工作气压对TiO2薄膜结构的影响

用射频磁控溅射方法以纯金属钛做靶材在氩氧混合气体中制备了TiO2薄膜，Raman光谱测量表明，工作气压从0．2Pa变化到2Pa时，TiO2薄膜的结构由金红石相变化到锐钛矿相，厚度对TiO2薄膜结构没有明显影响．     

金红石和锐钛矿型二氧化钛薄膜的制备和特性评价

综述了作者近年来通过交流螺旋磁控溅射制备锐钛矿和金红石型微晶薄膜的研究进展，阐述了薄膜的制备工艺与其晶体结构、组成、光学性能以及杀菌能力的关系，并通过有效的方法对其光学性能进行了改进。     

纳米TiO2的结构相变

我们在对纳米ＴｉＯ２样品进行差热分析（ＤＴＡ）时发现,其ＤＴＡ曲线上出现两个吸热峰,通过对原始样品和一系列热处理样品进行Ｘ射线衍射（ＸＲＤ）实验,我们证实：第一吸热峰对应于物理或化学吸附的脱除过程,第二吸热峰完全对对应于纳米ＴｉＯ２原始样品从板矿结构经锐钛矿结构向着金红石结构的相变,这一相变促成了纳米晶粒的生长。     

用相转移法在金刚石表面沉积二氧化钛薄膜

用相转移法在金刚石表面沉积二氧化钛,探讨了沉积工艺条件,覆层在高温和人条件下被还原为单质金属钛,Ｘ射线衍射分析表明金刚石表面有钛和碳化钛生成,考察了金刚石复合体中金刚石与基体金属之间的结合状况,结果表明沉积了钛涂层的金刚石与胎体金属之间的粘结强度得到明显改善。     

纳米TiO_2的结构相变和光学性能

以TiCl4为原料 ,采用沉淀法制备了水合TiO2 沉淀 ,分别于 1 0 0℃、30 0℃、40 0℃、60 0℃、80 0℃煅烧处理。用紫外 可见光谱和导数吸收光谱研究了纳米TiO2 的吸收带边、能隙随着煅烧温度变化而变化的情况 ,结合XRD、TG DSC分析了不同温度下TiO2 的晶型及晶型转变情况。结果表明 ,随热处理温度的升高 ,TiO2 的晶相结构由非晶到锐钛矿型再到金红石型转变 ,40 0℃为锐钛矿型 ,60 0℃已出现金红石型 ,80 0℃已完全转变为金红石型 ;晶粒尺寸随热处理温度的升高而逐渐增大 ;带隙宽度、吸收带边随热处理温度的升高而变窄和“红移”。     

磁控溅射法制备的不同衬底上的TiO_2薄膜

利用射频磁控溅射方法,分别在改变氧气含量和沉积时间的条件下在ITO玻璃、Si和Al/ITO玻璃衬底上沉积了TiO2薄膜,并利用拉曼光谱表征了2种条件下的TiO2薄膜的结构.研究表明：衬底材料、氧气含量以及沉积时间明显地影响了TiO2薄膜的结构.随着氧气含量的降低,沉积在ITO玻璃衬底上的TiO2薄膜由锐钛矿和金红石的混合结构转变为单一的金红石结构,而沉积在Si衬底上的TiO2薄膜的结构没有改变,并保持单一的金红石结构;随着沉积时间的增加,Al/ITO玻璃衬底上的TiO2薄膜由金红石结构转变为锐钛矿结构.     

纳米金红石型二氧化钛粉末的研制

以硫酸法制备钛白粉工艺的中间产物－－钛液为原料，采用均匀沉淀法，外加自制晶种为金红石化促进剂，以十二烷基磺酸钠为表面活性剂，尿素为沉淀剂，制备纳米金红石型二氧化钛粒子；研究了反应物浓度、反应物配比、反应温度、反应时间等对粒子粒径及产物收率的影响；利用TEM，XRD，BET，ICP－AES等分析测试技术，对粉体粒子的形貌、粒径、晶型、比表面积和纯度进行表征，研究结果表明：所得二氧化钛粒子为金红石型，形貌呈球形，平均粒径达80nm，产品纯度达99.95%；该制备技术工艺新，生产成本低，工艺操作简单，易于实现工业化，便于用硫酸法生产钛白的厂家在原有工艺基础上对中国产品进行深加工。     

电子束蒸发沉积TiO2薄膜结构及光学性能的研究

研究了工艺条件对电子束蒸发沉积在 K9玻璃上 Ti O2 薄膜的结构和光学性能的影响。正交试验结果表明 ,基片温度是影响薄膜光学常数的主要因素 ,制备 Ti O2 薄膜的最佳工艺参数为 :基片温度 30 0℃ ,工作真空 2× 10 - 2 Pa,沉积速率 0 .2 nm/ s。采用最佳工艺沉积在透明基片上的 Ti O2 薄膜在可见光区具有良好的透过特性 ,同时也得出了薄膜的光学带隙能 Eg=3.77e V。 SEM观察结果表明薄膜为柱状纤维结构 ,柱状纤维的直径在 10 0～ 15 0 nm之间     

金红石TiO2薄膜的生长及性能研究

采用PLD方法分别在GaN和AlGaN/GaN基片上生长金红石TiO2(200)薄膜.XRD和AFM分析结果表明:当基底温度为600°C时,在GaN基片上生长的金红石TiO2(200)衍射峰表现明显和尖锐,薄膜表面形貌均匀平整,说明在该条件下制备出TiO2薄膜具有更好的结晶度.用TEM对薄膜界面特征进一步分析观测,TiO2薄膜晶格条纹清晰,薄膜与基底的界面清晰整齐.结果表明,在GaN基底上成功生长金红石型TiO2薄膜.     

