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笔者以TaN薄膜中的残余应力为主要研究对象,分别从实验和理论上对薄膜中的残余应力进行了分析。所研究TaN薄膜由物理气相沉积的方法制得,制备过程中以不同参数为变量,如反应气体流量、基体温度、功率、工作压力等。使用扫描电镜观察了薄膜的组织形貌,用能谱仪测量了薄膜的成分,用X射线衍射仪标定了薄膜的相结构,用X射线应力测量仪测量了薄膜在不同工艺下的残余应力,并从量子力学角度分析了残余应力产生的原因。实验结果表明:随着氮气流量的增加,薄膜的晶粒变细,薄膜中氮含量升高,相转变为单一的面心立方TaN,残余应力升高;基体温度升高,残余应力增大;工作压力增加,残余应力升高;此外,溅射功率的改变导致薄膜厚度的改变,进而引起薄膜中残余应力改变。当氮气流量2sccm,基体温度25℃,功率150 W,工作压力0.3 Pa时,沉积得到的TaN薄膜残余应力最小。 相似文献
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表面处理对氮化硅陶瓷力学性能的影响 总被引:2,自引:0,他引:2
采用X射线衍射应力分析的sin2ψ法计算了Si3N4陶瓷试样的残余应力,并分别测量了表面处理前后Si3N4试样的力学性能。结果表明,经平面磨削后的Si3N4试样表面残余应力为拉应力,而抛光处理可适当降低残余应力。两种方法都使试样抗弯强度降低。 相似文献
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为了防止管子与管板连接处的应力腐蚀裂纹,需要找到一种产生较低残余应力的连接方法。液压胀接就是一种可取的方法。本文介绍为确定这些残余应力而进行的实验和理论工作。我们最感兴趣的是管子的胀接部分与非胀接部分之间的过渡区域。所用的测量技术是X光衍射试验、应力腐蚀裂纹试验和应变测量。应用了有限元分析。此外,对这种连接方式的拉力强度、长度变化等等也进行了研究。 相似文献
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在国产六面顶高压设备上,以镀钛金刚石为原料,镍基合金为烧结助剂,采用熔渗法成功制备了金刚石聚晶(PCD),通过扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、拉曼光谱(Raman)等测试方法,研究了不同烧结压力和温度对镀钛金刚石聚晶组织形貌的影响,与普通金刚石聚晶进行了物相成分及残余应力的对比分析。实验结果表明:烧结条件为5.4~5.6GPa,1350℃~1450℃下的镀钛PCD具有较高的致密性和机械性能;镀钛PCD的衍射峰中有NiMnCo、碳化钛和TiMnC化合物。镀钛PCD相比普通的PCD表面残余应力略大。 相似文献
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