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从目前第三代半导体材料及器件的研究来看,较为成熟的第三代半导体材料是 SiC和 GaN,而 ZnO、金刚石、氮化铝等第三代半导体材料的研究尚属起步阶段.
换言之,碳化硅(SiC)和氮化镓(GaN)是目前最为成熟的,商业化程度最高的第三代半导体材料,资本市场就是如此,有的时候很浪漫,比如酒的故事可以说上200 年,有的时... 相似文献
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磷化铟具有高电子传输速度、低接触电阻和大异质结偏移等优势,被作为下一代高频高功率电子器件的新型半导体材料.随着电子设备的小型化和高功率运行需求渐涨,这些高功率密度设备的散热问题成了集成电路行业发展的绊脚石.金刚石具有固体材料中最高的热导率 (2200 W/m/K),以金刚石作为散热衬底与器件直接键合是减小热阻的理想选择... 相似文献
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碳化硅(SiC)作为第三代半导体材料,具有相比于第一、二代半导体更优异的特性,在微电子、光电子等领域有着重要的应用价值。制备得到高质量、大尺寸的SiC单晶是实现其产业应用的前提。PVT法生长SiC单晶是现今的主流生长方法。总结了PVT法生长SiC单晶的四个主要影响因素的研究进展,拟在寻找未来的研究和发展方向。 相似文献
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《超硬材料工程》2020,(4)
功能金刚石泛指金刚石的电学、光学、热学、声学等非超硬耐磨性能,这些优异性能,至今尚未得到有效挖掘。文章总结了金刚石在珠宝首饰、金刚石半导体、电子封装热沉材料、BDD电极材料、光学窗口材料、医学应用等方面的研发以及产业化现状,分析了存在的问题,认为功能金刚石的产业化进程在不同的应用领域发展不太平衡,总体上处于起步阶段。功能金刚石研发和产业化水平总体上国外全面领先,国内全方位跟进,近几年国内进步较大,特别在HTHP培育钻石、直流电弧等离子体喷射法设备以及中低端多晶膜的产业化方面具有明显的竞争优势。在CVD培育金刚石的工程化、铜-金刚石产业化、半导体金刚石的研发和工程化以及纳米金刚石在医药应用研发方面有明显进展,在纳米金刚石钢的研发和工程化方面极具创新特色,在纳米金刚石润滑油方面填补世界空白。 相似文献
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《超硬材料工程》2015,(2)
罗列了第三代半导体材料宽禁带氧化锌材料的发展历史与应用前景,总结了ZnO的结构性能、应用方向和制备方法,介绍了宽禁带氧化锌半导体晶体相对于氮化镓材料具有的显著优势:即具有更大的激子结合能(60meV),更低的激射阀值,有望实现室温下高效低阈值的紫外激光。氧化锌相比已获得巨大成功的氮化镓来说其原材料成本极低,环境友好,合成技术门槛低。目前氧化锌半导体材料的研究难点和热点还集中在p型掺杂材料和器件的研发方面。氧化锌优良的物理特性使其成为新一代主流宽带隙半导体材料,生长大尺寸高结晶质量的ZnO单晶对基础研究还是实际应用都有重要意义,文章还着重介绍了水热法合成氧化锌宽禁带半导体单晶的方法和技术优势,展示了我单位在水热法氧化锌单晶合成方面的最新研究进展。 相似文献
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随着世界主要国家航天工程从近地轨道向深空环境推进,航天器要实现在极端环境下可靠工作面临许多新问题。从太空辐照环境恶化到可持续能源问题掣肘,从高集成、高热流器件散热困难到航天器健康监测传感器向高灵敏方向发展,上述问题都亟需发展新一代航天器技术。金刚石独特的晶体结构使其具有“硬、高、透、宽、快” 5大特性,决定了其在极端环境下表现出耐高温、耐高压、抗辐照等性能。本文主要总结了金刚石在深空探测、便携电源、智能热控、量子传感和光学窗口等航天领域的应用现状,并展望了发展前景。 相似文献
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简要介绍了新型电子气体三氟化氯(ClF3)的发展历史及其物化性能,主要介绍了ClF3的制备方法及其在电子工业中的应用,指出ClF3作为一种新型含氟电子气体,可用于化学气相沉积反应室原位清洗,以替代传统上使用的全氟烃及在某些场合下替代NF3;ClF3的高化学活性提高了其对半导体材料的蚀刻速率,在第三代半导体材料(如Si)... 相似文献
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前言随着电子设备的高速、高性能及小型轻量化。半导体元件的散热成了一个重要的问题。因此常采用高热导率的半导体基板材料或强制冷却的方式作为散热的措施。在本文中,对在传统的高热导率陶瓷 相似文献
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CVD金刚石应用前景探讨 总被引:2,自引:0,他引:2
阐述CVD金刚石发展及其在工业金刚石中的重要地位.聚晶质和单晶质CVD金刚石在切削工具、散热元件、耐磨零件、高强度复合线材以及检测器等方面已取得成功的应用,但有些问题仍待解决.对单晶质CVD金刚石的突出性能及其在高科技应用的可能性与发展远景作了评述. 相似文献