首页 | 官方网站   微博 | 高级检索  
相似文献
 共查询到20条相似文献,搜索用时 78 毫秒
1.
周斌和  董绵豫 《光学学报》1990,10(2):30-133
本文考虑到薄膜样品表面的多次反射,从理论上推导了光声信号的表达式.对α-Si:H薄膜和掺硫α-Si:H薄膜随入射光波长变化的吸收系数曲线进行了测定,并获得了光学带隙与掺硫浓度的关系.  相似文献   

2.
唐志列  林理忠 《光学学报》1993,13(6):57-563
用热弹性理论系统地分析了凝聚态物质的光声喇曼效应,分别导出了连续和脉冲激光泵浦下的光声喇曼信号表达式,并做了数值估算.  相似文献   

3.
张硕  袁萍  杨景发  陶亚明  苑静 《光谱实验室》2011,28(3):1475-1479
采用由射频磁控溅射方法在玻璃衬底制备的镁掺杂氧化锌(ZnO:Mg)薄膜材料,通过压电光声光谱法测量其在可见光波段的光吸收特性,并与透射光谱法测得的吸收率数据进行了比较,得到了一致性较好的结果。同时,从理论上推导分析了玻璃衬底上ZnO:Mg压电光声信号与光吸收率的关系及变化规律,并由实验证实:光声信号为玻璃基底与ZnO:Mg薄膜的共同贡献,光声信号的幅值与吸收率呈反相关,这一结论与理论分析得到的结果一致。  相似文献   

4.
邹文栋  司徒达  高益庆 《光子学报》2002,31(11):1373-1376
从相干喇曼放大过程出发,运用准平衡模型以及热弹理论,对固体样品中光声喇曼效应进行理论分析,导出了脉冲激光泵浦下的光声喇曼信号表达式,并做了数值估算.总结分析了固体介质中光声喇曼效应的一些特性.  相似文献   

5.
王子群  刘星元等 《光子学报》2000,29(Z1):396-398
本文以有机薄膜Perylene:PS为增益介质,在透明导电薄膜ITO衬底上,实现了在光泵浦条件下光增益放大。观察到的放大自发发射峰位于478nm,光谱半高全宽为7nm。  相似文献   

6.
7.
线性调频光声检测薄膜材料的热扩散率   总被引:1,自引:0,他引:1       下载免费PDF全文
在光声检测中,对激光强度作线性调频调制是一种兼有脉冲和单频调制优点的一种宽带调制技术.它比伪随机噪声编码调制具有更宽的频带,它的自相关函数也更接近于δ函数.在光声检测中,它已用来检测试样的脉冲响应或频率响应,并由此而确定材料的力学、热学特性.本文将简述该方法的基本原理及对薄膜材料热扩散率的测量结果.  相似文献   

8.
光声信号的声透镜层析成像研究   总被引:14,自引:5,他引:9  
徐险峰  唐志列  汪洁  陈更生 《光学学报》2003,23(9):105-1109
提出了一种用声透镜实现光声层析成像的新模式。从理论上计算出了声透镜的响应,测出了已知声场中标准物像面处的声场分布。考虑到圆形活塞振源的指向性,对代表物成像进行了理论修正,并与实验结果做了对比分析。研究表明,利用声透镜可以实现光声层析成像,并经图像重构得到了生物组织中异物的光声图像,横向、纵向分辨力较高。  相似文献   

9.
10.
11.
一种光纤光声SO2气体浓度传感器的研究   总被引:4,自引:0,他引:4  
论述了光声光谱信号的产生原理,研究了一种新型光声光纤SO2气体浓度传感器,建立了适合应用光纤作为传感器的数学模型。采用染料激光器作为激励光源,用光纤位移传感器代替传统的微音器,测量被气体吸收并转变为声压信号,从而对SO2气体浓度进行测量。给出了实验结果,分析了影响灵敏度的主要因素,提出了相应的改进措施。  相似文献   

12.
Cerium dioxide thin film optical waveguides were fabricated by an RF magnetron sputtering process. The films were deposited on glass substrates and on silicon dioxide layers grown on silicon substrates. Optical loss measurements for the fabricated waveguides are reported. It is seen that the volume losses in the films were fairly high compared with the surface losses.  相似文献   

13.
张巍  陈昱  付晶  陈飞飞  沈祥  戴世勋  林常规  徐铁峰 《物理学报》2012,61(5):56801-056801
介绍了几种常见的硫系薄膜制备方法, 根据现有实验条件采用热蒸发法和磁控溅射法制备出Ge-Sb-Se三元体系硫系薄膜, 通过台阶仪测试薄膜的厚度和表面粗糙度, 计算出两种制备方法的成膜速率, 并通过X射线光电子能谱测试了两种制备方法所得薄膜与块体靶材组分的差别. 利用Z扫描技术和分光光度计测试了热蒸发法制备所得薄膜的三阶非线性性能和透过光谱, 计算出非线性折射率、非线性吸收系数和薄膜厚度等参数. 结果表明热蒸发法制备Ge-Sb-Se薄膜具有良好的物理结构和光学特性, 在集成光学器件方面很高的应用潜力.  相似文献   

