用逐层法设计Rh-Si真空紫外高反膜

本文简要阐述了"逐层"设计方法,并将其用于真空紫外波段高反膜的设计。利用Matlab软件编程设计,计算了50 nm~200 nm波段范围内高反膜系及其反射率。并与同样以熔融石英为基底、不同膜材组合所达到的膜系反射率进行了对比,反射率增大明显。同时计算了实验中出现膜厚误差时对反射率造成的影响。     

真空紫外～X射线反射膜研究现状

真空紫外～X射线反射膜在分子、原子结构、宇宙物理、微纳米器件、生命科学等研究领域有着极其重要的应用。本文总结了迄今为止在A〈200nm内反射膜研究的进展情况，列出了常用单层金属反射膜最佳沉积条件、反射光谱以及各自的特点；对复合膜则根据所应用的波长范围，阐述了膜材选择、膜层设计及薄膜制作过程中所涉及的一些重要问题，分析了复合膜反射率增强的机理。并给出了相应波段所用的膜材、膜对结构及所能达到的最高反射率。     

反射及透射红色薄膜的膜系设计

分析了反射及透射红膜的应用.分别采用1/4波堆与西伦分析法进行了2种红膜的规整膜系设计,采用遗传算法进行了2种红膜的非规整膜系设计.利用MATLAB计算机语言,给出了设计结果及光谱特性曲线.     

高反膜的计算机模拟及对实践的指导意义

本文利用计算机对多层介质高反膜反射谱的模拟发现,当构成高反膜系的高、低两种折射率材料的光学厚度不一致时,反射带两侧的第一个谷值的大小将不同,据此作者认为在高反膜镀制时可根据反射带两侧第一个谷值大小情况来调节高反膜中单层膜厚度,实验结果证明了模拟结果的正确性,同时也确证了作者提出的这种方法是可行的。     

光学显示双膜系PC镜片的设计与制备

光学显示仪器前的镜片需要通过镀膜来对特定波段形成高反射。以聚碳酸酯(PC)镜片作为基底,采用真空镀膜技术,在PC镜片上镀高反射膜和增透膜,研究了增透膜对消除PC镜片表面二次反射的影响。研究结果表明,PC只有前表面镀反射膜的反射曲线在530 nm处波长的反射率达到85.05%,同时在PC镜片前面镀反射膜和PC镜片后面镀增透膜的反射曲线在530 nm处波长的反射率达到78.33%。PC镜片的反射率降低了6.72%。     

COIL用高反膜总积分散射的测量方案探讨

根据ＣＯＩＬ用反射镜和工作条件，提出了改进的Ｃｏｂｌｅｎｔｚ半球测量０°和４５°入射情况下ＴＩＳ散射的方案，与其它测量方法作了比较．     

光学显示PC镜片多层反射膜的设计与制备

光学显示仪器前的镜片需要通过镀膜来对特定波段形成高反射,国内绝大多数的光学显示镜片还是玻璃,本文以聚碳酸酯(PC)镜片作为基底,采用真空镀膜技术,在聚碳酸酯(PC)镜片上镀高反射膜,研究了不同膜系结构(层数不同)的反射膜对特定波段的反射效果。研究结果表明,采用了5层膜的设计,PC在可见光区的400nm波段到700nm波段的最高反射率从9.5%上升到85%。PC在特定波段的反射率得到了明显的提高。     

诱导透射滤光片的研制

本文介绍了诱导透射滤光片的设计原理,给出了膜系设计和实验结果,并对有关工艺进行了讨论。     

添加元素对TiMeXN多元膜XPS谱的影响

采用XPS方法研究了TiMeXN多元膜内各元素的化学状态,结果表明,添加元素改变了TiN中Ti元素特征峰的位置和形状.首先,使Ti、N峰强度增大,O峰强度减弱;其次,使Ti2p1/2峰、Ti2p3/2峰和N 1 s的双峰现象基本消失,氮化物薄膜中Ti的化学状态基本趋于一致;再次,随着微量元素总含量的增高,Ti2p峰的多重分裂值减小,直至使Ti2p1/2峰和Ti2p3/2峰部分重迭.在多元膜中,微量添加元素本身以"正离子"或"负离子"的形式存在,形成微量第二相.     

