆传送流程、片库腔体、机械手腔体和靶室腔体;分析了3种传片流程,并进行比较;论述了靶室运动控制系统及硬件和软件设计思路。最后对靶室晶圆传送系统进行总结,并展示其研制成功后的应用成果,可交付给芯片厂进行批量生产。     

离子注入机的束断系统

从离子源引出的离子束,在沿着注入机的主光路系统运行到基片的过程中,要受到许多控制。本文所论述的束断系统,其作用是当基片上的注入剂量达到给定标准时,将离子束偏移到主光路系统之外。     

大角度离子注入机中的颗粒污染

针对大角度离子注入机中的颗粒污染进行了分析和探讨,着重描叙了颗粒的产生,对注入掺杂的影响;介绍了颗粒的测量和监控;重点列出了如何从设计上减少颗粒污染的产生途径以及生产设备怎样预防颗粒污染。     

离子注入机的国内外现状

本文简要介绍了离子注入和器件的关系,概述了离子注入机的发展现状和趋势,初步探讨了我国离子注入机不能形成产业的原因。     

集成电路离子注入机发展现状与趋势

离子注入机是集成电路制造的核心装备之一,本文重点介绍了当前集成电路领域离子注入机的分类和基本性能参数,描述了其系统组成以及相关的关键技术;同时,基于集成电路发展趋势,分析了集成电路离子注入机的发展趋势.     

离子注入中污染的产生及防护

本文概述了离子注入过程中污染产生的原因和防止污染的措施，特别强调了对微粒污染和金属污染的防护以满足ＵＬＳＩ加工对离子注入的要求。     

当代离子注入机—设计周密的智能型离子注入机

当代的离子注入机已不是从前那种难以驾驭的机器了;它们可以是加工过程中操作人员的工程伙伴。Piter Burggraaf,Senior Editor如果离子注入机能思维,它就应考虑到生产、工艺过程控制和自动维护的功能:它将集启动、设定和装载于一身——从操作人员那里接过这些重担。这种“会思维”的离子注入机可以控制离子加工过程中与增加产额有关的许多参数,如束扫描,圆片旋转和倾斜,圆片带     

离子注入机的计算机控制扫描系统

本文讨论了影响常规静电扫描系统的均匀性的因素,并提出一种离子注入机的计算机控制扫描系统。     

大束流离子注入机能量污染的研究

能够精确控制离子注入的能量从而控制掺杂的深度是离子注入机的重要特征。本文讨论了大束流离子注入机能量污染，产生的原因及降低能量污染的方法。     

强流氧离子注入机注入均匀性分析及提高

对强流氧离子注入机的注入靶室进行分析探讨,对影响均匀性指标的靶盘结构、束的形状和束扫描注入方式进行研究,结合主体硬件,增加晶片自旋装置和采用新的扫描方式,来提高注入均匀性指标。     

LC—2A型离子注入设备的某些改进

本文叙述了弗里曼(Freeman)离子源体联接在LC-2A型中能离子注入机上的应用;表明了弗里曼离子源体与LC-2A型中能离子注入机光路系统相吻合后,可以茯得较大束流;这样,满足了我所半导体集成电路研制工艺中高剂量离子注入掺杂要求;文章还讨论了LC-2A型离子注入机束流增大后引起的诸如离子流的污染、磁分析器扁管防“穿通”、以及样品热聚积效应问题。     

在线离子注入机质量跟踪研究

本文报告以实验的方法，经过一年的工艺跟踪试验，对某型号在线运行十年的中能离子注入机的运行质量进行检测研究。用四探针法研究了中剂量（１×１０￣（１４）ｃｍ－２）注入样品的薄层电阻，发现最大偏差为２％；用Ｃ－Ｖ法测量了低剂量注入样品的表面浓度。检测结果表明，注入样品表面峰值浓度偏差为６％，但不同低剂量注入样品分辨力是可以的；同时发现，氧化后，未注入样品在退火前、后峰值浓度变化为７．４％；对试验样品原始数据也进行了测量。由此提出，集成电路成品率的提高有赖于整个加工线运行质量的可靠程度。     

强流氧离子注入机装卸片控制系统

介绍了一种用于强流氧离子注入机的装卸片控制系统,控制系统采用多轴运动控制器实现了多个电机的协同运动,解决了晶圆在传送过程中的中心偏差校正和角度校正的问题,并最终实现了晶圆的全自动传送。     

离子注入机大行程垂直扫描系统的研制

采用垂直扫描系统是离子注入机最常用的扫描方式之一,着重阐述了一种大行程垂直扫描系统的系统构成、设计思路和实现方法.经过实际使用证明,该系统提高了离子注入机机械扫描的可靠性和稳定性.     

状态机在离子注入机中的应用

报告了在离子注入机控制软件建模时使用状态机的原因,以及控制软件的结构、状态机的层次结构和由状态机自动生成代码的方法,并介绍了应用状态机设计开发的离子注入机控制软件的优点。     

大角度离子注入机控制系统软件设计

大角度离子注入机的控制系统具有控制部件和控制算法复杂、支持SEMI自动化软件标准等特点,通过优化软件结构和关键控制算法,成功实现控制系统设计和GEM标准组件设计,测试证明软件自动化程度高、稳定、可靠。     

离子注入机大行程垂直扫描系统的研制

采用垂直扫描系统是离子注入机最常用的扫描方式之一,着重阐述了一种大行程垂直扫描系统的系统构成、设计思路和实现方法.经过实际使用证明,该系统提高了离子注入机机械扫描的可靠性和稳定性.     

大角度离子注入机控制系统的研制

介绍了大角度离子注入机控制系统的功能,重点介绍了系统的总体设计和控制模块的设计、主控计算机与子控制器之间的通讯以及控制系统的软件结构设计等。经实验证明,该控制系统稳定、可靠。