硅腐蚀停止技术制备超薄硅膜中的分形现象

利用浓硼扩散腐蚀停止技术制备自由悬空硅薄膜时,在薄膜的表面观察到了呈分形生长的反应生成络合物聚集结构.研究表明,薄膜表面的生成物的分形属于典型的有限扩散集团凝聚模型,其分形维数值约为1.667.实验还发现,反应生成络合物的聚集结构以及能否产生聚集都受腐蚀腔体的深宽比影响.     

纳米硅薄膜分形凝聚模型

从分析纳米硅（ｎｃ－Ｓｉ：Ｈ）薄膜生长过程的特点出发，提出与扩散限制凝聚（ＤＬＡ）模型不同的ｎｃ－Ｓｉ：Ｈ薄膜分形凝聚模型：扩散与反应限制凝聚（ＤＲＬＡ）模型．获得的结果与实验结果符合得很好．ｎｃ－Ｓｉ：Ｈ薄膜是利用等离子体增强气相淀积方法制备的．文中讨论了ｎｃ－Ｓｉ：Ｈ薄膜的结构特点与分形凝聚之间的关系．     

纳米硅薄膜表面形貌分形特征的STM研究

利用扫描隧道显微镜（ＳｃａｎｎｉｎｇＴｕｎｎｅｌｉｎｇＭｉｃｒｏｓｃｏｐｅ，简称ＳＴＭ）对纳米硅薄膜在纳米尺度上的表面微观形貌进行了研究，结合分形理论，计算出样品表面形貌的分形维数Ｄ，从而得出Ｄ与有关样品微结构参数之间的关系．ＳＴＭ结合图象处理和傅利叶分析法可以很好地研究薄膜材料表面形貌的分形特征．纳米硅薄膜的表面在纳米尺度上的微观形貌呈现出分形特征．     

粗糙薄膜表面的原子力显微镜研究和多重分形分析

用一系列生成元模拟了具有不同特征的、与原子力显微镜图像相似的规则粗糙表面。详细讨论了规则粗糙表面多重分形谱参数的意义。并通过与方均根粗糙度（rms）和简单分形维数D0的比较，描述了多重分形分析的优点。最后用多重分形的方法分析了由AFM测量的ZnO薄膜和高聚物PtBuA薄膜的表面形貌。     

Au／a—Ge膜退火行为的多重分形研究

研究了Ａｕ／ａ－Ｇｅ双层膜退火后形成花样的分布及其分维。单个分形枝叉的疏密可用简单分维定量描述。多重分形谱可以很好地定量描述了多个分形区的分布的变化，分形花样稀少且分布不均匀的图形对应的分形谱较宽。经１００℃退火６０ｍｉｎ后薄膜中出现分布不均匀的很少的分形花样，经１２０℃退火６０ｍｉｎ后分形花样布满整个薄膜表面，相应的分形谱宽度△α从３．７０减小到０．２３。     

Au/a-Ge膜退火行为的多重分形研究

研究了Ａｕ／ａ－Ｇｅ 双层膜退火后形成分形花样的分布及其分维。单个分形枝叉的疏密可用简单分维定量描述。多重分形谱可以很好地定量描述多个分形区的分布的变化，分形花样稀少且分布不均匀的图形对应的分形谱较宽。经１００℃退火６０ｍ ｉｎ 后薄膜中出现分布不均匀的很少的分形花样，经１２０℃退火６０ｍ ｉｎ 后分形花样布满整个薄膜表面，相应的分形谱宽度Δα从３．７０ 减小到０．２３。     

联氨法化学沉淀制备PbS光敏薄膜反应机理的探讨

本文着重分析联氨法化学沉淀制备敏感的PbS光敏薄膜的反应机理。从长期实践中得到了一些规律,结合试验和显微镜对所得PbS薄膜表面状态的观察结果,我们认为溶液中发生了复杂的反应而生成各种络合物。又因络合物的数量和稳定性不同,所以,分解的温度和速度也有着较大的差异。这样,就产生了PbS薄膜形成的阶段:预结籽晶,基体的形成,表面敏感薄膜的形成。各种络合物的分解产物,仍是其原组分。所以,硫脲水解生成H_2S后,再与溶液中的Pb~(++)作用形成PbS的反应,将贯穿反应的始终。试验证明,PbS薄膜的性能主要取决于各阶段的反应速度和PbS薄膜的表面状态。     

不同衬底上溅射Cu膜的表面形貌

采用磁控溅射工艺在石英、云母与Ti/Si衬底上制备100 nm厚Cu膜,并在300℃条件下进行原位退火.用原子力显微镜(AFM)观察薄膜表面形貌,基于粗糙度方法与分形理论对其量化表征.结果表明:分形维数Di比粗糙度Rrms更能准确地表征薄膜表面几何形态;石英衬底上Cu膜具有较为复杂的表面结构,其Df值大于沉积在云母和Ti/Si衬底上薄膜的;经过退火处理后,所有薄膜的表面形貌均趋于平滑化,Df值减小.     

