纳米碳纤维化学镀镍-铁-钴-磷合金镀层

在铁片试样上研究了化学镀Ni-Fe-Co-P合金镀层的工艺,利用此工艺在经过敏化、活化处理后的纳米碳纤维表面沉积出Ni-Fe-Co-P合金镀层。采用能量色散X射线谱(EDS)分析得出镀层成分,利用扫描电子显微镜(SEM)观察镀层形貌。结果表明,镀层的沉积速率随镀液中氯化镍质量浓度的增加而增加,随硫酸钴质量浓度的增加而降低;通过控制镀液中c(Co2 )/c(Ni2 )的比值,可控制沉积速率及镀层中镍、钴元素的相对含量;镀后的纳米碳纤维分散性好,获得了连续、均匀的Ni-Fe-Co-P合金镀层。     

纳米颗粒对复合电刷镀过程中镀液特性及镀层沉积速度的影响

本文研究了特快镍刷镀液(TK-Ni)及两种不同纳米颗粒含量的纳米Al2O3／特快镍复合刷镀液(10n／TK-Ni和30n／TK-Ni，其中前者纳米颗粒含量较少)在刷镀过程中的温度和密度变化及复合镀层厚度的变化，解释了纳米颗粒的加入对镀液温度和密度的影响及对镀层沉积速率的影响。试验结果表明：刷镀过程中含纳米颗粒的复合镀液的温度和密度均较高，且二者均随纳米颗粒含量的增大而升高；随刷镀过程的进行，镀液温度升高，密度减小，复合镀液密度在刷镀时间达30min后出现回升现象；复合镀层沉积速度较快，且镀层沉积速度随镀液中纳米颗粒含量增加而增大。     

LaCl_3对化学沉积Ni-Cu-P合金镀层性能的影响

为提高钢材耐蚀性,采用中温酸性化学沉积的方法,在镀液中添加LaCl_3制备Ni-Cu-P合金镀层,并利用维氏硬度计、扫描电子显微镜、能谱及微取向系统、X-射线衍射仪及Autolab电化学工作站分别对镀层的硬度、微观形貌、成分、结构及耐蚀性检测。结果表明:1)镀层硬度随LaCl_3质量浓度增加先增加后减小;2)随镀液中LaCl_3含量的增加,Ni-Cu-P合金镀层结构由非晶态转变为晶态,在LaCl_3质量浓度为0.10 g/L时,所得镀层的晶胞尺寸较小;3)镀液中LaCl_3质量浓度为0.05~0.15 g/L范围内增加时,测得镀层的腐蚀电流密度有先降低后升高的趋势。     

镁合金化学复合镀Ni-P/纳米SiC工艺的研究

在AZ 91D镁合金表面制备Ni-P/纳米SiC化学复合镀层.探讨镀液中纳米SiC微粒的质量浓度对镀速、复合镀层性能等的影响.利用扫描电镜观察镀层表面形貌,采用能谱分析仪进行镀层表面成分的定性分析,采用显微硬度计测试镀层硬度,并对不同工艺下获得的镀层进行快速磨损实验.结果表明:镀液中添加适量的纳米SiC微粒,镀速和镀层硬度都有显著的提高.当镀液中纳米SiC的质量浓度为9 g/L时,镀速可达到25.6 μm/h;当镀液中纳米SiC的质量浓度为7 g/L时,镀层的维氏硬度可达到9 380 MPa;同时镀层的耐磨性能相比于Ni-P合金镀层的也有显著提高.     

