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在分子束外延系统中,利用3nmGaAs薄盖层将InAs自组装量子点部分覆盖,然后在500°C以及As2气氛中退火一分钟,制成纳米尺度的InAs量子环。这一形成敏感地依赖于退火时的生长条件和生长InAs自组装量子点时的淀积量。InAs在GaAs表面的扩散以及同时发生的In-Ga互混控制着InAs量子环的形成。 相似文献
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用光荧光谱和原子力显微镜测试技术系统研究了在2 nm In0.2Ga0.8As和x ML GaAs的复合应力缓冲层上生长的InAs/GaAs自组织量子点的发光特性和表面形貌.采用In0.2Ga0.8As与薄层GaAs复合的应力缓冲层,由于减少了晶格失配度致使量子点密度从约1.7×109 cm-2显著增加到约3.8×109cm-2.同时,复合层也有利于提高量子点中In的组份,使量子点的高宽比增加,促进量子点发光峰红移.对于x=10 ML的样品室温下基态发光峰达到1350 nm. 相似文献
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成功地用深能级瞬态谱(DLTS)研究了InAs自组织生长的量子点电学性质,获得2.5原子层InAs量子点电子基态能级在GaAs导带底下约0.13eV,该量子点在荷电状态发生变化时伴随有晶格弛豫,对应俘获势垒为0.32eV.本工作也证明可以把量子点类比深中心进行研究. 相似文献
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研究了较低掺杂浓度时InAs量子点中直接掺杂Si对其发光特性的影响.光致发光谱(PL)的测量表明,与未掺杂样品相比,掺杂样品发光峰稍微蓝移,同时伴随着发光峰谱线明显变窄.该结果表明,在生长InAs层时直接掺杂,有利于形成大小分布更均匀的小量子点.该研究对InAs自组织量子点在器件应用方面有一定的意义. 相似文献
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成功地用深能级瞬态谱(DLIS)研究了p 型InAs 自组织生长的量子点的电学性质,测得2.5 原子层InAs 量子点空穴基态能级在GaAs 价带底上约0.09eV,该量子点在荷电状态发生变化时需要克服一个势垒,俘获势垒高度为0.26eV.本工作首次利用DLTS测定了量子点空穴的基态能级和俘获势垒,相信对增加量子点性质的理解会起到有益的帮助 相似文献
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通过研究GaAs衬底上不同厚度InAs层光致发光的退火效应,发现它和应变量子阱结构退火效应相类似,InAs量子点中的应变使退火引起的互扩散加强,量子点发光峰蓝移.量子点中或其附近一旦形成位错,其中的应变得到释放,互扩散现象就不明显了,退火倾向于产生更多的位错,量子点的发光峰位置不变,但强度减弱. 相似文献
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研究了非耦合多层InGaAs量子点材料光增益的温度特性,并与InGaAs单量子阱材料进行了对比,发现In-GaAs量子点表现出更好的增益温度稳定性,同时发现随着温度升高,在140-200K湿度范围内,InGaAs量子点增益峰值首先增大,当温度超过200K后开始减小,对这种增益特性的产生机制进行了分析,增益曲线峰值波长随温度升高单调地向长波长方向移动,与量子阱材料相比具有更好的温度稳定性。 相似文献
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Z. M. Wang S. L. Feng Z. D. Lu Q. Zhao X. P. Yang Z. G. Chen Z. Y. Xu H. Z. Zheng 《Journal of Electronic Materials》1998,27(2):59-61
We investigate the annealing behavior of InAs layers with different thicknesses in a GaAs matrix. The diffusion enhancement
by strain, which is well established in strained quantum wells, occurs in InAs/GaAs quantum dots (QDs). A shift of the QD
luminescence peak toward higher energies results from this enhanced diffusion. In the case of structures where a significant
portion of the strain is relaxed by dislocations, the interdiffusion becomes negligible, and there is a propensity to generate
additional dislocations. This results in a decrease of the QD luminescence intensity, and the QD peak energy is weakly affected. 相似文献
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用PL谱测试研究了GaAs和不同In组份InxGa1-xAs(x=0.1,0.2,0.3)覆盖层对分子外延生长的InAs/GaAs自组织量子点发光特性的影响,用InxGa1-xAs外延层覆盖InAs/GaAs量子点,比用GaAs做 其发光峰能量向低有端移动,发光峰半高度变窄,量子点发光峰能量随温度的红移幅度较小,理论计算证实这是由于覆盖层InxGa1-xAs减小了InAs表面应力导致发光峰红移,而In元素有效抑制了InAs/GaAs界面组份的混杂,量子点的均匀性得到改善,PL谱半高宽变窄,用InGaAs覆盖的In0.5Ga0.5As/GaAs自组织量子点实现了1.3μm发光,室温下PL谱半高宽为19.2meV,是目前最好的实验结果。 相似文献