液相沉积法制备掺银TiO2薄膜及光催化性能

为了提高TiO2薄膜光催化剂的活性,通过在氟钛酸铵、硼酸混合溶液中加入硝酸银,应用液相沉积法(LPD)制备了掺银TiO2薄膜.采用XRD、SEM、XPS、UV-vis等手段对其组成、表面形貌和结构进行了测试表征;并以甲基橙为模型物,进行降解实验评价Ag-TiO2薄膜的光催化性能.实验结果表明:硼酸/氟钛酸铵摩尔比为2～4,热处理温度为400℃,硝酸银掺杂量为0.03 mol/L时,Ag-TiO2薄膜具有良好的锐钛矿相晶型,同时具有较高的光催化性能.     

微波辐射制备TiO2薄膜光催化性能研究

采用微波辐射法由溶胶制备出TiO2薄膜,用XRD和TEM对催化剂进行了表征。以甲基橙为模拟污染物,考察了微波功率和膜层厚度对TiO2光催化活性的影响,并实际考察了TiO2薄膜对啤酒废水的降解效果。结果表明：制备的TiO2薄膜具有较高光催化活性,微波功率300W时光催化活性最大,对啤酒废水具有良好的处理效果。     

UV-Vis and Photoluminescent Spectra of TiO_2 Films

1　IntroductionThestudyofTiO2 photocatalysthasbeenfocusedontheapplicationtopurificationandtreatmentofairandwater[1,2 ] .ManymethodshavebeenusedtoprepareTiO2filmssuchassol gelprocess ,CVD ,sputteringandsoon[2 -4] .Amongthem ,reactivesputteringisoneofthemostunitizedmethodsforobtaininguniformthinfilmswithawell controlledstoichiometry[3 ,5] .Whenonecon sidersphotocatalyticapplications ,animportantaspectofTiO2 film ,besidesthecrystallinephase (anatase) ,isthepresenceofoxygenvacancy[6] .Takedaet…     

Effects of Substrate Temperatures on the Structure and UV-shielding Properties of TiO2-CeO2 Films Deposited on Glass by Radio-frequency Magnetron Sputtering

TiO2-CeO2 films were deposited on soda-lime glass substrates at varied substrate temperatures by rf magnetron sputtering using 40% molar TiO2-60% molar CeO2 ceramic target in Ar：O2=95：5 atmosphere.The structure,surface composition,UV-visible spectra of the films were measured by scanning electron microscopy and X-ray diffraction,and X-ray photoelectron spectroscopy,respectively.The experimental results show that the films are amorphous,there are only Ti^4＋ and Ce^4＋ on the surface of the films,the obtained TiO2-CeO2 films shou a good uniformity and high densification,and the films deposited on the glass can shield ultraviolet light without significant absorpition of visible light,the films deposited on substrates at room temperature and 220℃ absorb UV effectively.     

Low Temperature Coating of Anatase Thin Films on Silica Glass Fibers by Liquid Phase Deposition

Uniform crystalline TiO2 thin films were coated on silica glass fibers by liquid phase deposition from aqueous solution of ammonium hexafluorotitanate at low temperature. TiO2 thin films and nanopowders were prepared by adding H3BO3 into （NH4）2TiF6 solution supersaturated with anatase nano-crystalline TiO2 at 40 ℃. The effects of the deposition conditions on the surface morphology, section morphology, thickness of the deposited TiO2 thin films were investigated. The results indicate that the growth rate and particle size of the thin films were controlled by both the deposition conditions and the amount of anatase nano-crystalline TiO2.     

锐钛型介孔纳米二氧化钛粉体的制备与表征

采用沉淀法,以水溶液为反应体系,无机物（硫酸氧钛和氢氧化钠）为主要原料,加入少量模板剂,制备出锐钛型介孔纳米二氧化钛粉体。通过正交实验分析优选出最佳工艺。采用比表面仪、原子力显微镜（AFM）、高分辨场发射透射电镜等仪器对产品的结构进行了表征,得到了具有较高热稳定性,比表面积为121 m2·g-1,晶粒尺寸为12 nm,介孔平均孔径为10 nm,粉体粒径＜100 nm等特征的锐钛型介孔纳米二氧化钛粉体。     

热处理工艺参数对TiO2成膜性的影响

采用溶胶-凝胶法和旋涂工艺,以钛酸丁酯、冰乙酸、乙酰丙酮、无水乙醇、去离子水为原料,制取TiO2薄膜,研究热处理工艺对TiO2成膜性的影响,结果表明,获得均匀连续的TiO2薄膜的工艺参数为:匀胶转速为3000r/min;镀膜时预处理温度为80℃、预处理时间为10 min;室温至200℃阶段的烧结升温速率为0.5℃/min,高温阶段为3℃/min;经500℃烧结热处理后得到锐钛矿结构,薄膜晶粒尺寸均在30～80 nm的范围之内。