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采用透明控制结构,设计了焦化加热炉出口温度的预测函数控制系统.针对影响出口温度的可测扰动采用前馈控制加以补偿,实际工业应用表明该控制系统具有较好的跟踪性能和较强的鲁棒性. 相似文献
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目前国内对于氨合成塔温度控制多采用PID控制、串级控制、前馈一反馈控制等方法,这些方法虽然实现简单,但难以克服氨合成塔温度控制中的大延时、强干扰和各段间强烈耦合等特性带来的不利影响,控制效果不佳,因此,决定在氨合成塔温度控制中采用广义预测控制策略设计多路前馈广义预测控制器。 相似文献
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方小明;刘艳梨;田大海 《电镀与精饰》2025,(2):99-105
在电镀线镀槽液化学反应热效应干扰下,电镀线镀槽需要不断补偿散失热量或增加冷却负荷以维持槽液设定温度,难以在每个电镀反应周期内对温度变化进行稳定控制,导致温度控制偏差较大。为此,提出应用GPCPLC-PID的电镀线镀槽液温度抗干扰稳定控制方法。考虑电镀反应温度变化,基于灵敏度系数校准电镀线镀槽液温度传感数据,能够在温度干扰下捕捉温度变化;在PLC控制器上,运用广义预测控制方法(Generalized Predictive Control,GPC)预测镀槽在化学反应热效应干扰下补偿热量或增强冷却时的温度变化趋势,对温度控制律进行校正滚动抗干扰优化;将最优控制律输出的温度调整实时扰动偏差前馈值作为PID控制器的输入,通过前馈偏差补偿跟踪响应温度变化,实现电镀线镀槽液温度抗干扰稳定控制。实验结果表明,所提方法能够准确感知电镀线镀槽液温度,通过GPC预测电镀线镀槽液温度变化趋势,降低了电镀线镀槽液温度控制的偏差,增强了控制抗干扰能力,为电镀线镀槽液温度稳定控制提供了强大支撑。 相似文献
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针对机筒温度控制偏差较大问题,提出时间最优控制与模糊PID控制相结合对精密注塑机机筒温度进行实时控制的方式。利用模糊控制可在线调整PID控制器的参数,兼顾时间最优控制快速消除大偏差和PID控制精度高的优点,获得动态性能指标,达到了升温快速、超调量小和稳态误差小的要求。通讨Matlab对该方案进行仿真,并通过实验进行了验证。结果表明,模糊PID控制算法动态响应好,控制精度高,能够实现温度偏差在±1. 5℃范围的控制要求。 相似文献
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本文指出燃烧室温度的测量将由红外辐射温度计代替原来的双铂铑热电偶。实现自动化后,不再直接测量其温度,进而燃烧模型自动控制。针对燃烧模型控制出现的一些问题,介绍了本公司用红外辐射温度计的温度信号为控制对象实现燃烧室温度自控的优点。 相似文献
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基于广义预测控制的间歇生产迭代优化控制 总被引:1,自引:1,他引:1
针对间歇生产,提出了一种基于广义预测控制的批次迭代优化控制策略--BGPC,在间歇过程中引入批次间优化的思想,将迭代学习控制ILC和广义预测控制GPC相结合,在GPC实时结构参数辨识的基础上利用前面批次的模型预测误差修正当前批次的模型预测值.该算法能够有效地克服模型失配、扰动和系统参数变化等情况.文章最后以一个数值例子和间歇反应器为对象进行仿真试验,验证了该算法是有效的. 相似文献
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以预测PI控制算法为核心,选用新型控制器件,实现对具有大滞后的温度对象——牵伸辊温度的精确控制。提出了一类基于大纯滞后过程的预测PI控制器的结构形式,这种控制器结构简单,可调参数少,参数的调节方便、直观。牵伸辊温度控制的实际应用表明:此类控制器具有良好的控制性能和鲁棒稳定性能。 相似文献
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发酵过程中控制菌体为适宜的菌球形态对于丝状真菌发酵的工业化放大具有重要的研究意义。本文针对米根霉在5 L发酵罐上种子培养过程中的形态学控制进行了研究;确定了最适宜形成菌球的培养条件分别为:控制发酵罐内的孢子浓度在5×104~8.3×104/mL的范围内;搅拌转速350 r/min;种子液 pH值稳定在2.80;以20g/L的葡萄糖浓度作为最佳种龄的经验值确定种子培养时间为52 h。该条件下可以获得表面光滑的直径约为1 mm的结实菌体。发酵结果表明;相比于絮状形态;菌球形态更有利于富马酸的生成。 相似文献