掺Ge石英纤芯光纤的耐辐照实验

研究了不同掺杂的光纤在辐照后引起的损耗增加,进而分析了掺Ge石英纤芯光纤的不同掺杂成分对其耐辐照性能的影响,提出最佳耐辐照掺Ge石英纤芯光纤的设想:包层掺F纤芯掺Ge的石英光纤,其中P的质量分数不超过0.5%,OH-含量在3×10-6以下,Cl的质量分数控制在0.9%左右。     

掺氟石英芯光纤的耐辐射特性

为了使光纤在宽的波长范围内具有良好的耐辐射特性，我们研究了用掺氟石英芯光纤代替纯石英芯光纤，此外还探讨了对掺氟光纤掺氢的影响，结果发现，掺氟使得光纤的实用波长区加宽，而在掺氟光纤中掺氢使得光纤耐辐射特性大大增强。     

光纤掺氟的实验研究

氟已成为MCVD法中重要的掺杂剂,其作用是制备各种凹陷内包层的单模光纤。本实验证明:由于CCl_2F_2掺入而使折射率降低△n~-,是与CCl_2F_2流量(或等效分压)的1/5方幕成正比;二氧化硅的沉积效率与一个最佳的CCl_2F_2流量相对应,CCl_2F_2流量过高,形成SiF_4会降低二氧化硅的沉积效率。故合理选择CCl_2F_2的流量,将有助于提高单模光纤预制棒的沉积速率和生产速度,降低光纤成本。     

一种耐辐照全玻光纤的研制

本文主要介绍了一种耐瞬态辐照全玻光纤的设计依据、制作工艺以及测试过程。这种光纤已通过国产相对论性电子强流脉冲加速器的辐照测量，可以耐大剂量Ｘ光脉冲辐照。     

掺铒氟化物光纤放大器和石英光纤放大器的比较

本文对掺铒氟化物光纤放大器和石英光纤放大器进行了比较，并提出了 它们的应用前景。     

高精度光纤陀螺用掺铒光纤光源辐照性能试验

针对高精度光纤陀螺的空间应用,理论分析了用于高精度光纤陀螺的不同结构掺铒光纤光源的抗辐照性能,指出了单通后向结构的掺铒光纤光源具有更好的抗辐照性能。对单通后向结构采用不同掺杂浓度的掺铒光纤设计并研制了掺铒光纤光源,在实验室用Co60辐照源进行了大小两个剂量率的辐照试验,监测了掺铒光纤光源平均波长和输出光功率随辐照总剂量的变化,试验结果表明:掺铒光纤掺杂浓度较高时,掺铒光纤光源的抗辐照能力较强;辐照剂量率较小时,掺铒光纤光源功率随辐照总剂量的降低速度更慢。掺杂浓度较高的掺铒光纤光源可以满足高精度光纤陀螺空间应用的要求。     

掺锡石英光纤的制备技术

介绍了液相掺杂法与MCVD工艺相结合制备掺锡石英光纤的工艺过程,对掺锡光敏光纤的光敏性和热稳定性进行了测试,并对光敏性与掺杂浓度的关系进行了初步讨论.     

耐瞬态核辐照光纤的制备和测试

本文叙述用ＰＣＶＤ法制备的耐瞬态核辐照光纤。光纤包层为Ｆ掺杂，纯ＳｉＯ２纤芯，低ＯＨ－根含量，经核辐照后的实验结果表明，光纤瞬态峰值感应损耗最低为３．４ｄＢ／ｍ·ｋｒａｄ。文中还讨论了制备中的几个问题。     

耐辐照塑料光纤的设计

提出了两种耐辐照塑料光纤的设计方案.第一种方案是采用金属氧化物和塑料的共聚物做包层,聚苯乙烯做纤芯,通过包层对射线的吸收达到耐辐照的效果.第二种方案则在聚合物中引入可以吸收辐照能量的有机添加剂,从而对辐照下的光纤起到保护的作用.这些方案为研制耐辐照塑料光纤打下了基础.     

掺铥石英光纤的掺杂浓度实验研究

介绍了掺 Tm3+石英光纤的研究概况与溶液掺杂法的简要工艺过程。着重阐述了制备工艺中稀土离子溶液浓度对掺杂浓度的影响 ,Tm3+掺杂浓度与 Tm3+特征吸收峰值间的关系。关于最佳掺杂浓度问题也进行了初步讨论。     

PMMA塑料光纤辐照特性的实验研究

理论分析了聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）塑料光纤受辐照后物理与化学性能的变化,并对2组塑料光纤样品进行了辐照前后光谱特性的研究及对比实验。分析了包层掺有PbO及纤芯材料特别提纯的塑料光纤以及一般塑料光纤的耐辐照特性和光谱恢复特性,发现纤芯的纯度及外包层的材料对塑料光纤的耐辐照特性具有很大的影响,这为耐辐照塑料光纤的研制提供了依据。     

掺Er3+及Er3+/Yb3+石英有源光纤的制作与应用

综述了掺Er^3 及Er^3 /Yb^3 石英有源光纤的材料特性，制作工艺及应用，并展望了这两种光纤材料的发展前景。