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平面研磨抛光轨迹研究 总被引:2,自引:0,他引:2
介绍了平面研磨抛光轨迹均匀性的研究方法,详细阐述了双轴式(包括定偏心式和不定偏心式)、直线式、摇摆式、计算机控制小工具式单面研磨抛光轨迹和行星式双面研磨抛光轨迹的数学函数及其轨迹均匀性,指出了当前轨迹研究中存在的不足. 相似文献
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吴任和 《航空精密制造技术》2007,43(3):15-17
研究了纳米金刚石研抛液对磁头进行表面研抛时,纳米金刚石悬浮液的粒度对磁头表面形貌的影响,评价了由该种研抛液抛光所形成的磁头基体表面质量。 相似文献
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利用纯金属锡制作抛光盘,结合超精密主轴和导轨,可以对抛光盘进行超精密车削修整。同时该机床的抛光盘主轴和工件主轴均为可调速的主动驱动,既可以实现古典的平板接触式研磨,亦可实现流体浮动抛光。 相似文献
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针对用CCOS小工具研抛技术抛光材质较硬以及陡度较高的SiC非球面镜时,面形误差收敛太慢,研究了一种新型的球形磨头抛光技术,其去除函数稳定性较好,形状趋于高斯分布且束径也较小,对修正局部面形误差具有较好的效果.为了使该技术能应用于抛光,对球头抛光工具进行了刀具补偿. 相似文献
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简要介绍超精密抛光技术的发展动态,围绕精密研抛机的现有加工技术水平,开发可实现超精密抛光的控制力系统. 相似文献
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史兴宽 《航空精密制造技术》1998,(4)
在研磨盘的不同位置打深盲孔,近于贯穿,仅留下薄薄一圆形平膜片,作为抛光法向压力的敏感元件。此圆平膜片半径,厚度由位移敏感元件灵敏度及抛光所容许的外扰(对实际工作状态影响足够小)决定。在此孔中安置光纤位移传感器测量圆平膜片的变形位移,就可解算出抛光时研磨盘的局部压力。信号调制后通过多路遥测装置或电刷滑环等集流器将信号引出。 相似文献
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给出了超声研磨工具的结构,在无法用解析法确定工具结构参数的情况下,采用大型有限元软件ANSYS仿真其实际工况,对不同结构参数的工具进行模态分析,找到其纵振频率与工作频率接近的一组参数作为有限元优化设计的初始设计序列,进行优化设计得到最优解。 相似文献
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研究了研磨盘材料和尺寸对材料去除效率的影响。利用MATLAB软件仿真分析研磨盘与反射镜表面的不匹配度,结合研磨盘的磨损效率,确定了适合非球面研磨加工的研磨盘尺寸及刀具路径,针对不同研磨阶段为研磨盘材料和尺寸的选择提供依据,以提高加工效率和提升面形误差收敛效率。并将分析结果运用到大口径SiC非球面反射镜的实际加工中。 相似文献
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非导磁不锈钢管材内外表面的磁力研磨 总被引:1,自引:0,他引:1
针对非导磁材料难以采用磁力研磨的问题,本文研制了特定的磁路,磁极表面场强达8kGOs以上,并成功地对3mm壁厚的不锈钢管材的内外表面进行了磁力研磨,尤其是外表面磁力研磨后表面粗糙度达0.06μm。 相似文献