温度对化学镀Co-W-P合金镀层性能的影响

研究了温度对化学镀Co-W-P合金镀层的厚度、成分、表面形貌、耐蚀性和磁性能的影响。结果表明:适当升高温度有利于提高镀速和增加合金镀层的厚度,但当温度高于90℃时,镀液容易发生分解。随着温度的升高,合金镀层中钴的质量分数逐渐增大,而钨和磷的质量分数迅速降低,使得镀层的耐蚀性降低。Co-W-P合金镀层呈现出典型的颗粒结构,表面均匀、致密。高温下合金镀层表面粗糙度增大,使得矫顽力明显下降。     

Co-B纳米合金功能膜化学沉积和电沉积的比较

以硫酸钴、硼氢化钠为主要原料,对电沉积和化学沉积Co-B纳米合金功能膜进行比较,发现尽管电沉积较化学沉积的速度快,但各影响因素和变化规律是一致的。pH值增大和温度的升高会加快沉积速率,络合剂浓度增大则会降低沉积速率,增加硫酸钴、硼氢化钠的浓度都会加快沉积速率,但用化学法沉积时,当硫酸钴、硼氢化钠的浓度超过最大值时,沉积速率反而下降。XRD结果表明,两种方法制备的Co-B纳米合金在镀态下都是非晶态,其结构并不受沉积方法的影响,SEM、STM和AFM观察发现,非晶膜镀层是由纳米相微粒构成微米级的二次颗粒,二次颗粒堆砌形成薄膜。化学沉积得到的颗粒相对电沉积得到的要小一些,两种方法得到的最大颗粒都不超过3 μm。     

装载比对化学镀镍-磷合金的影响

以镀速、镀层中磷的质量分数和稳定常数为评价指标,在保持镀液组成和工艺条件不变的情况下,考察装载比对化学镀镍工艺的影响。结果表明:镀速随装载比的增加而降低;镀层中磷的质量分数随装载比的增加而增大;稳定常数在80%～94%之间波动;当装载比为1.5dm2/L时,镀液得到充分利用。     

电沉积Ni—Ce—S非晶态合金

研究了镀液组成和工艺条件对Ｎｉ—Ｃｅ—Ｓ非晶态合金沉积层的影响，结果表明，镀层中的Ｓ含量随电流密度、镀液的ｐＨ值和硫代硫酸钠浓度的变化而变化，但与镀液中的氯化钾浓度无关；Ｘ射线衍射图说明，当镀层中的Ｓ含量超过３０％时，镀层为非晶态结构；扫描电子显微镜表明，当镀层中Ｓ含量增加时，镀层的微裂纹减少且变细，当镀层中Ｃｅ含量增加时，晶粒会细化。     

电沉积制备Zn-Ni合金及其耐蚀性的研究

研究了镀液组分对Zn-Ni合金的电沉积过程、成分、耐蚀性和表面形貌的影响。研究表明:电沉积Zn-Ni合金属于一种典型的异常共沉积现象。镀液中的Zn2+会阻碍Ni 2+的放电过程,使得合金中Ni的质量分数降低。通过增加镀液中Ni 2+的浓度,可以有效增大Zn-Ni合金中Ni的质量分数。含Ni 17%的Zn-Ni合金具有最佳的耐蚀性。合金中Ni的质量分数的增大,有利于细化颗粒,降低表面粗糙度。     

Zn-Ni合金镀层中Ni含量影响因素及镀层耐蚀性

研究了碱性Zn-Ni合金电镀工艺,采用扫描电镜、极化曲线、交流阻抗及浸泡试验测定了镀液温度、电流密度及镀液组成等因素对镀层表面形貌、镀层中Ni含量及耐蚀性能的影响.结果表明:温度和电流密度对镀层中Ni含量的影响不大;镀层中Ni含量随着镀液中Ni2+与Zn2+质量浓度比的升高而增大.随着镀层中Ni质量分数的增加,镀层颗粒越来越细致、均匀;在5%NaCl溶液中的电化学腐蚀行为表明:Ni的质量分数为13%的合金镀层具有最佳的耐蚀性.     

