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光电导半导体材料基体在电解液中用电解方法阳极氧化,如在含0.1克分子浓度的氢氧化钾,90%的乙二醇,10%的去离子水的电解液中,可形成阳极氧化物表面,使表面态密度保持稳定,以防止空穴电子对在扫出过程中复合。这样,能制成高温下长期稳定的红外探测器。 相似文献
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研制HgCdTe焦平面器件是当前实现长波红外焦平面器件的主要途径。红外焦平面器件要求大面积、均匀性好和高质量的HgCdTe材料。用LPE、MOCVD和MBE外延生长的HgCdTe薄膜材料可满足焦平面器件对材料的要求。LPE是目前研制HgCdTe光伏列阵主要材料,用双层掺杂生长的p-n异质结得到当前最高的R_0A值。MOCVD和MBE生长的HgCdTe外延膜近期有了较大的进展,除了在硅衬底上MBE生长HgCdTe仍在研究之外,其它已趋向成熟并开始转向工业生产。为了研制高质量的HgCdTe外延膜,高质量的衬底材料与建立薄膜均匀性的检测工艺是十分必要的。 相似文献
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在3~5和8~12μm 波段,碲镉汞(MCT)已成为红外探测和热成象的最重要的半导体材料。目前,高质量光电二极管可利用包含离子注入形成 n-p 结的工艺来制作。但是,掺杂机理还说不清楚,因为这种化合物半导体的电学性质,不仅由杂质决定,而且还由“缺陷”及与化学配比的偏离所决定。离子注入 MCT 的主要特征是:在注入的材料中,退火前观察到的是 n~+电学掺杂。“缺陷”似乎是产生这个现象的原因,因为形成这一 n~+层不需要任何进一步退火,同时也不怎么依赖注入条件及注入离子的性质。本文描述了离子注入 MCT 的一般性质。我们将给出观测缺陷所引起的载流子浓度饱和、结迁移和退火材料性质等许多问题。这些问题的回答有助于了解离子注入 MCT 的掺杂机理。看来经过注入杂质,接着进行退火的掺杂也是一个更为复杂的问题,因为它主要与缺陷的退火和化学配比的控制有关。p 型掺杂杂质和 n 型掺杂缺陷之间的竞争,提出了通过离子注入形成 p 型层的可能性问题。 相似文献
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在用移动加热器法(THM)生长的碲镉汞(Hg_(0.8)Cd_(0.2)Te)晶体中,发现在最后凝固部分的载流子浓度明显增加,可以认为载流子与汞空位等同。观测的纵向空位浓度分布可以用一个顾及到沿晶体长度不同部分的热随时间变化过程和依赖于Hg空位扩散系数的浓度模型作定量描述。 相似文献
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长波红外碲镉汞探测器 总被引:1,自引:0,他引:1
1 引言 红外辐射最早是1800年英国的天文学家赫谢耳(W.Herschel)在研究太阳光谱的热效应时,用水银温度计测量各种颜色光的加热效果而发现的。1830年,L.Nobili利用塞贝克发现的温差电效应制成了“温差电型辐射探测器”; 相似文献