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采用射频磁控溅射方法,利用微细加工工艺制备了不同薄膜宽度的三明治结构FeCuNbCrSiB/Cu/FeCuNbCrSiB多层膜,在频率1~40MHz下研究了薄膜宽度对多层膜的纵向和横向巨磁阻抗效应的影响。结果表明,三明治结构多层膜的巨磁阻抗效应随薄膜宽度的变化具有显著的影响,当FeCuNbCrSiB层、Cu层宽度分别取1.6rflrn、O.8rflrn时,GMI%达到最大值一21.22645%。 相似文献
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采用磁控溅射方法,在玻璃基片上制备了非晶的Fe73.5Cu1Nb3Cr0.5Si13B9薄膜及三明治结构M/C/M(M为Fe73.5Cu1Nb3Cr0.5Si13B9;C为Cu)的多层膜。在频率(1~40)MHz下,研究了薄膜材料的巨磁阻抗(GMI)效应随外加磁场的变化关系。结果表明:单层膜的GMI效应较小,只有4.4%;而三明治结构多层膜的GMI效应,比单层膜有较大幅度的提高,在5MHz、120Oe下,纵向和横向GMI效应分别达–17.4%和–20.7%。薄膜材料的纵向GMI效应随外加磁场变化呈现先增后减,而横向GMI效应随外加磁场的增加而单调递减,其变化规律与薄膜的易轴取向有很大关系。 相似文献
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用高频溅射法制备了FeZrBNb合金薄膜,研究了制备条件、制备工艺对薄膜样品巨磁阻抗效应的影响.结果表明,增大薄膜的厚度可以提高样品的阻抗比,13 MHz下,厚度为10.8 μm的薄膜样品的最大纵向阻抗比为2.5%;在制备过程中加磁场可以在薄膜中感生出磁各向异性场,进而提高薄膜的阻抗比.同时,退火可以提高材料的软磁特性,增强薄膜的巨磁阻抗效应,对薄膜进行退火处理后,薄膜的纵向和横向阻抗比分别提高到1.7%和1.5%. 相似文献
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In this study, the different electromigration (EM) behaviors of eutectic Sn-Bi solder in the solid and molten states were
clarified using line-type Cu/Sn-Bi/Cu solder joints. When the eutectic Sn-Bi solder was in the solid state during the EM test,
a Bi-rich layer formed at the anode side while a Sn-rich band formed at the cathode side, and the intermetallic compound (IMC)
at the cathode side was thicker than that at the anode side. The growth of the Bi-rich layer exhibited a linear dependence
on the time of stressing. While the actual temperature of the solder joint increased to 140°C and the solder was in a molten
state or partially molten state, two separate Bi-rich layers formed at the anode side and a great many Cu6Sn5 IMC precipitates formed between the two Bi-rich layers. Also, the IMC layer at the cathode side was thinner than that at
the anode side. With a current-crowding-reduced structure, the products of diffusivity and effective charge number of Bi in
the eutectic Cu/Sn-Bi/Cu solder joints stressed with current density of 5 × 103 A/cm2 at 35°C, 55°C, and 75°C were calculated. 相似文献
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利用磁控溅射方法制备了纳米Co/Cu多层膜。利用扫描探针显微镜(SPM)观测了其表面形貌和磁畴结构,并通过振动样品磁强计(VSM)测量了磁性。结果表明,薄膜的微结构和磁性随非磁性层厚度的变化有着非常显著的变化。超细Co颗粒构造的多层膜样品,颗粒尺寸逐渐增大,磁畴尺寸先减小后增大,最后发生明显的聚集。磁性金属和非磁性金属的比例对多层膜之间的交换耦合相互作用有显著影响。平行膜面方向上的饱和场明显小于垂直膜面方向。当体积比约为1∶80时,平行膜面方向饱和场为95.9 kA/m,垂直方向饱和场为328.1 kA/m。此时两个方向上的饱和场、剩磁、矫顽力和磁滞损耗均为最小值。 相似文献
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按照实际制作器件的工艺条件和方法,采用不同的Cu引线框架氧化时间,制备了多组无芯片的封装器件,并打磨Cu/EMC界面的样品。然后对样品进行了剪切实验和界面微观结构观察。剪切实验发现,适当的Cu预氧化时间能有效提高Cu/EMC界面强度。Cu/EMC界面的SEM照片显示,150 min的氧化时间使界面产生了大量不同形状的氧化物颗粒,断裂沿Cu氧化层或EMC过渡层发生,导致界面剪切强度离散。考虑到Cu氧化对Cu/EMC界面的影响及工艺成本,氧化时间范围为165℃下8~12 min。 相似文献