多孔硅薄膜微结构的分形特性

用扫描电镜(SEM)对厚度不同的多孔硅膜的微结构进行了研究。对于23μm厚的多孔硅膜,其横截面微结构好似海底生长的海藻;而对于6μm厚的多孔硅膜,其表面微结构则像龟壳上的裂纹。通过对在不同放大倍数情况下拍摄的多孔硅的SEM图片进行分析,结果表明多孔硅薄膜的这两种微结构都具有分形特征,而且其分形维数为2.3～2.6。利用扩散限制凝聚模型(diffusion limited aggregation)对这两种微结构的形成过程进行了模拟。     

a-Si:H簿膜的晶化与分形结构的形成

利用透射电子显微镜(TEM)观测a-Si:H 薄膜在不同温度下生长的分形结构。实验方法为原位动态技术。对分形结构的TEM形貌像用Sandbox方法计算了其分形维数。450℃时,形成具有类似分叉状的分形结构,分形线数d_f=1.69;800℃时,形成岛状分形结构,分形维数d_f=1.76。实验结果表明,分形结构的形成与薄膜物性的变化相联系。文中还对分形结构与a =Si:H 薄膜晶化的关系进行了讨论。     

分形天线工程及其新进展

分形电动力学在上世纪80年代中期由分形与电动力学相结合产生之后得到了蓬勃发展,分形天线工程就是其中一个重要应用方向.本文首先简要介绍分形概念,然后回顾了分形天线工程的产生背景和发展,研究领域与方法,最后简介了分形天线工程几个研究新方向.     

Sierpinski分形天线特性分析

Sierpinski分形天线的结构具有自相似性,从而天线具有良好的多频带特性。文中主要研究了Sierpinski分形天线频带位置随天线张角和比例因子变化的一般规律,并简要的分析了Sierpinski分形天线阵,绘出了其远场方向图,讨论了其低副瓣特性。     

分形天线的IFS实现与特性分析

分形最基本的特征就是自相似特性与分数维，可以很好的用于设计天线。文章讲述了用IFS(迭代函数系统)实现分形天线的过程。并对一些典型的分形天线及分形天线阵列的特性进行了分析。     

基于分形曲面尺度斜率特征的弱小目标检测

鉴于弱小目标检测所固有的难点及常用的检测方法不能准确、稳定地检测出目标,提出了运用分形曲面尺度斜率特征检测弱小目标的方法。通过实际数据分析可以得出:相比常用的分形维数和分形拟合误差等检测特征,分形曲面尺度斜率特征在表征人造目标与自然背景的差异上更加明显,在抗图像噪声干扰上也更为优异,有着更强的鲁棒性。该方法普遍适用于检测自然环境中的弱小目标,尤其在对空弱小目标方面,检测概率更高。无论背景、飞行姿态、目标类型发生怎样的变化,经本文算法运算后只需一步简易的分割就可以检测出微弱暗小目标。     

分形维数的多尺度形态估计与目标提取

本文研究了Minkowrki－Bouligand维数估计的数学形态学方法实现，给出了一种基于多尺度灰度形态运算的图像维数估计算法。将分形特征用于目标的检测，提出了一种具有较好稳健性的基于多分辨率分形特征的目标提取方法。     

分形维数与光学小波变换

用光学方法成功地进行了分形图像的小工测出其分形维数。分形维数值的测定可以推动分形动力学的研究与发展。实验证明,光学小波变换不失为一种实时分析分形图像的重要方法。     

分形图像编码研究的进展

 分形图像编码是近几年发展起来的一种新的图像编码方法,目前对其研究较为广泛.本文介绍了分形图像压缩编码的数学原理、基本特性,着重介绍了当今这一领域的发展成果,比较了各种方案的优缺点,分析了目前编码方案所存在的缺点、原因及未来的发展方向.     

基于局部分形维数的多目标检测算法

在以自然景物为背景的图像中,分形维数是一种能有效地将目标从自然背景中检测出来的纹理特征.将图像的局部窗转化为一维序列的形式,在研究R/S分析法的基础上,提出了一种局部分形维数估计算法.将一维最大熵的检测结果与分形特征图的检测结果进行逻辑与运算,从而实现目标边缘的精确定位.实验表明该算法不仅可以有效地实现多目标检测同时具有较好的抗噪性能.     

基于分形算法的仿真系统设计与实现

分形理论是非线性科学的三大理论前沿之一,迄今为止尚未出现比分形几何学描述自然形态更好的几何学,因此分形在众多领域应用广泛,但是分形算法具有较高的理论深度,使传统的理论教学显得捉襟见肘.本文基于VisualStudio 2005实现了典型分形算法的计算机模拟,并提供一定的交互功能.结果表明,该平台为师生研究分形算法提供理论背景和实验平台,并对提高教育教学质量起到明显的推动作用.     

分形学与图像压缩编码

介绍分形学的产生意义和作用，提出分形物体的数学模型，讨论分形技术应用于图像压缩编码中的迭代收缩变换算法。