14.
射频磁控溅射法制备高质量ZnO薄膜的激光特性研究   总被引:1,自引:0,他引:1       下载免费PDF全文
用射频磁控溅射方法在SiO2衬底上制备ZnO薄膜。在室温下观测到了A、B激子吸收以及在19K下发现的A、B、C激子的反射表明所制备的ZnO薄膜具有很好的纤锌矿结构。我们获得了来自于电子空穴等离子体的受激发射。进一步研究我们发现由大量窄峰所组成的激光发射,窄峰的间距都为0.5nm左右。根据理论计算,产生激光发射的自成腔的长度为31.5 μm。我们认为ZnO薄膜中产生激光发射的自成腔的形成与其六角型结构有重要关系。  相似文献   

15.
王豪  干福熹 《光学学报》1989,9(6):62-567
采用高频溅射方法制成Te-In-Sb系统的非晶态薄膜.系统的研究了不同组分薄膜的透射、反射谱,及其在结晶过程中的变化.用透射电镜研究了Te-In-Sb薄膜的结构和晶化过程.分析了组分对薄膜的吸收系数、介电常数、光学能隙等光学性质的影响.并由此综合评价了Te-In—Sb系统中比较适合作为光盘介质的组成.  相似文献   

16.
The opto-electronic properties of molecular-beam-epitaxy (MBE)-grown ZnSSe thin films on indium-tin-oxide (ITO) glass substrates were investigated in this work. Ultraviolet (UV) photoresponsivity as high as 0.01 A/W and three orders of visible rejection power were demonstrated. The results of d.c. resistivity measurements revealed that the resistivity of the ZnSSe thin films decreased as the crystal size increases and reaches a value of 4.3 × 1011 Ω cm for a thin film grown at the optimized substrate temperature of 290°C. The results of a.c. impedance measurements performed in the frequency range of 40 to 4000 Hz further indicated that the impedance of this alloy thin film can provide a good match with the liquid crystal layer of a liquid crystal light valve for UV imaging applications.  相似文献   

17.
针对光度测量数据中难以消除的系统误差对薄膜光学参数表征精度的负面影响,提出一种新型的误差处理技术。选取薄膜光谱系数对折射率和几何厚度的一阶偏导数,对大部分测量入射角满足符号相反或只有其中一个为零的条件的波段,剔除偏导数对全部测量入射角满足符号相同或同时为零条件的奇点波长附近波段,作为反演表征用的光度测量数据采集区域,以最小化光度测量系统误差引起的薄膜光学参数反演表征值相对真实值的偏差大小。通过数值模拟实验,对比研究了该技术对不同偏振光和不同测量入射角范围的适用性及实施技巧,以可复现的数值实验数据和合理的理论解释支持和验证了这种误差处理技术的可靠性。  相似文献   

18.
用普通光学镀膜机蒸镀的光学膜,如果暴露在大气中一经受潮,镀膜材料的折射率发生变化,其结果会令光学薄膜的中心波长产生漂移,因而影响薄膜的光学特性。如蒸镀软膜,受潮后漂移则更为严重。另外软膜表面强度差,易擦伤和脱膜。封闭漆既能有效防潮,又能改善光学薄膜表面强度,而且不影响光学薄膜的光学特性。  相似文献   

19.
椭偏透射法测量氢化非晶硅薄膜厚度和光学参数   总被引:1,自引:0,他引:1       下载免费PDF全文
针对多角度椭偏测量透明基片上薄膜厚度和光学参数时基片背面非相干反射光的影响问题,报道了利用椭偏透射谱测量等离子增强化学气相沉积法(PECVD)制备的a-Si:H薄膜厚度和光学参数的方法,分析了基片温度Ts和辉光放电前气体温度Tg的影响.研究表明,用椭偏透射法测量的a-Si:H薄膜厚度值与扫描电镜(SEM)测得的值相当,推导得到的光学参数与其他研究者得到的结果一致.该方法可用于生长在透明基片上的其他非晶或多晶薄膜. 关键词: 椭偏测量 透射法 光学参数 氢化非晶硅薄膜  相似文献   

20.
ZnO thin films were deposited on glass, ITO (In2O3; Sn) and on ZnO:Al coated glass by spray pyrolysis. The substrates were heated at 350 °C. Structural characterization by X-ray diffraction (XRD) measurements shows that films crystallize in hexagonal structure with a preferential orientation along (0 0 2) direction. XRD peak-shift analysis revealed that films deposited on glass substrate (−0.173) were compressive, however, films deposited onto ITO (0.691) and on ZnO:Al (0.345) were tensile. Scanning electron microscopies (SEM) show that the morphologies of surface are porous in the form of nanopillars. The transmittance spectra indicated that the films of ZnO/ITO/glass and ZnO/ZnO:Al/glass exhibit a transmittance around 80% in the visible region. An empirical relationship modeled by theoretical numerical models has been presented for estimating refractive indices (n) relative to energy gap. All models indicate that the refractive index deceases with increasing energy band gap (Eg).  相似文献   

设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司    京ICP备09084417号-23

京公网安备 11010802026262号