化学镀Co-B-Y合金的电化学特性和组织结构的研究

测定和研究了引入稀土金属Y时化学镀Co-B合金镀液的阴极极化曲线、沉积速度、Co-B合金镀层的化学成分和晶体结构。结果表明稀土金属Y的介入明显地改善了化学镀Co-B合金的静止电位和极化度,随镀液里稀土金属Y添加量的增加,合金的沉积速度和镀层中Y的含量都是先增后降,且都在Y=4．0g／L时达到最大值。稀土Y的介入使化学镀Co-B-Y合金镀层中B的含量减少,Co含量增加,并使具有非晶态结构的化学镀Co-B合金转化为晶态结构的化学镀Co-B-Y合金。     

碳纳米管上化学镀镍钴磷合金及其表征

以化学镀的方法在单壁碳纳米管表面沉积了镍钴磷合金,讨论了Co2 与Ni2 的浓度比、镀液温度、pH对沉积速率的影响.当镀液中Co2 与Ni2 的浓度比为1时,沉积速率最大.pH和温度的升高都会使沉积速率增大.采用场发射扫描电镜(FE-SEM)、透射电镜(TEM)、X射线衍射(XRD)和能谱(EDS)对制备的碳纳米管复合材料进行表征.结果表明:热处理会使碳管上的非晶镍钴磷合金镀层转变为晶态,从而提高镀层性能.     

单晶硅上电沉积Ni-W-P合金薄膜

在单晶硅上电沉积制备出了具有不同组成和结构的Ｎｉ－Ｗ－Ｐ合金薄膜；研究了镀液组成、温度、ｐＨ值和电流密度等因素对镀层组成的影响；用Ｘ射线衍射法分析了薄膜的结构结果表明，提高温度有利于钨的沉积，降低ｐＨ值有利于高磷薄膜的形成；随着合金中钨、磷含量的增加，晶粒尺寸逐渐减小，薄膜由晶态变为非晶态结构     

Electrodeposition and characterization of amorphous Cr-P alloys

The influence of plating variables and bath composition on electrodeposition of chromium-phosphorous alloy composition was investigated. The plating bath, prepared at a pH of approximately 1.25, consisted of a trivalent chromium source, sodium hypophosphite, ammonium sulphate, boric and formic acids, and sodium lauryl sulphate. Energy dispersive spectroscopy and Auger electron spectroscopy were utilized to evaluate alloy composition. These alloys were determined to be amorphous by X-ray diffraction. The influence of temperature, and bath ageing, and deposition time on deposit composition and structure and the deposition rate were also investigated.     

化学沉积Fe-W-P合金的工艺研究

通过偶接金属铝,采用化学沉积方法制备Fe—W-P三元合金镀层,研究了镀液的组成对Fe—W-P合金化学沉积行为的影响。结果表明：在一定范围内增大镀液中NaOH和还原剂NaH2PO2。H2O的浓度,沉积速率增大,而随着钨酸钠的加入镀层的沉积速率稍有下降,表明钨酸钠对Fe-W-P的化学沉积有一定的抑制作用。     

化学镀钴-镍-磷合金镀层沉积速度的探讨

化学镀钴－镍－磷合金镀层具有良好的磁学性能,正日益受到人们的青睐。由于沉积速度往往对镀层性能产生很大影响,在此重点了影响化学镀钴－镍－磷合金镀层沉积速度的各因素。结果表明,提高镀液中金属离子总浓度及镍盐所占的比例,在ＰＨ为８￣１０范围内加入适量的稳定剂及采用活性强的基材有利于化学镀钴－镍－磷合金镀层沉积速度的提高。     

化学镀Co-B合金（I）

利用化学镀的方法，以硫酸钴为主盐，二甲基胺硼烷为还原剂，制备纳米晶Co-B合金，研究了在各种条件下沉积速率的变化。结果表明合适的工艺参数的选择，可得到较好的沉积速率，并可由此得到一个化学镀Co-B合金纳米晶的较优配方参数。     

化学镀Ni-W-B非晶质电阻膜的研究

研究了化学懂Ni-W－B合金的工艺及性能．结果表明，在Ni-B槽液中加入一定量的钨酸钠溶液，不仅能得到含钨、硼的镀层，而且还能提高镀液的沉积速度；Ni-W-B合金层在镀态时为非晶态结构，它的电阻率随钨含量的增加而增大，随镀层厚度的增加而降低．