基于阳极氧化技术制备铝基超疏水表面的研究进展

阳极氧化技术是一种广泛使用的铝基表面改性技术,能提高铝材的耐磨性和耐腐蚀性,然而通过传统阳极氧化工艺制备的二维封闭孔结构难以获得超疏水性,如何开发新的阳极氧化工艺来制备铝基超疏水表面仍然面临挑战。最近新开发的阳极氧化工艺为应对这一挑战提供了解决策略。从如何构建铝基表面微纳结构的策略出发,重点综述了基于新的阳极氧化工艺制备铝基超疏水表面的"柱-孔"分级结构策略、"迷宫"结构策略及其它结构策略的研究进展,并在此基础上指出了目前存在的问题及今后需不断发展的方向。     

表面传导电子发射显示器件制备工艺研究

介绍了表面传导电子发射显示器件阴极基板和阳极基板的制备方法及其详细的真空封接工艺。所封接器件排气到高真空后,首先对其阴极基板进行了电形成工艺处理以形成纳米裂缝作为电子发射源,然后测试了器件的发光显示,得到了比较均匀的阵列发光。最后,针对发光显示图像从三个方面分别进行了分析,为整个器件性能的改进提供了很好的参考价值。     

组合薄膜制备技术在热电材料中的应用

"组合技术"是现代的新材料开发的手段。介绍了一些新的组合技术,如:"组合激光分子束外延技术"和"组合激光溅射制膜技术",并采用"组合激光溅射制膜技术",成功制备了高质量La1-xCexVO3(0≤x≤1)成分梯度薄膜。采用组合热电测量系统和组合XRD系统测量了La1-xCexVO3(0≤x≤1)成分梯度薄膜的热电性能和晶体结构。"组合激光溅射制膜技术"被证明是非常高效、精确的新材料薄膜研究方法,具有光明的前景。     

半固态浆料制备技术发展现状

半固态成形技术与传统成形技术相比,以其诸多的优点日益受到越来越多研究者的关注.在半固态成形技术的研究中,制备具有非枝晶组织的理想半固态浆料(坯料)是关键.将半固态浆料制备工艺分为两大类:液态金属半固态浆料制备和固态金属半固态坯料制备,并分别介绍了两类工艺中常用的几种工艺方法.电磁搅拌法和应变诱化激活法已有工业化应用;双螺旋搅拌法和半固态等温热处理法等比较有发展潜力;其他多种方法各有特点,可用于特定合金或者特定工作条件下的研究开发.     

采用层层组装技术制备TiO2中空纳米纤维膜催化剂

采用静电纺丝技术和层层组装技术制备了聚电解质/TiO2复合中空纳米纤维.以电纺聚苯乙烯纤维为模板,聚电解质交替吸附在纤维表面,再用有机溶剂溶掉PS纤维模板获得多层聚电解质中空纤维.纤维的平均直径和壁厚能通过模板和吸附层数很好的得到控制.在对比P25 TiO2和TiO2中空纤维对亚甲基蓝的光催化性能实验中,发现TiO2中空纤维具有更好的光催化性能.TiO2/聚电解质复合中空纳米纤维有望应用于光催化,可控药物释放等.     

MEMS型电容薄膜真空计的关键技术研究进展

近二十年以来, 仪器的小型化发展以及微机电系统 (MEMS) 技术工艺的发展带动了电容薄膜真空计的发展。其中, MEMS型电容薄膜真空计能将电路和敏感元件集成在同一芯片上, 具有体积小、能耗低的优点, 能广泛的运用在工业测量、深空探测等领域, 是真空计量仪器研究热点之一。然而, 体积小伴随着的测量范围窄、输出线性度不高、长久密封困难和残余气体影响问题都制约着真空计的商品化发展。针对上述的技术瓶颈, 研究者提出了不同的技术方案来克服。文中总结相关的研究报道后对问题的缘由以及相应解决措施进行了分类整理与分析, 对文献报道的MEMS型电容薄膜真空计进行了对比分析。最后, 对MEMS型电容薄膜真空计的发展前景提出了展望。     

长程有序纳米孔氧化铝模板的制备与研究

以硫酸和草酸溶液为电解液,采用二次阳极氧化法制备出高度长程有序的纳米孔氧化铝(AAO)模板,并结合扫描电子显微镜(SEM)对其微观结构及形貌进行了观察和表征.通过研究不同的氧化电压和电解液浓度对AAO模板纳米孔形貌(孔径、孔间距、面密度和长程有序性)的影响,得到了最佳的氧化电压和电解液浓度.